据东湖国家自主创新示范区官网昨日（10月15日）消息，近日武汉太紫微光电科技有限公司（下称“太紫微公司”）推出的T150 A-光刻胶产品，已通过半导体工艺量产验证，实现配方全自主设计。
该产品“对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于国外同系列产品UV1610，T150 A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达120nm，且工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后道刻蚀工艺表现更为友好，通过验证发现T150 A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异”。
据悉，太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。该团队立足于关键光刻胶底层技术研发，在电子化学品领域深耕二十余载。武汉光电国家研究中心是科技部于2017年批准建设的第一批，也是唯一的一批6个国家研究中心之一，其前身为2003年获批的武汉光电国家实验室（筹）。
值得注意的是，天眼查信息显示，太紫微公司成立于2024年5月31日，注册资本200万元，实控人为朱明强，最终受益股份77%。
除了朱明强本人外，太紫微公司的另外两家股东，湖北高碳光电科技有限公司、武汉市马斯洛普管理咨询合伙企业，朱明强则分别持股100%和8%。
华中大学官网资料显示，朱明强为华中科技大学武汉光电国家研究中心二级教授，光学与电子信息学院双聘教授。主要研究领域为有机及纳米光电子学，研究方向包括集中于光刻制造、有机纳米光电子学和超分辨率成像。
一位光刻胶厂商人士向《科创板日报》记者表示，国产对标国外厂商UV1610产品的光刻胶量产确实是个好消息。
不过，在KrF系列光刻胶产品中，T150 A对标的UV1610产品算是“很常用的胶”，门槛不算高，但由于常用所以需求量会比较大。UV1610产品北京科华、徐州博康等国内厂商都有能力生产。
从市场竞争情况来看，“UV1610这一款产品，实际留给其他厂商的市场空间并不多。”据上述人士称，目前北京科华直接代理了UV1610的原厂，主要为原厂提供代工，其他厂商“玩不了”。而徐州博康主打配方和生产“全国产”，有能力做UV1610，不过目前重心更多放在BARC（底部抗反射涂层）产品上。
其进一步指出，太紫微光称其产品已通过半导体工艺量产验证，并实现配方全自主设计，但最终成效还是要看市场与客户的反馈。据介绍，光刻胶产品在客户端验证周期通常需要2年。
目前，我国半导体光刻胶国产化率仍处于较低水平。数据显示，其中KrF、ArF光刻胶对外依赖最为严重，国产化率均仅在1%水平。
西部证券指出，我国半导体光刻胶市场超90%主要依赖进口，本土厂商虽起步较晚，但目前处于国产化加速期。彤程新材、华懋科技、晶瑞电材、上海新阳等国内公司均有G/I线、KrF、ArF胶布局，开发重点为普适性光刻胶和技术难度较低的成熟制程光刻胶，使产品导入后能大范围应用，在产品开发和验证上持续与下游晶圆厂进行积极协作。
据《科创板日报》不完全统计，国内已有多家公司有KrF光刻胶产品布局：
上海新阳称，KrF光刻胶已有销售，销量逐步增加，合肥工厂目前在试生产阶段；晶瑞电材多款KrF光刻胶已量产并供应多家半导体客户。
另外，鼎龙股份称已开发出7款KrF光刻胶产品，包括1款能达到KrF极限分辨率120nm L/S 和130nm Hole的光刻胶；八亿时空上海半导体项目已成功实现KrF光刻胶用PHS树脂百公斤级别的量产；飞凯材料光致抗蚀剂产品包括应用于半导体领域的i-line及KrF光刻配套Barc材料。
“从根本上来说，国产光刻胶的上游原材料还是要依靠进口，需要突破的是配方，目前国产的光刻胶原材料配方稳定性等较国外有差距。”还有光刻胶从业者向《科创板日报》记者表示，“除了原材料配方之外的技术领域的突破，难度并不算大。”
有新材料领域产业基金投资人士分析认为，“从细分维度来看，原材料、配方这两大因素较为关键。像降本、突破性能指标，匹配下游客户等需要依靠这两部分实现突破。在此基础上，再是生产工艺、设备等方面突破，这些会对降本等产生直接影响。”
另有新材料领域投资人士持有相似观点并表示，国内现在主要研究的是光刻胶原材料配方。“相较于技术突破，更值得关注的是这家公司（太紫微公司）使用的主料、辅料都是哪里采购的。目前，国内企业在光刻胶原材料方面存在一定的进口依赖，国内相关光刻胶原材料基本都从日本进口。不排除释放这种消息（小K注：指太紫微公司光刻胶产品通过半导体工艺量产验证），是为企业造势的可能。”
关于太紫微公司T150 A产品的客户端验证进展，以及后续产品系列的研发计划，《科创板日报》记者尝试通过电子邮件与朱明强取得联系，但截至发稿未获回复。
