专栏名称: 清华产业

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华海清科Cu &Si CMP设备进入上海华力

清华产业 · 公众号 · · 2018-01-22 16:43

正文

2018年1月18日，继在中芯国际顺利完成IMD/ILD/STI工艺产品大批量生产之后，清华控股成员企业华海清科的Cu &Si CMP设备进入上海华力。这是国产CMP机台第一次进入上海华力，也标志着国产首台12英寸铜制程工艺CMP设备正式进入集成电路大生产线。

化学机械抛光（CMP）是超大规模集成电路制造的五大关键技术之一，但该技术在国内长期处于空白。自2000年起，清华大学机械系雒建斌院士、“长江学者”路新春教授带领研究团队从事抛光技术研究，在抛光技术与抛光装备研究领域上均取得了突出的成绩，并研发出具有自主知识产权的12英寸CMP装备。2013年3月，清华控股联合天津市投资设立华海清科，推动该项科技成果的产业化进程。

作为中国集成电路制造设备企业的典型代表，华海清科不断挑战技术的新高度，努力完善自身的产品线，从Si抛光到Oxide，到STI，到现在的Cu CMP，不断迈上新的台阶。在集成电路产业快速发展的大好形势下，华海清科将抢抓机遇、再接再厉、再创佳绩，为中国极大规模集成电路制造做出积极贡献。

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