专栏名称: 林毅没有V
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炒作的光刻机与产业爆发前的汽车电子

林毅没有V  · 公众号  ·  · 2024-09-18 15:50

正文

关于光刻机;

光刻机作为国之重器,自带流量。本来是想好了假期发酵,让家人们靠着情怀周三冲一波,结果有人不讲武德,直接写文章把所谓的重大突破扒了个明明白白。就相当于带货的老师告诉你我们做出来美心月饼了,属于香港高端月饼,赶紧买,123上链接。


有人说:你这是混淆概念啊,分明就是美诚月饼。带货老师:你tm劈我瓜是吧。


为了防止上当受骗,我来讲讲,我收集到的信息,关于这次光刻机发酵事件。


其实主要发酵的是这张图:



直接把张江高科干上东方财富人气榜第一了,大家关注的原因是工信部公示了,且官媒如人民网等都报道了,加上荷兰对我们光刻机加强管控的背景下迅速发酵;


但实际情况如何?真的一举突破了?是进步但也还得客观看待。


首先说明:套刻精度小于等于8nm并不是意味着它就是8nm光刻机,套刻精度跟分辨率无关;这里存在的一个误区是:套刻小于8nm,不是指生产8nm芯片,这指的套刻芯片里面的电路图的精度误差是8nm,而不是生产8nm的芯片。


大概意思是雕刻(生产)芯片的时候芯片同层次的图形相互叠加时这个机器可以做到位置的误差是8nm,这是一个套刻精度的误差值。


那么这次的光刻机到底属于什么水平呢?


先知道一下:光刻机按照精度由粗到精分类排序依次为g-line、I-line、KrF、ArF Dry、ArFi、EUV;


ASML的1460K光刻机的套刻精度在5nm,另一款干型光刻机1470分辨率在57nm,所以这次的这个参数在第四代光刻机中属于较为先进的一种,但与全球顶尖技术相比还存在差距;


第五代是采用液体传导介质,比如ASML的DUV2100i浸没式光刻机和1980i分辨率都是38nm,第六代就是EUV;


这么看下来,国内这次的光刻机属于四代里面还行但也算不上太强的,而和五代六代之间都还是存在着一些差距的,尤其是和EUV存在较大的差距,这是要认清的现实;


光刻机的关注度提升,我觉得还是和1970/1980这两款浸没式光刻机实施了严格的出口审批有关,EUV此前已经禁止,去年对2000i和更新的限制等等都使得国内光刻机领域面临严峻挑战,国产替代和自主可控势在必行,所以像某企业也被吹上东财热度第一名了,虽然A股有时候炒作的不合逻辑或不按常理出牌,但事实的情况咱们也要知道,因为如果想要炒长,那么一个相对不那么容易被证伪的逻辑还是很重要的,但这次这事,相对属于热度很高但也比较容易证伪的这么一个东西,所以如果一下子炒高了,还是需要注意较快兑现的风险;







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