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在光电和催化设备中应用过渡金属氧化物半导体时,实现高效的载流子分离至关重要。然而,空穴与电子之间的巨大迁移率差异严重限制了器件的性能。
在此,
中南大学刘敏教授和德国慕尼黑大学Emiliano Cortés教授等人
开发了一种通过金属空位(V
M
)管理来降低空穴有效质量、从而增强空穴迁移率的通用策略。引入V
M
后,空穴迁移率取得了显著提升:WO
3
提升了430%,TiO
2
提升了350%,Bi
2
O
3
提升了270%。同时,为了说明这一发现的重要性,作者将V
M
概念应用于光电化学水分解,这是一个对高效载流子分离需要高的领域。值得注意的是,V
M
-WO
3
在光电转换效率上实现了4.4倍的提升,其无论是在小型还是大型光电极上,均实现了4.8 mA cm
-2
的性能,并且具有超过120小时的卓越稳定性。
相关文章以“
Metal vacancies in semiconductor oxides enhance hole mobility for efficient photoelectrochemical water splitting
”为题发表在
Nature Catalysis
上!
在可持续发展目标中,实现经济实惠且清洁的能源是一个全球性的紧迫任务。为了这一目标,通过半导体基光电化学(PEC)水分解技术将间歇性的太阳能直接转化为绿色氢气,已成为缓解全球能源危机的有前景的解决方案。与依赖电力的传统电解法不同,PEC过程直接利用太阳能,不仅环保,而且即使在偏远地区也具有可及性。尽管具有这些固有优势,现有的PEC平台仍面临能量效率和稳定性问题,限制了其与电催化技术相比的竞争力。这种限制不仅削弱了PEC水分解的环境效益,还限制了其实际应用。
在过去十年中,人们投入了大量努力来提高PEC水分解系统的稳定性和能量效率。在将太阳能转化为化学能的过程中,电子-空穴对的分离在PEC过程的效率中起着关键作用,而光生载流子的严重复合显著阻碍了PEC性能。为了降低电子-空穴复合率,人们探索了多种方法,包括通过金属掺杂创建电子捕获位点、等离子体诱导的热电子转移、通过引入中间层进行能带结构工程以及通过空心结构延长电子寿命。然而,由于空穴的“重”性质,很少有研究关注空穴的迁移。与快速移动的电子相比,价带中的空穴受到原子核的强吸引力,导致其固有迁移率较差,从而增加了载流子整体运动的不匹配,提高了电子-空穴复合率。
理论计算
本研究通过密度泛函理论(DFT)模拟,探讨了金属空位(V
M
)对过渡金属氧化物半导体(如WO
3
、TiO
2
和Bi
2
O
3
)空穴迁移率的影响。结果表明,引入金属空位后,这些材料的价带顶(VBM)出现带尾态,导致VBM位置正向移动,价带结构宽化且离域化,显著降低了空穴的有效质量。例如,WO
3
中空穴有效质量从2.69m
0
降低到0.95m
0
,TiO
2
从5.39m
0
降低到3.02m
0
,Bi
2
O
3
从2.82m
0
降低到1.95m
0
。这一发现为通过VM工程提升空穴迁移率提供了理论依据,有望推动光电化学等领域的发展。
图1:能带结构的理论计算
材料表征
基于密度泛函理论(DFT)结果,通过化学浴沉积(CBD)方法将钨空位(V
W
)引入WO
3
中。利用乙二醇(EG)的高黏度和丰富的—OH基团,限制了钨离子的扩散,成功制备了低W/O比的非化学计量比WO
3
光电极。X射线衍射和扫描电子显微镜图像显示,WO
3
和V
W
-WO
3
纳米片均垂直排列在掺氟氧化锡(FTO)上。通过AC-HAADF-STEM和ICP-OES确认了V
W
的存在。同时,高分辨XPS显示,V
W
-WO
3
中W 4f结合能正移,O 1s中O1峰负移,O2峰表明氧的残留,证实了V
W
的形成。此外,价带XPS和UPS结果表明,V
W
-WO
3
的价带顶(VBM)上移,费米能级与纯WO
3
相近。X射线吸收光谱(XAS)进一步揭示了V
W
-WO
3
中钨原子周围局域结构的变化,白线峰减弱,W L
3
-edge正移,表明钨的氧化态更高,W-W键强度降低,进一步证实了V
W
的引入。
图2:WO
3
样品的材料表征。
空穴迁移率测量
作者通过研究V
Ti
-TiO
2
和V
Bi
-Bi
2
O
3
验证了这种效应的普适性,并证明了金属空位(V
M
)在这些材料中对空穴迁移率提升的通用性。具体而言,TiO
2
的空穴迁移率提升了350%,Bi
2
O
3
提升了270%(图3c、d)。除了空间电荷限制电流(SCLC)方法外,还进行了霍尔效应测量,以协同证明引入V
M
后这三种过渡金属氧化物中本征载流子迁移率的提升。从十次连续重复的测量结果来看,WO
3
、TiO
2
和Bi
2
O
3
中引入V
M
显著提高了霍尔迁移率。尽管与SCLC结果在绝对值上存在轻微偏差,但一致的趋势以及与SCLC结果在数量级上的统一,为引入V
M
后WO
3
、TiO
2
和Bi
2
O
3
空穴迁移率的提升提供了有力的佐证。
图3:用SCLC法测量孔隙迁移率。
加速的载流子传输动力学
此外,通过时间分辨光致发光(TRPL)和光电化学阻抗谱测量,验证了增强的空穴迁移率对载流子传输的促进作用。TRPL结果显示,V
W
-WO
3
的平均空穴寿命从纯WO
3
的5.88纳秒显著提高至12.41纳秒,长寿命τ₂从6.25纳秒增加到13.61纳秒,表明电子-空穴对复合速率降低。开路光电压(V
