【产业年终盘点】中国31城市集成电路流片支持政策大全

正文

2014 年 6 月，国务院印发《国家集成电路产业发展推进纲要》。《纲要》部署充分发挥国内市场优势，营造良好发展环境，激发企业活力和创造力，带动产业链协同可持续发展，加快追赶和超越的步伐，努力实现集成电路产业跨越式发展。

《纲要》的主要任务和发展重点是：着力发展集成电路设计业；加速发展集成电路制造业；提升先进封装测试业发展水平；突破集成电路关键装备和材料。

在《纲要》的推动下，国内各大城市纷纷全面布署集成电路产业，并纷纷制定各种集成电路产业扶持政策。各地政策中都有专门条款针对 流片 进行支持。

芯思想研究院对我国 32 个城市的集成电路产业发展支持政策进行了整理和分析，除了济南外，其他 31 个城市的集成电路 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 （ Full Mask ） 给予一定比例的资金支持。

1 、 北京

2016 年 12 月 北京中关村国家自主创新示范区出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

支持集成电路设计企业加大新产品研发力度。重点支持集成电路设计企业流片和 掩模 版制作。对开展工程产品首轮流片的集成电路设计企业，按照该款产品首轮流片合同金额的 20% 或 掩模 板制作合同金额的 20% 予 以 研发 资金支持 。 且合同须已执行。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

2 、 上海

2017 年 11 月 上海市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对经过全掩模流片，以及首次与本市集成电路制造企业签订流片合同，利用其生产线实现线宽在 45 纳米及以下工程产品流片的设计企业，给予不超过产品流片费用（流片费包括： IP 授权费、 掩模 版费、测试化验加工费）的 30% 的资金 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 1 500 万元 。

3 、 天津

3.1 滨海新区

2014 年 2 月 天津滨海新区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业使用本市代工企业进行 IP 验证、研发流片等的给予合同额 10% 的资金 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。

3.2 西青区

2019 年 1 月 天津西青区出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业参加多项目晶圆项目，按照直接费用的 80% 给予 支持 ；对设计企业掩模制作费用，按照直接费用的 40% 给予 支持 ；对设计企业工程片、试流片加工费用的 40% 给予 支持 。 三项支持合计计算。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

4 、 重庆

2018 年 8 月 重庆市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对使用多项目晶圆流片进行研发的企业，按照多项目晶圆 （ MPW ） 流片费 50% 的比例给予资金支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。

对实际到位投资 2000 万元以上的集成电路设计企业，按照其每款产品完成首次全掩模工程流片费用 50% 的比例给予资金支持 （流片费包括： IP 授权费、掩模版费、测试化验加工费）。

单一企业年度支持总额最高不超过 1000 万元 。

同时，还对晶圆制造企业给予支持 。 对集成电路制造企业开放产能为企业代工流 片 的，按照每片（折合 8 英 寸片） 100 元的标准给予资金支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 1000 万元 。（ 将有利于华润微电子重庆 ）

5 、 南京

2016 年 3 月 南京市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持

对集成电路设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片，按照该款产品 掩模 版制作费用的 60% 或首轮流片费用的 30% 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。

5.1 浦口区

2019 年 3 月 南京 浦口区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对于首次完成全掩模工程产品流片或开展多项目晶圆首轮流片的集成电路设计企业，叠加市级奖补给予直接费用最高不超过 60% 的 支持 ；对再次完成全掩模工程产品流片的，给予直接费用最高不超过 50% 的 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

6 、 无锡

201 8 年 2 月 无锡出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对拥有自主知识产权，且对工艺制程达到一定节点的产品进行工程流片（含 MPW ）的设计企业，择优最高按照该款产品首轮流片（含 IP 授权、掩模制版）费用的 40% 给予支持；对在本地生产企业掩模流片的，择优最高按首轮流片费用的 60% 给予支持 。

工艺制程为 45nm 以上的， 单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

工艺制程达到 45nm 及以下的 ， 单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

7 、 苏州

2019 年 苏州 工业园区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业拥有自主知识产权的产品进行首轮流片（ MPW 或工程流片）产生的费用，给予最高 50% 的 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

对注册在园区的集成电路制造、封装测试等企业，为园区集成电路设计企业提供流片、封装、测试服务的，给予实际服务金额 10% 的 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。 （ 将有利于和舰芯片制造、晶方半导体 ）

8 、昆山

2018 年 6 月昆山 市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对 IC 设计企业开展的符合一定条件的工程产品首轮流片，按该产品掩模制版费用的 60% 或首轮流片费用的 30% 给予 支持。

