SK海力士无锡二工厂正式竣工

4月18日，SK海力士半导体（中国）有限公司无锡二工厂扩建项目（C2F）正式竣工，意味着SK海力士将成为全球单体投资规模最大、月产能最大、技术最先进的10纳米级DRAM产品生产基地。

此次竣工的SK海力士二工厂建筑面积达58000平米，新增总投资86亿美元，其中16亿美元用于新建33000平米洁净厂房及其附属配套设施、70亿美元用于购买全球最先进的半导体生产设备。 SK海力士二工厂部分洁净厂房工程现已完成，搬入装备后就将开始DRAM的生产，剩余洁净厂房工程与装备入库时间将视市场情况而定。 SK海力士无锡负责人姜永守表示： “SK海力士二工厂的竣工确保了我们的中长期竞争力。 而且，SK海力士二工厂将与原有的工厂进行联合运营，从而将生产、运营效率增至最大。 ”

SK海力士CEO李锡熙在致欢迎辞时表示，SK海力士将以C2F为基础，逐步将无锡法人发展成为SK海力士中国事业的战略基地，也将通过构建具有社会价值的基础设施，开展多层次的合作。

今年3月，他也曾在一次活动中提到： 截至去年底，SK海力士已投资34亿美元用于二工厂建设，剩下的计划在今后的三到四年内集中进行。 目前，SK海力士二工厂顺利竣工，生产的第一批晶圆片具有非常好的良率，二工厂计划今年五月正式投入量产。

二工厂全部投产后，SK海力士将形成月产18万片12英寸晶圆的产能，年销售额也计划达到33亿美元。

目前，SK海力士占有中国DRAM约35%的市场份额。 待SK海力士二工厂投产后，这一份额将超过45%。 这也意味着，SK海力士将成为全球单体投资规模最大、月产能最大、技术最先进的10纳米级DRAM产品生产基地。 随着二工厂项目的持续推进，SK海力士半导体（中国）有限公司新招纳1800名高新人才，未来无锡工厂的人才规模将达到5000名，生产工艺将达到世界最尖端的10纳米技术。 销售额也将大幅提升，至此无锡工厂将承担SK海力士存储半导体生产总量的一半份额。

SK海力士自2005年在无锡投产以来，累计投资额超105亿美元(不含SK海力士二工厂)，已成为江苏省单体投资规模最大、技术水平最高、发展速度最快的外资投资企业，更成为韩国高科技企业在中国、江苏投资合作经营的成功典范。