ph
)的提升和电极内化学电容(C
bulk
)的降低进一步证实了V
W
-WO
3
中载流子复合的抑制。前照与背照条件下的伯德图表明,V
W
-WO
3
的高频区域峰值消失,反映了其内部载流子传输动力学的加速,归因于空穴迁移率的提升。最终,V
W
-WO
3
、V
Ti
-TiO
2
和V
Bi
-Bi
2
O
3
的载流子分离效率分别达到93.2%、93.1%和92.8%,分别是纯样品的3.1倍、3.4倍和3.0倍,接近理想值。这些结果表明,金属空位(V
M
)工程显著提升了载流子分离效率,为高效光电化学应用提供了有力支持。
图4:增强的空孔迁移率。
光电化学水分解性能
在模拟太阳光下,优化后的V
W
-WO
3
在中性Na
2
SO
4
溶液中展现出卓越的光电化学(PEC)性能,光电流密度达4.0 mA cm
-2
,是纯WO
3
的四倍以上。沉积Co-Pi助催化剂后,光电流密度进一步提升至4.8 mA cm
-2
。研究表明,V
W
的引入对电化学活性表面积、光吸收系数和空穴浓度影响较小,但显著提升了空穴迁移率,从而增强PEC性能。V
W
-WO
3
/Co-Pi在120小时的稳定性测试中表现出色,法拉第效率接近100%,H
2
和O
2
生成速率比为2:1。其光电流密度、光电转换效率、光子-电流转换效率和载流子分离效率均在已报道的研究中表现出色。
图5:PEC水分解表征。
为了探究其大规模应用前景,研究团队制备了面积为16 cm
2
的V
W
-WO
3
光电极,并在100小时内展现出稳定的4.4 mA cm
-2
光电流密度,显示出其在实际应用中的巨大潜力。此外,V
Ti
-TiO
2
和V
Bi
-Bi
2
O
3
也分别展现出2.1 mA cm
-2
和3.3 mA cm
-2
的卓越光电化学活性,分别是纯样品的2.2倍和2.8倍。这些材料在超过100小时的长期稳定性测试中表现出色,进一步证实了金属空位(V
M
)辅助空穴迁移率管理的普适性。
图5:通用的金属空位(V
M
)工程诱导的空穴迁移率提升。
综上所述,本文开发了一种用于提高PEC水分解中常用半导体的空穴迁移率的通用策略。研究表明,在化学浴沉积(CBD)过程中,加入具有高黏度和丰富—OH基团的乙二醇(EG),可以通过络合效应调节金属离子的扩散和传输速率,从而在过渡金属氧化物中引入金属空位(VM)。VM的调控通过降低空穴的有效质量显著提升了空穴迁移率,这一增强效果通过密度泛函理论(DFT)计算和空间电荷限制电流(SCLC)方法对三种代表性半导体(WO
3
、TiO
2
和Bi
2
O
3
)的直接测量得到了验证。作为概念验证,作者使用具有钨空位(V
W
-WO
3
)的WO
3
基平台,在1.23 V的条件下,实现了93.2%的高载流子分离效率和4.8 mA cm
-2
的增强光电流密度,并在120小时内表现出卓越的稳定性,这种策略的广泛适用性为各种氧化还原反应的PEC催化创造了机会。
刘敏
,中南大学三级教授,博士生导师,科睿唯安高被引学者,入选国家引进海外杰出人才,国家重点研发计划国际合作项目首席科学家,湖南省领军人才,湖南省杰出青年,湖南省“青年百人计划”,湖南省科技创新平台与人才计划,长沙市国家级领军人才,粉末冶金国家重点实验室、超微结构与超快过程湖南省重点实验室、化学电源湖南省重点实验室成员。湖南师范大学理学学士、硕士,中科院电工所工学博士。2010-2013年日本东京大学Kazuhito Hashimoto(桥本和仁)教授研究室特聘研究员、2013-2015,东京大学Kazunari Domen(堂免一成)教授研究室主任研究员,2015-2017年加拿大多伦多大学Ted Sargent组博士后,之后加入中南大学。近年来在Nature, Science, Nature Nanotechnology, Nature Photonics, Nature Chemistry, Nature Communications, Science Advances, Joule等国际权威学术期刊上发表论文200余篇,论文他引>32000次,H-因子为84, 相关研究成果多次被 Science Daily, Science News, Phys.org, 福布斯等新闻媒体报道。
Jun Wang, Kang Liu, Wanru Liao, Yicui Kang, Hanrui Xiao, Yingkang Chen, Qiyou Wang, Tao Luo, Jiawei Chen, Hongmei Li, Ting-Shan Chan, Shanyong Chen, Evangelina Pensa, Liyuan Chai, Fangyang Liu, Liangxing Jiang, Changxu Liu, Junwei Fu, Emiliano Cortés, Min Liu *,
Metal vacancies in semiconductor oxides enhance hole mobility for efficient photoelectrochemical water splitting
,
Nature Catalysis
, https://doi.org/10.1038/s41929-025-01300-1
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