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全球最大芯片光刻设备市场供货商阿斯麦 (ASML) 今日公布 2017 第二季财报。 ASML 第二季营收净额 (net sales) 21 亿欧元，毛利率 (gross margin) 为 45%。在第二季新增 8 台 EUV 系统订单，让 EUV 光刻系统的未出货订单累积到 27 台，总值高达 28 亿欧元。（均价达8亿人民币一台）
预估 2017 第三季营收净额 (net sales) 约为 22 亿欧元，毛利率 (gross margin) 约为 43%。因为市场需求和第二季的强劲财务表现， ASML 预估 2017 全年营收成长可达 25%。
ASML 总裁暨执行长温彼得 (Peter Wennink) 指出 : 「 ASML 今年的主要营收贡献来自内存芯片客户，尤其在 DRAM 市场需求的驱动下，这部分的营收预估将比去年成长 50%，而来自逻辑芯片方面的营收也可望成长 15%。除了 DUV 光刻系统的业务持续成长，在 EUV 光刻系统部分，未出货订单累积金额在第二季已经累积到 28 亿欧元，显示不论逻辑芯片和 DRAM 客户都积极准备将 EUV 导入芯片量产阶段。」
此外， ASML 近年来积极推行系统升级业务，该部分的营收贡献可望在今年成长 20%。「综
合市场和各业务领域的捷报，我们认为成长动能将延续到 2018 年，」温彼得说。
作为为数不多的芯片光刻设备供应商，唯一一家EUV设备提供商，ASML在刚过去的一个季度表现非常亮眼，主要体现在以下几个方面：
（1）深紫外光 (DUV)光刻
ASML推出最新浸润式光刻系统 TWINSCAN NXT:2000i，具备多项硬件技术创新，让客户得以在 7 奈米和 5 奈米制程节点上，同时用浸润式光刻和 EUV 系统进行量产，并达到 2.5 奈米的迭对精度(on-product overlay)。另一方面， 3D NAND 客户对于KrF 干式光刻系统的需求持续升高，目前 TWINSCAN XT:860 的未出货订单已累积超过20 台。 TWINSCAN XT:860 系统的生产力可达到每天曝光 5,300 片晶圆。
（2）全方位光刻优化方案 (Holistic Lithography)
本季开始出货最新的 YieldStar 375F 量测系统，具备最新的光学技术，可更快、更精准的获取量测结果。
（3）极紫外光(EUV)光刻
在荷兰总部已经成功将升级的 EUV 光源整合进 NXE:3400B 系统中，并达成每小时输出 125 片晶圆的生产力指标。至此， ASML 的 EUV 系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段， ASML 将专注于达成满足客户在量产时所需的相关妥善率(availability)指标，并持续提升系统生产力。
在第二季当中， ASML 也完成了对德国卡尔蔡司(ZEISS)旗下蔡司半导体(Carl Zeiss SMT) 24.9%的股权收购，以进一步深化双方的策略伙伴关系，共同发展下一代 EUV 光刻系统。
展望 2017 年第三季， ASML 预估整体销售净额可达 22 亿欧元，毛利率约落在 43%，其中包含约 3 亿欧元的 EUV 营收认列。研发投资金额提高到 3.15 亿欧元，其他收入部份 (包括来自于客户共同投资计划的收入)约为 2,400 万欧元，而管销费用 (SG&A) 支出则约 1.05 亿欧元，年化税率约 14%。 ASML 预计在第三季会有另外 3 台 NXE:3400B EUV 光刻系统完成出货。
阿斯麦公司ASML Holding NV(NASDAQ:ASML、Euronext:ASML)创立于1984年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。前称ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改为现用名，总部位于荷兰费尔德霍芬（Veldhoven），全职雇员12,168人，是一家半导体设备设计、制造及销售公司。
阿斯麦公司为半导体生产商提供光刻机及相关服务，TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。
目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，例如英特尔，三星，海力士，台积电，联电），格芯及其它半导体厂。随着摩尔定律的发展，芯片走向了7nm以下，这就需要更高级的EUV光刻系统，全球只有ASML的NXE:3400B能够满足需求。
ASML的光刻机怎样帮芯片助力？我们可以看一下ASML官方的介绍：
简单来说，我们制造的光刻设备是一种投影系统。这个设备由50000个零件组装而成。
实际使用过程中，则通过激光束被投穿过一片印着图案的蓝图或光掩模，光学镜片将图案聚焦在有着光感化学涂层的硅晶圆上，当未受曝光的部分被蚀刻掉时，图案随即显现…
此制程被一再重复，用以在单个芯片上制造数以十亿计的微型结构。晶圆以2纳米的精准度互相叠加，并加速移动，快如闪电，达到这种精确度可谓高科技，要知道，即使头发丝也有十万纳米，2纳米的精细可想而知。
未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。
随着半导体制程
演进到
28纳米
以下的竞争区间，
全球半导体行业竞争进入到“下半场”，
资本大厂的投资增长惊人，
有这样资本条件
继续向下走的企业越来越少。
可，在这样的潮流中，
为什么三星、台积电、英特尔
这三家直接竞争对手企业争相投资ASML？
用一位国际半导体大厂
经理级主管的话来说：
“它（ASML）不做，没人能做的出来。”
解释一下，
就是ASML如果不将光刻技术继续创新，
那无论是三星、台积电、英特尔，
都可能面临制程
技术停滞
的危险。
1984年4月1日，
ASML从飞利浦集团脱离出来，
由三位创始人
在一家荷兰小木屋里开始创业，
而正是这样一个举动，
就像是在国际半导体行业
种下了一颗种子，
如今，这颗种子
已经冲破了坚硬的土壤，
一飞冲天。
开放式创新
“我们相信，外头一定有人做的更好”
在ASML刚刚起步的时候一无所有，
只能独自熬过开发周期，
于是，
所有的人只能专心想着一件事：
该如何整合现有资源，
并开发外部资源，让其为我所用。
现在看来，ASML的这项策略
已经成为商学院经典教材。
被誉为
开放式创新
之父的
美国加州伯克利大学的教授
亨利·加斯博提到：