单一产品年度支持总额最高不超过 200 万元 ； 单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

9 、 南通

2017 年 11 月 南通 港闸区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业用于研发的多项目晶圆（ MPW ），可享受多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用 70 % 的 支持 、工程片试流片加工费 40% 的 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元，连续支持 3 年 。

10 、 常州

2019 年 5 月 常州 武进区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对工程流片（含 MPW ）的设计企业，最高按照该款产品首轮流片（含 IP 授权、掩模制版）费用的 50% 给予支持 。

工艺制程 40nm 以 上 产品支持总额不超过 300 万元 ， 工艺制程达到 40nm -28 nm （不含 28 nm ） 产品支持总额不超过 500 万元 ， 工艺制程达到 28nm 及以下产品支持总额不超过 800 万元 。

单一企业年度支持总额最高不超过 1000 万元 。

11 、 杭州

2018 年 7 月 杭州市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对进行重点支持领域工程产品流片的集成电路企业，给予其该款产品 掩模 版制作费用的 50% 或首轮流片费用的 30% 的支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

11.1 杭州高新区

2019 年 11 月 杭州高新区出 台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持。

对进行重点支持领域工程产品流片的集成电路企业，给予其该款产品 掩模 版制作费用的 50% 或首轮流片费用的 30% 的支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

12 、宁波

2019 年 2 月 宁波高 新区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对区内集成电路设计、制造企业进行工程流片的费用，按照当年实际发生额给予 50% 的 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

13 、绍兴

2018 年 绍兴 越城区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对在本区集成电路生产企业进行重点支持领域的工程产品流片的设计企业，按该款产品 掩模 版制作费用的 60% 或者首轮流片费用的 30% 给予研发支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

14 、海宁

2018 年 6 月 海宁市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

鼓励集成电路设计企业开展符合一定条件的工程产品首轮流片，按照该款产品 掩模 版制作费用的 60% 或首轮流片费用的 30% 给予 支持。

最高不超过 200 万元研发支持 。

单一产品年度支持总额最高不超过 200 万元 ； 同一企业每年支持上限为 500 万元。

15 、青岛

2019 年 2 月 青岛 红岛经济区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对注册在红岛的 独立法人公司 或 商及税务注册地迁至红岛经济区 的公司， 按照产品掩模版制作费用的 60% 或首轮流片费用的 40% 给予支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 150 万元，连续支持 3 年 。

16 、合肥

2018 年 4 月合肥市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

集成电路设计企业参加 MPW 项目（多项目晶圆项目，含单企业 MPW ），同一设计型号首轮流片、再次流片分别按 50% 、 30% 给予 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

企业进行工程流片，按照工程型号产品 掩模 版制作费用或首轮流片费用的 30% 给予 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

16.1 合肥高新区

2018 年 8 月 合肥高新区出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业产品流片（含掩模版等）费用的 30% 及从第三方购买 IP （含 Foundry 的 IP 模块）费用的 30% 予以 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

17 、芜湖

2019 年 7 月芜湖市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

微电子设计企业参与研发的多项目晶圆（ MPW ），可享受最高不超过 MPW 直接费用 70% （高校或科研院所 MPW 直接费用 80% ）、工程片试流片加工费 30% 的 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

本地微电子设计企业利用本地芯片生产线流片，按首次工程流片费用（含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等）的 40% 给予 支持。 （芜湖 本地芯片生产线 在哪里）

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

18 、广州

2018 年 9 月广州黄埔区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

企业研发多项目晶圆（ MPW ）流片的，按直接费用的 80% 给予 支持 ；企业购买光罩、研发全 掩模 （ Full Mask ）流片的，按直接费用的 40% 给予 支持 ；企业研发工程片、试流片的，按加工费用的 30% 给予 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

19 、深圳

2019 年 4 月 深圳市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对于使用多项目晶圆进行研发的设计企业，给予多项目晶圆直接流片费用最高 70% 的支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

对于首次完成全掩模工程产品流片的企业，给予流片费用最高 50% 的支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

19.1 坪山区

2019 年 5 月坪山 区出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对集成电路设计企业参加多项目晶圆 （ MPW ） 项目，按多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用的 80% 进行支持； 高校或科研院所参加多项目晶圆 （ MPW ） 项目的，按多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用的 90% 进行支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

对利用坪山区 晶圆制造 企业开展多项目晶圆 （ MPW ） 的集成电路设计企业 ， 按多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用的 80% 进行支持 ； 对利用坪山区 晶圆制造 企业开展多项目晶圆 （ MPW ） 的高校或科研院所，按多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用的 90% 进行支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 400 万元的资助 。（ 有利于中芯国际深圳 ）

