2024年10月4日,Phys. Rev. B在线发表了麻省理工学院
Liang Fu
课题组的研究论文,题目为《
Universal relation between energy gap and dielectric constant
》。
具有体相
能隙的绝缘态无处不在:
例如半导体、莫特绝缘体和量子霍尔态。
如果基态与激发态之间存在一个有限的能隙,那么在低频下,零温电导率必然会消失。
近几十年来,在理解各种类型的绝缘态(包括量子霍尔态和拓扑绝缘体)的基态性质方面取得了重大进展。
另一方面,尽管绝缘态的能隙具有根本重要性,但它很少受到关注。
半导体的能隙决定了它们的电学和光学性质。
拓扑绝缘体的能隙限制了观测量子化电导的温度。
最近,研究发现了(整数或分数)Chern绝缘体能隙的基本上限,该上限仅由电子密度和基态Chern数决定。有趣的是,对于朗道能级系统中的量子霍尔态,这个界限是饱和的,而对于零磁场下转角半导体中的Chern绝缘体,这个界限则相当严格。因此,它为寻找大能隙拓扑材料提供了指导原则,并揭示了基态拓扑与激发谱之间的
深层
联系。
在此研究中,作者
建立了所有绝缘态的能隙和静态介电常数之间的普遍关系
。
这种关系产生了能隙的上限,
它只取决于电子密度和电子介电常数
。研究
确定了两种与长波长横向和纵向激发相关的能隙,分别对应于光学能隙和等离子体能量,它们的上限分别由介电常数及其倒数确定
。计算了各种材料的横向能隙界限,并将其与测量的光学能隙进行了比较。一个显著的例子是立方氮化硼,其中直接能隙达到界限的72%。这项研究结果来源于Kramers-Kronig关系和
f-sum
规则,因此基于一般的物理原理。
图1
光学能隙(横向能隙)、介电常数ε和电子密度n之间的普遍关系
图3
纵向能隙、介电常数ε和电子密度n之间的普遍关系
图5
纵向能隙(等离子体能量)、横向能隙(光学间隙)和介电常数ε之间的近似不等式关系
Onishi, Y. & Fu, L
.
Universal relation between energy gap and dielectric constant
.
Phys. Rev. B
,
2024
,
110, 155107
.
https://doi.org/
10.1103/PhysRevB.110.155107
【其他相关文献】
[1]
Penn, D.R. Wave-number-dependent dielectric function of semiconductors.
Phys.
Rev
.,
1962
, 128, 2093
. https://doi.org/
10.1103/PhysRev.128.2093
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