光刻机，这些核心标的公司跟踪好（精选名单）

光刻机，又称为掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等，是半导体制造中用于将设计图案转移到硅片（或其他基底材料）上的关键设备。其工作原理主要是利用光源通过透镜、掩模和投影镜等光学系统，将图案投射到感光材料上，然后通过化学或物理方法形成所需的微细结构。

光刻机是半导体产业中最为重要的设备之一，其应用范围涵盖了半导体芯片、液晶面板、LED等多个领域。在芯片制造过程中，光刻机能够将设计图案高精度地转移至硅片上，从而形成复杂的电路和微小的元件。随着半导体产业的快速发展和技术的不断进步，光刻机在推动产业升级和科技进步方面发挥着越来越重要的作用。

光刻机相关概念股梳理

整机：奥普光电、张江高科、东方港明珠、东方电气

光源：波长光电、茂莱光学、福晶科技

物镜：赛微电子

控制模块：电科数字

洁净设备：蓝英装备、美埃科技、盛美上海

光学器件：腾景科技、炬光科技

结构件：新莱应材、富创精密

温控：海立股份

直写光刻：芯碁微装

激光设备：京华激光

光刻胶：彤程新材、上海新阳

电子特气：凯美特气

显影设备：芯源微

刻蚀设备：中微公司、北方华创

薄膜沉积：拓荆科技、微导纳米

CMP设备：华海清科

量测设备：中科飞测

光刻机核心标的公司

张江高科：公司通过旗下全资子公司间接参股上海微电子装备（集团）股份有限公司。上海微电子旗下600系列光刻机可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

海立股份：海立集团与微电子装备集团双方领导以封装光刻机得冷却系统配套为起点，逐步从零部件级供应合作提升为系统级供应合作。

波长光电：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。在激光检测和测量方向，公司产品目前已进入半导体光刻领域配套检测产业。

奥普光电：长春光机所是公司的实控人，公司是中国科学院长春光学精密机械与物理研究所控股下的唯一上市公司平台。

蓝英装备：公司控股子公司UCM AG为荷兰光刻机制造商ASML公司提供精密清洗解决方案。

茂莱光学：在光刻机领域，公司基于核心技术生产的光刻机曝光物镜用光学器件最大口径可达直径300mm，突破常规透镜尺寸和精度的指标要求，面形精度可达到小于30nm，且在软材料CaF2上也可达到上述面形指标，可以满足KrF、ArF、I线光刻机曝光物镜系统的应用需求。

腾景科技：公司在研项目“合分束器项目”的相关产品即应用于光刻机光学系统。

福晶科技：公司曾通过欧洲代理向ASML提供及其少量光学元件。此外，华为是公司的客户，公司在业务范围内向其提供光学元件产品。

以上内容仅为客观梳理，仅供参考，不构成投资建议。

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