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什么是光刻胶
光刻胶是一种
特殊的聚合物材料
，通常用于
微电子制造中的光刻工艺
。在光刻工艺中，
光刻胶被涂覆在硅片表面，然后通过照射光线来形成图案。这些图案可以用于制造微处理器、光电子学器件、微型传感器、生物芯片等微型器件
。
光刻胶的基本成分是聚合物树脂、溶剂和光致发生剂。聚合物树脂是光刻胶的主要成分，它是由单体聚合而成的高分子化合物，具有较好的机械性能和耐化学性能。溶剂则用于调节光刻胶的黏度和流动性，以便于涂覆和旋涂。光致发生剂则是光刻胶中的关键成分，它可以吸收紫外线或蓝色光线，从而引发聚合物树脂的交联反应，形成图案。
光刻胶的种类很多，常用的有正、负、混合三种类型。正光刻胶在光照后被照亮的区域会聚合交联形成固体，而未照亮的区域则不会。负光刻胶则相反，在光照后未被照亮的区域会聚合交联形成固体，而照亮的区域则不会。混合光刻胶则是介于正、负两者之间的一种光刻胶，它可以在光照后形成正、负两种不同的图案。
什么是光刻机
光刻机是一种用于微电子制造中的关键设备，它使用光刻胶和光线来制造微型器件的设备。光刻机通常使用紫外线或蓝色光线来照射光刻胶，在光刻胶表面形成所需的图案。
光刻机的主要组成部分包括
光源、掩模、投影透镜、光刻胶涂覆系统、对准系统
等。
光源通常是紫外线或蓝色光的激光器，用于产生照射光线。掩模则是用于形成所需图案的透明薄膜，它在光刻过程中被置于光刻胶表面上。投影透镜则是用于将掩模上的图案投影到光刻胶表面上的光学元件。
光刻胶涂覆系统用于涂覆光刻胶在硅片表面上，以便于制造所需图案。对准系统则用于确保掩模和硅片之间的对准精度。
光刻机的应用范围非常广泛，可以用于制造微处理器、光电子学器件、微型传感器、生物芯片等微型器件。随着技术的不断进步，光刻机的精度和速度也在不断提高，成为微电子制造中不可或缺的设备之一。
光刻胶应用领域
光刻胶广泛应用于微电子制造、光电子学、MEMS（微机电系统）、生物芯片等领域，用于制造微型器件。以下是光刻胶的主要应用领域：
微处理器制造：
微处理器是计算机等电子设备的核心部件之一，光刻胶被广泛应用于微处理器制造中的光刻工艺，用于形成微小的电路和结构。
光电子学：
光电子学是研究光与电子之间相互作用的学科，光刻胶被用于制造光电子学器件中的微型光学元件、激光器和光波导等结构。
MEMS（微机电系统）：
MEMS是一种微型机电系统，用于制造微型机械结构和传感器，光刻胶在MEMS制造中被广泛应用，用于制造微型机械结构和传感器的光刻工艺。
生物芯片：
生物芯片是一种基于微电子技术和生物学的交叉学科，光刻胶被用于生物芯片制造中的微型通道和微反应器等结构的制造。
除了以上应用领域外，光刻胶还被应用于制造光学器件、太阳能电池等领域，以及纳米技术中的纳米制造和纳米结构制备等方面。
光刻胶原理
光刻胶是一种光致聚合物，其原理是在光的照射下，光刻胶中的单体分子通过聚合反应形成高分子链，从而在表面形成所需的图案。
光刻胶的制备一般包括以下步骤：
合成光刻胶单体：
根据所需的性质和应用，选用不同的单体化合物，进行化学反应制备光刻胶单体。
溶解光刻胶：
将光刻胶单体溶解在溶剂中，形成可涂覆的光刻胶溶液。
涂覆光刻胶：
将光刻胶溶液均匀涂覆在待加工的硅片表面上。
曝光光刻胶：
将硅片表面涂覆的光刻胶，放置在光刻机中，使用紫外线或蓝光等特定波长的光源，照射掩膜上的图案。
显影光刻胶：
将经过曝光的光刻胶进行显影处理，使光刻胶在未曝光的区域被去除，从而在硅片表面形成所需的图案。
固化光刻胶：
使用加热或紫外线照射等方式，将硅片表面的光刻胶进行固化处理，从而得到具有所需图案的硅片。
中国光刻胶被卡脖子
中国的光刻胶产业发展相对滞后，目前还无法满足国内高端微电子制造的需求。尤其是在芯片制造领域，中国的光刻胶依赖进口比较严重，这就给中国的半导体产业带来了一定的制约和挑战。
