图1. 高稳定Ni4配位分子簇的晶体结构及其电催化诱导下的Ni4→Ni4-1min→Ni4-20h的结构转变及原位渐次配位取代反应。
图2. Ni4分子配位簇的分子堆积及孔性演变,(a) Ni4呈闭合孔隙,(b) Ni4-1min呈一维不规则孔道,(c) Ni4-20h二维贯穿孔网络。
图3. Ni4配位分子簇的电催化性质:(a) Ni4在1.0MKOH+0.33M尿素溶液中的UOR曲线和在1.0MKOH中的OER曲线。Ni4、RuO2、Ni(OH)2和碳纸催化UOR反应的(b)LSV曲线对比,(c)Tafel斜率对比及(d)Nyquist散点图。(e)基于第1和1000次循环曲线对比的耐久性测试。(f) Ni4的ECSA图谱。
图4. Ni4在1.0MKOH+0.33M尿素混合溶液中的计时电位散点图,证明电催化初始阶段45 分钟内电位持续下降,并可实现24小时电位稳定。
图5. 原合成Ni4,1MKOH中浸泡7天后Ni4,电化学刺激下Ni4-1min和Ni4-20h系列样品的ESI-MS对比谱图。
图6 (a)Ni4电催化反应前后的PDF对比谱图及(b)[Ni4O4]立方烷簇核内原子对距离。(c)基于DFT计算的UOR反应过程中自由能演变能级图。