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Intel 2029年上1.4nm工艺?非官方路线图

芯长征科技  · 公众号  ·  · 2019-12-12 10:28

正文

Intel的制程工艺一直备受关注。今天早些时候,荷兰光刻机巨头ASML(阿斯麦)放出一张路线图,赫然罗列了Intel 7nm、5nm、3nm、2nm、1.4nm等工艺节点,尤其是最后这个将在2029年上马的1.4nm非常意外,是我们第一次看到非整数工艺节点。


就此消息, Intel官方很快做出澄清声明表示,ASML 近期使用的PPT中, 更改了英特尔在今年9月的一次会议上的幻灯片,造成误解。

原来,这张路线图并非完全来自Intel官方,而是ASML CEO Martin van den Brink拿了此前Intel 9月份公布的一张制程工艺更新PPT修改而来,自行添加了原来没有的几个工艺名称,但并未说明,造成了误会。


这才是Intel的原图:

换句话说,Intel对于7nm、5nm、3nm等等这些新工艺肯定是在研究推进的,原始PPT也明确2021年开始,会每两年对制程工艺进行一次重大升级,而且每代工艺都有+、++两次优化更新。


但是更具体的新工艺技术节点和对应时间表, Intel尚未公布,1.4nm这样的另类更是完全无从谈起。


从英特尔和ASML公布的这两版工艺路线图来看,一致的是,英特尔的确每两年会推出一代新工艺,所以依然可以看出,英特尔对于未来的工艺研发充满信心。


据tomshardware报道,在今天的投资者会议上,英特尔首席工程官Murthy 重申 5nm已进入开发阶段,并有望在2023年顺利推出。


然而,另一方面,ASML作为光刻机巨头,可以说是Intel工艺进步的源头之一,双方合作关系密切,英特尔不仅是ASML的客户,也是ASML的股东,肯定了解一些Intel的规划,但未来究竟如何发展,还是要等Intel官方公布的消息了。







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