由于光刻胶技术的高度复杂性和专业性，中国在此领域的研究和开发相对滞后。
同时，国外的光刻胶制造商在产品质量和技术创新方面处于领先地位，这也导致了国内光刻胶制造商的竞争力较弱。
为了加快中国光刻胶产业的发展，需要加强科技创新和人才培养，加大对光刻胶研发的投入，提高光刻胶制造商的技术水平和产品质量，
降低生产成本，从而增强国内光刻胶产业的竞争力和市场占有率。此外，也需要加强国际合作，借鉴国外先进技术和管理经验，促进中国光刻胶产业的快速发展。
光刻胶公司排列
以下是一些主要的光刻胶公司，按照市场份额和知名度排列：
日本信越化学工业株式会社（Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.）：全球最大的光刻胶制造商之一，具有丰富的经验和广泛的产品线。
美国杜邦公司（DuPont）：全球领先的高性能材料和化学制品公司之一，其光刻胶产品在全球半导体制造业市场占有率较高。
德国贝克曼库尔特集团（Brewer Science, Inc.）：全球领先的光刻胶制造商之一，专注于微电子制造和先进技术领域。
日本旭化成株式会社（Asahi Kasei Corporation）：全球领先的化学品和材料制造商之一，其光刻胶产品在全球市场占有一定份额。
美国赛默飞世科技有限公司（Thermo Fisher Scientific Inc.）：全球领先的科学仪器和试剂供应商之一，其光刻胶产品在全球市场占有一定份额。
此外，中国也有一些光刻胶制造商，如中微半导体、南京微电子光刻材料有限公司、上海美尔雅光刻材料有限公司等。虽然这些公司在国内市场占有一定份额，但在全球市场中的地位相对较低。
光刻胶使用过程中的注意事项有哪些呢？
第一，如果腐蚀液为碱性，那么就最好不要使用正性光刻胶，因为正性的光刻胶曝光的地方会溶解于碱性溶液中，而不曝光的地方则不溶解，但正性光刻胶需要的就是不曝光的地方溶解。
第二，光刻胶使用时要提前烘烤，而烘烤温度既不能过高也不能过低，过高会损坏光刻胶，但若过低光刻胶则无法完全曝光，正常的性能不能使用。
①、富创精密:🌈🌈🌈
半导体零部件龙头企业，公司可提供工艺零部件、结构零部件、模组产品、气体管路等多品类产品，相关产品广泛应用于晶圆制造环节最核心的刻蚀、薄膜沉积、光刻及涂胶显影、化学机械抛光、离子注入等前道先进制程设备。
公司是全球为数不多的能够量产应用于7纳米工艺制程半导体设备的精密零部件制造商，并通过收购北京亦盛精密半导体有限公司，将具备硅、碳化硅、石英等非金属半导体零部件的产品、技术储备，可为下游国内外半导体设备厂商提供一揽子零部件解决方案。
2024年中报：公司营业收入15.06亿元，同比增长81.80%；实现归母净利润1.22亿元，同比增长27.30%。
我们国家已经成为全球半导体第一消费大国，仅仅国内就拥有极高的市场份额和国产替代市场空间。
随着近几年米国联合一帮小弟从源头半导体设备端围剿中国半导体下游产业，我国出台了多个国产替代、自主可控政策以此来实现半导体设备各个领域的突破，富创精密涉及多个半导体核心零部件，有望受益于国产替代市场，而实现快速增长。
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②、茂莱光学:🌈🌈🌈
公司在光刻机领域，基于核心技术生产的光刻机曝光物镜用光学器件最大口径可达直径300mm，突破常规透镜尺寸和精度的指标要求，面形精度可达到小于30nm，可以满足KrF、ArF、I线光刻机曝光物镜系统的应用需求。
根据弗若斯特沙利文的报告，2021年公司在全球半导体领域工业级精密光学市场的占有率为3.0%。
该公司未上市之前:2019-2021年3年来自光刻机的营收分别为550.73万元、449.26万元、805.81万元，上市当年2022年Q2来自光刻机的营收是466.05万元。
