光刻机的自嗨与自知，根源在于产业机制

最近的一个现象让我细思极恐。

先是前天我刷视频号的时候，微信推送给我一个讲光刻机的短视频。该视频号主是个大妈，夫妻俩加起来超过110岁，视频号内容主要是开着问界M9各地自驾游。 一个年过半百退休大妈，突然拿着工信部的一个极简的目录来讲光刻机，讲得那么激动，自称热泪盈眶。

为什么视频号会给我推送一个旅游自驾退休大妈给我讲光刻机？

后来昨晚微信上有几个微信好友不约而同地给我发来一张表格，并问我如何看待国产光刻机？

最后是今天，朋友圈上有一堆人转发有关光刻机的各种文章。

历史教科书及各种统治阶级媒体宣传称：“人民群众是历史的创造者”。如果非要确保该论断正确性的话，只能说这是一个愿望而非事实。

一股隐形的力量正在借助现代科技手段，左右着群体的思绪。 对于理性个体来讲，如何能不被左右？这个难度是增加的，需要比以往更拥有独立的思辨逻辑能力。但糟糕的现实是，简中媒体中，再理性的个体也是处于被动喂料的尴尬境地。这些料即使是事实，也是选择性的事实，而不是全面性的事实。

观点正确与否，并不与所持观点人数的多寡有关。 放弃评判观点，追求事实真相才是应该做的。

有关这块，最早是工信部微信公众号“工信微报”9月9号发布“ 《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》印发 ”。具体内容如下：

被安放在数百个设备中而没有特别强调出来， 很难说是这是一个很突出的、值得“热泪盈眶”的品类。 被各种自媒体热炒并非偶然， 后面隐藏着一只巨大的手，其目的也许并非善良 。

出于一个 秉承“严肃、客观、正直”价值观的科技自媒体 ，我觉得应该 为社会做点有价值 的事。

首先，氟化氩的化学式就是ArF。ArF是激光源，用来产生波长193nm的激光。

光刻机 按照精度由粗到精分类排序依次为：g线、i线、KrF、ArF、EUV ，如下图。

ArF按照光路介质（空气或水）， 又可以分为ArF Dry （干法，介质为空气） 和ArFi （湿法，i=immersion 浸没式，介质为水）。因为水的折射率为1.33，在空气中波长为193nm的光线进入水中波长就会变成193/1.33=145nm，波长变短，精度就变高。所以 ArFi可以认为比ArF Dry更先进 。所以 ASML最新一个季度财报按照精度依次分类就是：I-line、KrF、ArF Dry、ArFi、EUV，如下图 。（有关ASML更详细情况可参考我7月份写的公众号文章： 光刻机，你以为的ASML和真实的ASML ）