电子衍射是透射电子显微镜(TEM)操作中的一项基本技能,用于确定样品结构和结晶度,鉴定组成相、观察相变、确定晶体取向,并用于成像。电子衍射形成类似于X射线衍射,可用布拉格定律描述,波长λ远小于晶格间距d,导致衍射角度θ很小。电子衍射图样是倒易空间晶格与埃瓦尔德球的交线,倒易空间对理解电子衍射很有帮助。粉末衍射图谱的标定类似于XRD图谱,但强度可能不同,强度由选区中的晶体或取向决定。单晶衍射图谱来自单个晶格,每个反射矢量垂直于产生它的平面,而带轴位于所有平面中,与倒易矢量垂直。复合衍射图样可能由多相或孪晶产生,需用小的选区光阑从每个区域获得单晶SAED图样,标定复合图样。电子衍射操作涉及样品倾斜和电子束倾斜以获得对称图样,并用投影镜头将图样移向屏幕中心。
电子衍射是 TEM 操作中的一项基本技能,用于确定样品结构和结晶度,鉴定组成相、观察相变、确定晶体取向,并用于成像。
电子衍射操作涉及样品倾斜和电子束倾斜以获得对称图样,并用投影镜头将图样移向屏幕中心。
电子衍射是由电子的波动性引起的。由于加速电子的波长很短,衍射现象是通过与样品晶格的相互作用产生的。通过衍射研究可以获得以下信息:
1.
确定样品结构和结晶度
——
即结构有序程度。如果是晶体,电子衍射可用于确定结构类型、对称性和晶格参数。通过定量精修也可以确定原子位置。
2.
鉴定组成相、通过原位或非原位研究观察相变、确定晶体取向、与周围相的取向关系(
OR
),以及估算透射电子显微镜(
TEM
)样品厚度。
3.
调整样品方向以进行成像,如在衍射衬度成像和高分辨成像中。
因此,电子衍射是
TEM
操作中的一项基本技能。
本
文将
讨论电子衍射的形成、倒易空间的概念以及选区电子衍射(
SAED
)或选区衍射(
SAD
)。
SAED
是通过使用衍射光阑选择一个区域,然后切换到衍射模式形成的,此时中间透镜聚焦在后焦面上的第一衍射图样而不是像平面上。这种衍射图样经进一步放大后显示在最终屏幕上。
菊池衍射、会聚束电子衍射(
CBED
)和纳米束电子衍射(
NBED
)将在
后续专题
中介绍。
1
电子衍射的形成
与
X
射线衍射(
XRD
)类似,电子衍射的形成可以用布拉格定律来描述。如图
1
所示,在入射角
θ
下,电子束进入晶格间距为
d
的平行晶面的晶体晶格中。经过散射后,两条相邻射线之间的路程差为
2dsinθ
,当:
2dsinθ = nλ
(
方程
1
)
,
这两条射线具有相同的相位时,沿该方向的强度增强(构造性干涉)。这里,
λ
是波长,
n
是整数(
1, 2, 3, ...