2023年，公司半导体领域收入占比为37.05%，较上年同期增长 57.69%。
2024年半年度，半导体领域收入占比为48.96%，较上年同期增长46.12%。
公司2023年在研项目：光刻机系统光学器件加工和镀膜技术预计投入1300万元。
2024年在研项目：光刻机照明系统高精度光学器件加工与检测技术研究投入1200万。
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③、奥普光电:🌈🌈🌈
公司是中科院长春光机所下属上市企业，背靠长光所科研平台，长光所负责国家卡脖子的光刻机项目，其子公司禹衡光学研制的高端光栅尺及编码器打破国外出口管制。
根据公司互动平台来看:该公司承接国家的超高分辨率汤姆逊激光散射光谱仪重大研发牵头单位。
百度发现上述项目是解决EUV光刻机的光源卡脖子问题关键技术。
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④、瑞联新材:🌈🌈🌈
公司为国内OLED材料龙头，同时参股出光电子，引入青岛国资入股。
公司在2023年9月回答投资者时表示:公司生产及研发的是半导体用光刻胶单体和树脂，已有部分单体产品量产，在研产品数十种，多数为ArF级别，也有KrF级别。
公司半导体光刻胶单体均系客户定制产品，部分已经量产，部分处于客户验证中。相对于显示材料产品，光刻胶相关产品的研发和客户验证（小试验证和量产验证）周期更长，公司光刻胶相关产品储备产品的种类和数量较多，随着验证通过产品数量的增多及逐步放量，未来将对公司整体营收产生较大贡献。
2024 年上半年该公司电子化学品及其他新材料板块实现销售收入 516 万元，同比下降 82%，全年电子化学品业务收入预计与去年持平。
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⑤、福晶科技:🌈🌈🌈
中科院旗下非线性光学晶体龙头，公司产品涵盖了晶体元器件、精密光学元件和激光器件三大类。
公司LBO晶体全球市占率大致70%，BBO晶体市占率50%，主要用于固体激光器和光纤激光器的制造。
该股股东平台并没有说在光刻机领域有相关研发，但有些文章说BBO材料可能会应用于光刻机领域，具体真假难辨，仅供参考。
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⑥、张江高科:🌈🌈🌈
公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子公司22,345万元人民币，持有上海微电子公司10.779%的股权。
前上海微电子光刻机国内市场占有率超80%。
另外关注:东方明珠，上海电气。
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⑦、龙图光罩:🌈🌈🌈
公司是半导体掩模版细分龙头，工艺节点从1μm逐步提升至130nm，2023年公司实现营业收入21,829.27万元，净利润8,360.87万元。
互动平台显示说，他自己在深圳有7台光刻机，均处于正常使用状态。[捂脸][捂脸][捂脸]应该是激光光刻机，电子束光刻机！
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工信部近期发布了，首台重大技术推广目录，最引人注意的就是两种DUV光刻机，我国刚发布消息，瑞银就对阿斯麦做出最新研究评级
由买入下调到了中性评级将目标价1050欧元下调到900欧元。
光刻机概念能不能崛起有待验证，但半导体相关概念股，大部分都经过深度回调可以适当关注。
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