目前在数量和性能上, p型二维2D材料,都落后于n-型材料,这阻碍应用在先进 p-沟道晶体管和互补逻辑电路。非层状材料占晶体结构95%,具有成为优秀p型2D材料的潜力,但合成技术,仍然具有挑战性。
今日,南京理工大学Yunhai Xiong, Duo Xu, Yousheng Zou,陈翔Xiang Chen & 曾海波Haibo Zeng等,在Nature Materials上发文,报道了在SiO2/Si衬底上,实现了原子级薄(<1nm)、高质量、非层状2D β-Bi2O3晶体的气-液-固-固生长。
这些晶体,通过层状BiOCl中间体转化而形成。还进一步实现了具有室温空穴迁移率和开/关电流比分别为136.6cm2V−1s−1和1.2×10^8的2D β-Bi2O3晶体管。
Vapour–liquid–solid–solid growth of two-dimensional non-layered β-Bi
2
O
3
crystals with high hole mobility.
具有高空穴迁移率,二维非层状β-Bi2O3晶体的气-液-固-固生长
图1:2D非层状β-Bi2O3理论和实验原子结构。
图2:2D非层状β-Bi2O3的气-液-固-固vapour–liquid–solid–solid,VLSS生长机制。
图3:二维非层状β-Bi2O3的能带结构演化和p型导电机制。
图4:p型2D非层状β-Bi2O3的场效应晶体管field-effect transistors ,FET性能。
β-Bi2O3是一种非层状四方晶系半导体,在能源和催化领域的应用而得以广泛研究。以不同的结构存在,如纳米粒子、纳米球、纳米线、纳米管和薄膜等。然而,在二维非层状β-Bi2O3的直接合成和p型调控中,存在相当大的挑战。首先,高熔点、低蒸气压和晶体学中的择优生长,都阻碍了大尺寸β-Bi2O3晶体,以二维形式生长。第二,具有3D共价键的本征结构,阻止了超平晶体的形成,并且载流子散射增强,迁移率降低。第三,由液相合成得到较低的结晶度和混合相,限制了单晶的生产。此外,β-Bi2O3块状晶体中,O 2p轨道价带顶的局域化性质阻碍了空穴浓度的增加。最后,在p型2D半导体和金属之间容易形成肖特基势垒,这降低了空穴注入效率和场效应迁移率。
为此,必须解决两个关键领域的问题。首先,需要降低前驱体的熔点,增加蒸发能力,防止纵向生长,并获得原子级平坦的晶体表面和具有纯相的高晶体质量。第二,通过合适的金属电极,以调节肖特基势垒高度,以提高空穴注入效率。