)。这种关系就是布拉格定律。
需要注意的是,在电子散射过程中,电子可以向任何方向散射。只有沿着方程
1
所定义的某些特定方向,强度才会足够强以形成衍射斑点,而沿其他方向的电子则会对衍射图样的背景产生贡献。
在电子衍射中,波长
λ
远小于晶格间距
d
,因此角度
θ
很小。例如,在
200 kV
下
λ = 0.0251 Å
,铜的晶格常数
a = 3.61 Å
,因此
(200)
晶面间距
d
200
= 1.805 Å
,根据方程
1
计算得
θ = 0.397°
。在衍射图样中,角度
θ
通常小于
2°
。
需要注意的是,反射束与入射束之间的角度差为
2θ
,即衍射束相对于入射直射束的角度为
2θ
。图
1
是在精确的布拉格反射条件下绘制的。如后文将讨论的,如果入射束稍微偏离精确角度
θ
(对于给定系统来说是一个确定值,因为
d
和
λ
是确定的),衍射仍然会发生,且衍射束与入射束之间的角度仍保持为
2θ
。
在
TEM
中,可以选择一个小区域进行衍射,因此通常可以获得单晶的选区电子衍射(
SAED
)图样,而
X
射线衍射的单晶图样则需要比
TEM
中衍射晶体大得多的样品。如图
2(a)
所示,在晶格中有许多晶面,如平行于
1-5
平面的晶面。在
SAEDP
图样(图
2b
)中,第
1
行的反射是由平行于平面
1
的晶面衍射产生的,它们之间呈垂直关系。同样,衍射行
2-5
分别是由平行于平面
2-5
的晶面产生的。
图
2
单晶衍射图样的形成。
(a)
晶格,标有
1-5
的晶面;
(b)
单晶衍射图样。
虽然衍射平面与晶格平面垂直,但在图像上,衍射图样可能会由于磁旋转而相对于图像(晶格)发生旋转。这种磁旋转可能由制造商校正,或需要使用具有已知形状和晶格方向的样品进行校准。经过磁性校正后,可以在图像上绘制衍射方向,其垂直方向即为产生衍射斑点的晶面。
对于每个
(hkl)
反射,可以根据其与中心直射束的距离
r
测量其晶面间距
d
。如图
3
所示,当晶体处于布拉格衍射方向时,我们有几何关系
2θ = r/L
,其中
L
是相机长度。
图
3
相机长度
L
根据布拉格定律,
2sinθ = λ/d
。由于
θ
很小,
θ
近似等于
sinθ
,因此
r/L = λ/d
,或
rd= Lλ
(
方程
2
)
。
这里,乘积
Lλ
是相机常数,其校准在
后面将
讨论。如果对给定的
SAED
图样校准了
Lλ
,则晶面间距
d
为:
d = Lλ/r
(
方程
3
)
如果
SAED
图样是用
CCD
相机采集的,采集软件可能会直接给出晶面间距
d
。
2
倒易空间
(
Reciprocal Space
)
电子衍射图样是倒易空间晶格与埃瓦尔德球的交线,埃瓦尔德球是倒易空间中半径为
1/λ
(
λ
是波长)的球。理解倒易空间对理解电子衍射很有帮助。
如图
4
所示,这是倒易空间的定义。对于给定的
(hkl)
平面,倒易矢量
g
沿着
(hkl)
平面的法线方向,其长度为
r=
1/d
(
方程
4
)
。
如图
5
所示,对于具有单位晶胞矢量
a
、
b
和
c
的三维晶格,倒格子矢量定义为:
a* = (b×c)/Vc
,
b* = (c×a)/Vc
,
c* = (a×b)/Vc (
方程
5)
,这里,
Vc
是单位晶胞的体积,
Vc = a·(b×c) (
方程
6)
图
5 (a)
倒格子矢量;
(b)
矢量运算。
如图
5(b)
所示,这里涉及两种矢量运算:
1.a×b
,结果仍是一个矢量,其方向垂直于
a-b
平面,从
a
到
b
遵循右手定则。其大小为:
|a×b| = a·b·sinθ (
方程
7)
2. a·b
,结果仅为一个数值,其大小为:
a·b = a·b·cosθ (
方程
8)
对于正交系统,
a
、
b
和
c
之间的角度都是
90°
,
|a×b| = ab
,
|b×c| = bc
,
|c×a| = ca
,且
Vc = abc
。因此,式
5
变为:
a* = 1/a
,
b* = 1/b
,
c* = 1/c (
方程
9)
根据式
