首届国际先进光刻技术研讨会邀请函

导语：

集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性的产业。近年来，国家投入巨资发展集成电路产业，作为集成电路产业核心的制造业也得到了蓬勃的发展，当前和今后一段时期是我国集成电路产业发展的重要战略机遇期和攻坚期。基于这样的形势，国家集成电路产业技术创新战略联盟决定在北京组织、主办首届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions），本次研讨会由中国科学院微电子研究所承办。

会议详情：

举办时间：2017年10月12日至13日（两天）

举办地点：北京国际会议中心

详细地址：北京市朝阳区北辰东路8号

主办单位：集成电路产业记住创新战略联盟

承办单位：中科院微电子研究所

官方网址： www .iwaps.org/cn （可点击文章下方阅读原文跳转）

官方微信： 光刻人的世界

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媒体支持 ：

拟邀请报告：

作为在中国大陆举办的首个此类研讨会，本次研讨会和其它国际光刻会议（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，会议以当前业界最先进的主流技术为主，其目的是研讨未来五年光刻技术所面临的问题，归纳、总结出业界可行的技术方案，为来自国内外光刻领域的优秀研究人员和工程师搭建一个深入讨论的技术交流平台，参会者能够就设计规则、极紫外光刻、掩模、光刻技术方案、计算光刻等分享、探讨各自的研究成果。作为中国国内的首个高端光刻技术研讨会，本次研讨会的受邀发言者均为来自光刻及其相关领域的国内、外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。而数量众多的业内领先的国内、外知名参会企业也让报告更加丰富，也更贴近产业。

本次国际先进光刻技术研讨会为期两天，预计将有15-20个报告，在最终确认之前会不断更新调整。随着日期的不断临近，会议邀请报告陆续确认，目前可确认的报告如下：