台媒震惊：中国大陆打造5纳米芯片，居然无需EUV设备！

据台媒转印美媒Phone Arena报导，中国大陆最大的芯片代工厂中芯国际今年将为华为生产5纳米芯片，而且不需使用到荷兰ASML公司制造的极紫外线（EUV）曝光机，令人震惊！

另据《韩国商业报》报导，中芯似乎能够使用在实施制裁之前购买的旧深紫外线 （DUV）曝光机来制造5纳米芯片。这对中芯和华为来说都是一件大事，因为它使后者更接近3纳米制程，将用于制造为2025年旗舰手机提供动力的尖端芯片。

对中国大陆来说，生产5纳米智能型手机芯片被认为是一件大事，因为中国寻求实现半导体自给自足，而这在美国的制裁下似乎不可能实现。根据一位业内人士表示，华为设计芯片和中芯制造芯片的合作，让中国的“半导体独立”越来越明显。

中芯已制造7纳米麒麟9000s应用处理器 （AP），使华为能够在去年8月推出支持5G的旗舰产品线Mate 60系列。

华为4月开卖的Pura 70系列手机，采用更多中国厂生产零件，显示在高阶技术自主方面取得进展。两家公司拆解华为Pura 70 Pro后发现，手机内部的闪存（NAND）芯片可能由华为旗下海思封装，且手机搭载由中芯国际7纳米N＋2制程生产的麒麟9010芯片。

许多迹象显示，华为在推出Mate 60系列后的几个月内，在与合作伙伴生产先进芯片的能力取得渐进式的进步。

华为上一次发表支持5G的旗舰系列是在2020年，当时推出了运行麒麟9000 SoC的Mate 40系列。同年，美国延长出口规定，禁止使用美国技术的代工厂向华为运送尖端芯片。

在Mate 40系列之后，华为能够使用经过调整的高通Snapdragon芯片，这些芯片经过修改以阻止其使用5G网络。这些芯片组为旗舰产品P50、Mate 50和P60系列提供支持。虽然美国要求高通不再发放允许向华为运送4G芯片的许可证，然而，华为仍可以从中国代工厂获得5G芯片。

中芯之所以无法制造尖端芯片，与美国和荷兰政府阻止中国企业购买EUV曝光机有关，该设备可以在硅片上蚀刻极薄的电路图案。而EUV是制造使用7纳米以下芯片所必需。