5
给出的定义,可以证明简单立方
(PC)
的倒空间仍然是
PC
(图
6a
),而体心立方
(BCC)
结构的倒空间是面心立方
(FCC)
(图
6b
),反之亦然(图
6c
)。对于六方密堆积
(HCP)
结构,其倒空间仍然是六方结构,倒格子矢量
a*
相对于
a
旋转
60°
,且
a*
和
b*
之间的角度是
60°
,而不是
a
和
b
之间的
120°
(图
6d
)。
图
6
从实空间(基矢量为
a
、
b
和
c
)到倒易空间(基矢量为
a*
、
b*
和
c*
)的转换,分别对应
(a)
简单立方(
PC
)、
(b)
体心立方(
BCC
)、
(c)
面心立方(
FCC
)和
(d)
密排六方(
HCP
)晶格。
3
电子衍射图谱的标定
3.1
粉末衍射图谱的标定
粉末
SAED
图谱的标定类似于
XRD
图谱的标定,但强度可能会有所不同,某些峰可能在
SAED
中不会出现,因为选区可能只包含有限数量的晶体或有限的取向,需要记住
粉末图谱实际上是许多单晶图谱的混合
。如果收集了许多晶体和取向,粉末图谱可能会包含多晶环,例如,来自
Al
多晶薄膜的环形图案
,
是由许多随机取向的
Al
晶粒的
SAED
单晶图谱组成的。
用
CCD
相机拍摄的多晶
Al
薄膜衍射图样
如果通过使用小的
SAED
光阑选择有限的晶体来贡献图谱,环会变得不连续,有时在环上只出现少数斑点。
图
8(a)
是
Na5V12O32
纳米线
SAED
图谱的一个例子。该结构是单斜晶系,空间群为
P21/m
(编号
11
),晶格参数为
a=12.14Å
,
b=3.61Å
,
c=7.32Å
,
β= 106.73°
。图
8(b)
是该样品的
XRD
图谱,已被很好地标定为
Na5V12O32
相(
JCPDS
编号
24-1156
)。
图
8 Na5V12O32
的
SAED
和
XRD
图谱对比。
(a)
粉末
SAED
图谱标定;
(b) XRD
图谱标定。
为了标定图
8(a)
中的图谱,首先在图谱上画一组环,使环穿过反射点。将这些画出的圆圈设置为约
70%
的透明度,以便原始
SAED
上的斑点仍然可见。
通过测量每个环的间距,第一个环的间距为
7.1 Å
,这接近于
XRD
图谱中
d = 7.010 Å
的
(001)
峰。注意,在
XRD
中
(001)
是最强峰,而在
SAED
中这个环上只出现少数斑点,因为选择的是有限区域。
与
XRD
峰相比,其他环可以类似地标定。表
1
列出了环间距与图
8(b)
中
XRD
峰的比较。基本上它们是相互一致的。
应当指出,
XRD
可以常规提供准确的峰位置和强度,而常规
SAED
测量可能包含相对较大的误差。为了更准确的测量,应使用多晶
Al
箔进行相机常数校准,包括相机常数校准和任何可能的
y/x
垂直
/
水平畸变。更多细节将在
后续的内容
中给出。
3.2
单晶衍射图谱的标定
单个
SAED
图谱来自单个晶格。如前所述,晶格由许多晶面组成。这些平面的共同轴
[UVW]
称为带轴,如图
9
所示。一组平行平面产生一排反射,例如反射
g1
是由平行于平面
1
的平面衍射产生的,
g2
是由平行于平面
2
的平面衍射产生的。这里,
g1
和
g2
是倒空间中的矢量。
图
9
晶格的
[UVW]
带轴(上)和衍射图样(下)
由于每个反射矢量
g
hkl
垂直于产生它的
(hkl)
平面,而
[UVW]
带轴位于所有
(hkl)
平面中,
g
hkl
垂直于
[UVW]
带轴,即:
g
hkl
·[UVW] = 0
或
hU + kV + lW = 0
。
如图
10(a)
所示,对单个选区电子衍射图样进行标定的一般方法如下:
1.
测量沿两个不同方向的两个最短倒易矢量
r1
(最短的一个)和
r2
(如果有的话取最短的,或者取第二短的)的长度,并测量这两个矢量之间的夹角
α
。
2.
计算
r2/r1
的比值(
≥1
)和最大晶面间距
d1
,使用
d1 = (Lλ)/r1
公式计算,或使用
CCD
采集软件计算。
3.
