中国自主研发的EUV机器正在测试，采用激光诱导放电等离子体（LDP）技术，该技术拥有多个优势并有望带动相关产业发展。同时介绍了光刻机LDP技术和LPP技术的原理、优势及挑战，并提供了相关概念股的信息。
LPP技术是EUV光刻机光源的主流方案之一，具有功率和稳定性优势，但存在能量转换效率、设备成本和复杂性、污染和碎屑等问题。
包括整机相关、光源系统、光学器件、洁净设备、温控系统等其他相关企业。
中国自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术正在测试？
中国自主研发的EUV机器采用激光诱导放电等离子体(LDP)技术，不同于 ASML采用的LPP方法，目前正在华为东莞工厂进行测试。试生产计划于2025年第三季度进行，量产计划于2026年进行。
光刻机LDP技术即激光诱导放电等离子体（Laser-Induced Discharge Plasma）技术，以下是关于它的介绍：
原理
首先利用激光将少量的锡汽化为云状物，随后在两个电极之间施加高压，将锡云转化为等离子体。在这个过程中，高价态的锡离子和电子频繁碰撞并辐射，从而产生极紫外光，其波长可达到13.5纳米，这种极紫外光正是EUV光刻技术所需要的光源。
优势
• 能量转换效率高：哈尔滨工业大学的相关技术能量转换效率达到4.5%，是ASML激光方案（LPP技术）的2.25倍，还有报道称能将电能转换效率提升至5.2%。
• 成本较低：该技术减少了对高精密激光器和进口FPGA芯片的依赖，降低了设备成本，较ASML方案成本可能降低约30%。
• 设备体积小：可以将光源系统的体积缩小30%-40%，具有结构紧凑的特点。
• 技术自主性强：绕开了ASML的技术壁垒，实现了100%自主知识产权，解决了我国高端芯片制造中的“卡脖子”问题。
挑战
• 优化参数和时序：需要对放电脉冲参数和时序进行精确优化，以确保等离子体的稳定产生和极紫外光的高效输出，这需要深入的研究和大量的实验来实现。
• 功率输出限制：有部分专家担心该技术的功率输出可能受到限制，目前虽有突破，但要达到ASML等国际领先水平的高功率、高稳定性输出，还有很长的路要走。
光刻机LDP技术前面已有部分介绍，这里再补充一些其他信息：
技术优势补充
• 技术自主性强：完全绕开了ASML等国外企业的技术壁垒，实现了100%自主知识产权，从根本上解决了我国高端芯片制造被“卡脖子”的问题。
• 维护成本低：可将维护成本降低50%。
技术发展现状
• 取得阶段性成果：哈尔滨工业大学团队的“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖，该技术能产生波长为13.5纳米的极紫外光。
• 即将进行原型机测试：据相关消息，中芯国际、长江存储等企业已启动与该技术的对接，预计2026年完成首台原型机集成测试。
应用前景
• 推动芯片制造发展：如果LDP技术能够成功应用于EUV光刻机，将为我国7纳米及以下制程的芯片制造提供关键支持，打破国外技术垄断，满足国内对高端芯片的需求。
• 带动产业链发展：该技术的突破有望带动国内半导体产业链上下游企业的协同发展，包括光刻胶、光学元件、半导体设备制造等相关产业，提升我国半导体产业的整体竞争力。
光刻机LPP技术即激光等离子体光源（Laser-Produced Plasma）技术，是当前EUV光刻机光源的主流方案之一。以下是相关介绍：
原理
通过高能激光轰击靶材，如锡或氙等材料，使其电离形成等离子体，并从等离子体中释放出极紫外光。以液态锡滴为例，二氧化碳激光脉冲经过放大、整形并对焦后，进入激光激发等离子型真空室，精准地击射在液态锡滴产生器所产生的液态锡滴上，具有高度激发物质的等离子前导波在作用区域辐射出13.5nm光子超紫外线。
优势
• 功率和稳定性：能够实现更高的功率输出和更稳定的光源，可满足先进芯片制造中光刻工艺对光源功率和稳定性的严格要求。
• 技术成熟度：经过多年的研究和发展，LPP技术在EUV光刻领域已经相对成熟，ASML等国际领先企业已将其广泛应用于EUV光刻机产品中。
应用
主要用于极紫外光刻，是制造7纳米及以下工艺节点集成电路的关键技术，还用于掩膜缺陷检测、光刻胶出气测试等场景，以确保整个芯片制造流程的质量控制。
挑战
• 能量转换效率：目前LPP技术的光电转化率相对较低，一般在3%到5%左右，提高能量转换效率是研究的重点方向之一。
• 设备成本和复杂性：需要高能量激光器等复杂设备，导致设备成本高昂，且系统的维护和运行成本也较高。
• 污染和碎屑问题：激光轰击靶材过程中可能会产生碎屑，这些碎屑可能会污染光学元件等部件，影响光刻机的性能和寿命。
光刻机概念股是指与光刻机制造、研发及相关产业链有紧密联系的上市公司股票，以下是一些常见的光刻机概念股：
整机相关
• 张江高科：通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司持有上海微电子10.779%的股权。
• 上海电气：母公司为上海微电子第一大股东。
• 奥普光电：长春光机所为公司实际控制人，长春光机所参与光刻机相关研发任务。
光源系统
• 波长光电：成功开发了光刻机平行光源系统，可用于国产光刻机领域配套。
• 福晶科技：全球最大的LBO、BBO非线性光学晶体生产商，为激光器提供关键材料。
• 茂莱光学：精密光学器件已应用于国产光刻机，为光刻机的光源等系统提供部件。
光学器件
• 腾景科技：多波段合分束器已进入微电子供应链，主要应用于光刻机光学系统。
• 苏大维格：向上海微电子提供光刻机用的定位光栅产品。
• 晶方科技：下属荷兰ANTERYON公司服务国际领先光刻机厂商。
洁净设备
• 蓝英装备：精密清洗设备面向高端芯片制造行业企业客户，包括光刻机制造企业。
• 美埃科技：提供最高洁净等级标准的设备，进入国外企业供应商白名单。
温控系统
• 海立股份：与微电子装备集团有系统级合作，提供液体恒温设备应用于光刻机等领域的温度控制。
• 同飞股份：液体恒温设备应用于光刻机等领域的温度控制。
其他
• 赛微电子：是光刻机厂商的MEMS透镜部件供应商。
• 电科数字：子公司可供货光刻机控制器。
• 金力泰：超微弧氧化技术可应用于光刻机设备零部件的表面处理。
• 东方嘉盛：提供光刻机寄售维修服务。
