1. PdSe₂单晶的生长
生长方法:采用自熔剂法(self-flux method)生长PdSe₂单晶。
使用过量的硒(Se)作为溶剂/助熔剂。
初步烧结过程:在炉中进行,温度以20°C/h的速率从室温升至850°C,保持850°C 4天。
晶体生长:将研磨均匀的烧结材料放入石英安瓿瓶中,抽真空至10⁻⁵ torr并密封。温度再次升至850°C并保持3天,然后以1°C/h的速率降至400°C,最后以40°C/h的速率降至室温。
2. 范德瓦尔斯异质结构的制备
制备方法:采用干式粘弹性印章法(dry viscoelastic stamping)在充满氩气的手套箱中制备石墨烯-PdSe₂异质结构。
石墨烯的制备:通过机械剥离法将高定向热解石墨(HOPG)剥离到p型掺杂的Si/SiO₂衬底上,利用光学对比度结合拉曼光谱校准识别单层石墨烯通道。
PdSe₂的转移:使用粘弹性印章(Gel-Pak)将PdSe₂薄片拾取并转移到石墨烯上。
退火处理:组装完成后,将堆叠结构在高真空(10⁻⁸ torr)中于290°C退火3小时。
3. 器件的构建
电极制备:
使用电子束光刻技术分两步定义接触电极。
首先制备对自旋不敏感的电极(Ti 1nm / Pd 30nm),然后制备铁磁电极(TiOₓ-Co 30nm)。
接触材料通过电子束蒸发沉积,沉积腔的本底压力为10⁻⁸ torr。
TiOₓ阻挡层通过在约10⁻¹ torr的氧气氛围中蒸发4 Å + 4 Å的Ti并氧化30分钟制备。
4.低温实验验证
低温测量:
在77 K下对具有较薄PdSe₂层(6 nm)的石墨烯-PdSe₂器件(device 2)进行自旋输运测量。
通过拉曼光谱确认PdSe₂的晶体轴,并通过电输运测量验证PdSe₂的带隙对电荷输运的抑制作用。
测量低温下的自旋动力学,验证自旋寿命各向异性和角度θ的重现性。