如果已知晶体结构,按照
r2/r1
比值的顺序计算所有可能的晶带轴图样,并找出
(h
1
k
1
l
1
)
和
(h
2
k
2
l
2
)
的指数。
图
10 (a)
使用两个最短矢量
r1
和
r2
对选区电子衍射图样进行标定;
(b)
选区电子衍射图样的标定(面心立方结构沿
[011]
晶带轴)。
3.3
复合图谱的标定:孪晶
(
Twins
)
在
TEM
样品中经常发现孪晶,特别是在变形样品中,因为孪生是基本变形机制之一。
图
11
变形不锈钢的孪晶显微组织。
(
a
)
明场像;
(b)
中心暗场像,圆圈区域的选区电子衍射花样如
(c
、
e
、
f)
所示;
(c)
孪晶的选区电子衍射;
(d)
孪晶的结构模型;
(e)
基体的选区电子衍射;
(f)
孪晶的选区电子衍射;
(g)
孪晶标注;
(h)
示意标注
图
11
显示了
316L
不锈钢(
FCC
结构)中的高度孪晶化微观结构。在图
11(a)
的明场
(BF)
图像中,由于存在高密度位错,孪晶不是很清晰。然而,在由孪晶反射形成的中心暗场
(CDF)
图像中,平行的孪晶片清晰可见(如何获得
CDF
图像将在
后续中
讨论)。
图
11(c)
显示了一个典型的孪晶选区电子衍射(
SAED
)图样,该图样是从
基体和孪晶区域同时获得
的。仔细测量表明,在衍射斑点排列中的
1/3
位置出现了额外的衍射斑点。注意,由于所用
TEM
没有磁场旋转,密集排列的衍射斑点方向与孪晶界面垂直。然而,使用
小的
SAED
光阑分别选取基体或孪晶区域时
,可以获得单一的面心立方(
FCC
)晶格的
SAED
图样,如图
11(e)
和
(f)
所示。将这两个图样叠加会得到一个与图
11(c)
中孪晶图样几何形状相似的图样。
为了保持它们的共同晶面指数
(111)
不变,一个晶带轴被标示为
[011]
M
,另一个被标示为
[011]
T
。这里,下标
M
和
T
分别代表基体和孪晶。因此,孪晶图样的标注如图
11(g)
所示。放大部分的示意图如图
11(h)
所示。标注显示,沿着共同的孪晶面
(111)
,来自基体和孪晶的衍射是对称的,这与它们在实空间中的晶格对称于
{111}
孪晶面的情况相一致,如图
11(d)
所示。因此,在
TEM
实验中,如果观察到复杂的衍射图样,可以尝试使用
更小的
SAED
光阑来找出复杂图样的来源
。
在不锈钢样品中,可以发现两种孪晶变体,如图
12
所示。孪晶
1
和
2
的中心暗场(
CDF
)像分别如图
12(b)
和
(c)
所示。来自孪晶
1
和
2
的衍射图样如图
12(d)
所示,可以通过两个步骤分别标注孪晶
1
和孪晶
2
,如图
12(e)
和
(f)
所示。
图
12
变形不锈钢的孪晶显微组织。(
a
)明场像;
(b)
中心暗场像显示孪晶
1
;
(c)
中心暗场像显示孪晶
2
;
(d)
选区电子衍射图显示两种孪晶变体;
(e)
孪晶
1
的标注;
(f)
孪晶
2
的标注。
在六方密堆(
HCP
)系统中,也可以发现孪晶,如图
13
所示的严重变形的
Ti-6Al-4V
合金。图
13(b)
的
CDF
像清晰地显示了薄的孪晶片。从标注可知,孪晶面为
(1011)
。与
FCC
情况类似,来自基体和孪晶的衍射对于它们的共同孪晶面
(1011)
是对称的。
图
13
严重变形的
HCP
结构
Ti-6Al-4V
中的孪晶。
(a)
明场像;
(b)
中心暗场像;
(c)
选区电子衍射图样。
除了具有相对于共同孪生面的镜像对称性的孪晶外,还存在另一种
90°
或接近
90°
旋转的孪晶,这种孪晶在
钙钛矿类立方结构或长周期结构
中很常见。
图
14 CMR Nd0.5Sr0.5MnO3
中的
90°
旋转孪晶。
(a)
室温下无电荷有序的明场像;
(b)
在
-179°C
低温下有电荷有序的明场像;
(c)
加热后再次冷却至
-179°C
时的状态;
(d)