今日生效！荷兰宣布光刻机出口新政策

21ic电子网 · 公众号 · 半导体 · 2024-09-07 13:39

正文

荷兰政府昨日宣布了关于浸没式 DUV 半导体设备出口的最新许可要求。

根据更新后的许可要求，并根据美国出口管理条例 734.4.(a).(3)，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCAN NXT:1970i和1980i DUV浸没式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCAN NXT:2000i及后续DUV浸没式系统。ASML的EUV系统的销售也需遵守许可要求。最新许可要求于2024年9月7日起生效。

简而言之，较先进的光刻机等设备，如果要出口到欧盟以外地区，必须获得荷兰的特别批准，而不是向美国政府申请出口许可证。

荷兰政府从去年开始，已经限制了ASML向中国出口更先进的设备。新措施将影响TWINSCAN NXT:1970i和1980i深紫外浸润式光刻系统的出口，这些产品也受到美国政府的限制。

去年美国单方面发布临时限令，限制阿斯麦对华出口部分光刻机。虽然荷兰多方犹豫争取，但还是最终妥协了，将对华的某些光刻机的出口管制调整到和美国一致。

ASML发言人Monique Mools表示，“由于新的要求，ASML将需要向荷兰政府申请出口许可证，而不是向美国政府申请光刻机TWINSCAN NXT:1970i和1980i的出口许可证。预计新规不会对我们2024年的财务前景产生任何影响，也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。”