涂胶显影机，半导体的单项冠军选手

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沈阳芯源微电子设备股份有限公司创立于 2002 年，由中科院沈阳自动化研究所引入国外先进技术并投资设立，总部坐落于辽宁沈阳。公司核心产品是光刻工序涂胶显影设备、单片式湿法设备，已构建起前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块，广泛应用于前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等诸多领域。

全球涂胶显影设备市场东京电子长期维持约 90% 的占有率水平，在 EUV 光刻 Track 领域，其市占率更是高达 100%。在国内市场芯源微作为本土唯一具备量产涂胶显影设备能力的厂商，涂胶显影设备市场的占有率约为 4%。

芯源微已成功研制并推出 offline、i - line、krf 及 arf 浸没式等多种型号的涂胶显影设备，实现了对国内 28nm 及以上所有光刻节点的全覆盖，并依托承担国家 02 重大专项，掌握了涂胶显影设备、单片式湿法设备等产品的多项核心技术，进而构建起完备且自主的知识产权体系。

公司2019年至2024年前三季度期间，公司研发投入资金在总营业收入中的占比始终维持在 11% 以上，其中 2024 年前三季度该占比高达 17.37%，显著高于东京电子约 10% 的研发投入率。

2024年3月，公司正式对外发布前道化学清洗机、全自动 SiC 划裂片一体机两款全新设备。

2024年12月，芯源微成功取得一项名为 “穿墙式光学检测单元和涂胶显影设备” 的专利成果，该专利技术可有效提升晶圆光学检测工艺的产能水平。

2024年上半年，公司新签订单金额达12.19亿元，同比增长约30%。其中，前道涂胶显影新签订单呈现良好增长态势，后道先进封装及小尺寸新签订单同比增长幅度较大，应用于Chiplet领域的新产品临时键合、解键合等新签订单同比增长逾十倍，前道单片式高温硫酸化学清洗设备亦成功获取国内重要客户订单。截至2024年6月底，公司在手订单总额突破26亿元。

国产替代背景下具备关注价值。

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