对集成电路设计企业首次工程流片进行资助，按首次工程流片费用（含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等）的 30% 进行支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

对利用坪山区企业集成电路生产线流片的，按首次流片费用的 60% 进行支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。（ 有利于中芯国际深圳 ）

19.2 龙岗区

2019 年 7 月龙岗区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

给予不超过上一年多项目晶圆 （ MPW ） 流片 （ 含 掩模 版 ） 实际发生金额、单个项目最高 100 万元扶持， 单一企业年度支持总额最高不超过 300 万元 。

于完成小于 90nm 全 掩模（ Full Mask ） 工程产品流片的项目，给予不超过流片费用 （ 含 掩模 版），其中，工艺制程小于 90nm 、大于 45nm （ 不含 ） 的，单个项目最高扶持 50 万元，小于 45nm 、大于 28nm （ 不含 ） 的，单个项目最高扶持 200 万元，小于 28nm 的，单个项目最高扶持 300 万元；同一项目只扶持 1 次 。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

20 、珠海

2019 年 1 月 珠海高新区出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

集成电路设计企业在参加多项目晶圆（ MPW ）、工程片试流片阶段，市财政对企业多项目晶圆（ MPW ）直接费用给予最高 70% 的 支持 ，区财政再给予 10% 的 支持 ；市财政对企业首次工程片流片加工费（含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等）给予最高 30% 的 支持 ，区财政再给予 20% 的 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元（其中区财政不超过 200 万元） 。

21 、东莞

2017 年 12 月 东莞 松山湖高新技术产业开发区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

购买多项目晶圆 （ MPW ） 项目费用，给予 50% 的 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。

购买光罩 （ MASK ） 费用，给予 30% 的 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 150 万元 。

22 、福州

2017 年 9 月 福州 高新区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

对 IC 设计企业参加多项目晶圆（ MPW ）项目，采用 180nm 以上工艺，给予 MPW 直接费用 40% 支持 ；采用 180nm 及以下工艺，给予 MPW 直接费用 45% ；对企业在本地代工厂采用 90nm 及以下工艺，给予 MPW 直接费用 50% 支持 ；成立不足 3 年的企业申请首件 MPW 支持 ，最高给予 MPW 直接费用 80% 支持。 （ 实在不知福州 本地代工厂 有 90nm 及以下工艺 ）

单一企业年度支持总额最高不超过 100 万元 。

23 、厦门

2016 年 6 月 厦门 市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。 2018 年 10 月 进行了修订、增补。

用于研发的集成电路企业多项目晶圆 （ MPW ） ，按照不高于多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用 70% 进行资助 ， 针对硅 CMOS 工艺最小线宽≤ 55nm 、 GaAs MMIC 工艺最小线宽≤ 250nm 等两类先进工艺，按照不高于多项目晶圆 （ MPW ） 直接费用 80% 进行资助；用于研发的集成电路企业工程片试流片按照不高于其加工费 30% 进行资助 ， 针对硅 CMOS 工艺最小线宽≤ 55nm 、 GaAs MMIC 工艺最小线宽≤ 250nm 等两类先进工艺，工程片试流片按照不高于其加工费 40% 进行 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

同时政策规定，本 地集成电路企业利用本地集成电路生产线流片，按首次工程流片费用（含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等）的 40% 给予 支持。

单一企业年度支持总额最高不超过 500 万元 。

23.1 厦门海沧区

2017 年 6 月 22 日厦门海沧区 出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

利用厦门集成电路生产线流片，按首次工程流片费用（含 IP 授权或购置、掩模版制作、流片等）的 50% 给予 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 600 万元 。

24 、泉州

2018 年 8 月 泉州市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 。

按 MPW 直接费用的 80% 给予 支持 ；企业参加工程流片项目，对同一流片项目工程流片费用给予 50% 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 200 万元 。

25 、晋江

201 6 年 10 月 晋江 市出台政策对 多项目晶圆 （ MPW ）和 全掩模流片 进行支持 ， 2019 年 5 月 对政策进行了修订、增补，于 2019 年 6 发布修订版。

对采用多项目晶圆技术的集成电路设计企业，按 MPW 直接费用的 80% （高校或科研院所按 90% ）给予 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过 400 万元 。

对采用全 掩模 工程片流片的，按照其每款产品首次工程流片费用（ 掩模 版费及流片加工费）的 30% 给予 支持 。

单一企业年度支持总额最高不超过

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