设备结构与集成
- 量子点设备:使用硅量子点作为自旋量子比特的平台,具有与大规模集成兼容的潜力。量子点形成于未掺杂的硅通道中,当栅极电压接近阈值电压时,量子点会形成。
- 集成电子:将1,024个独立的硅量子点设备与片上数字和模拟电子设备集成在一起,所有设备在低于1 K的温度下运行。使用高频模拟多路复用器(MUX)实现对所有设备的快速访问,减少了电气连接数量。
测量方法
- 射频反射测量(rf reflectometry):
- 原理:通过测量设备阻抗的变化来检测量子点电荷跃迁。设备的高阻抗通过匹配网络与50 Ω线路匹配,以便监测反射电压随设备阻抗的变化。
- 信号处理:使用射频反射测量技术,通过测量反射信号的变化来获取量子点的特征数据。该技术具有高信噪比和宽带宽,能够在短时间内获取大量数据。
- 数据采集:在测量过程中,对栅极电压施加三角波形,信号采集发生在波形上升沿。每个量子点的特征数据在不到10分钟内获取和分析。
- 直流输运测量(dc transport measurement):
- 原理:通过测量电子通过量子点的隧穿电流来获取量子点的特征数据。使用跨阻放大器将电流转换为电压进行记录。
- 数据采集:在测量过程中,对栅极电压施加三角波形,信号采集发生在波形上升沿。每个量子点的特征数据需要大约15秒或30秒来获取。
数据处理与分析
- 自动化机器学习:
- 参数提取:通过自动化机器学习程序提取关键的量子点参数,如首次观测到的电子加载电压、栅极杠杆臂和源-漏杠杆臂差异等。
- 设备分类:使用卷积神经网络(CNN)对设备进行分类,分为“良好”、“不良”和“多点”三类,以便更好地理解和分析设备的性能。
- 统计分析:
- 参数分布:分析不同设备尺寸和操作条件下的参数分布,以评估量子点的产量和设备设计的影响。
- 相关性分析:研究量子点参数与室温晶体管行为之间的相关性,以作为在线工艺监测的代理.
实验装置
- 低温环境:所有测量在10 mK的混合腔板上进行,使用Bluefors XLD稀释制冷机。
- 信号放大与处理:使用低温放大器和室温放大器对信号进行放大和处理,然后通过模数转换器进行数字化处理。
- 控制与电源:使用QDevil QDAC II提供直流电压,使用Keysight 33500B任意波形发生器提供栅极电压扫描信号,使用Rohde & Schwarz SMB100B生成射频参考信号.