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台积电先前一再表示,ASML的高数值孔径极紫外光机台(High-NA EUV),太过昂贵,2026年前使用没有太大的经济效益,但日前台积电总裁魏哲家密访ASML总部,让外界不禁猜测,台积电是否改变心意。
根据韩媒 Business Korea 报道,台积电首席执行官魏哲家撇开了 5 月 23 日自家举办的“台积电 2024 技术研讨会”,前往荷兰访问位于 Eindhoven 的 ASML 总部,以及访问德国 Ditzingen 的工业激光专业公司 TRUMPF。
ASML 首席执行官 Christophe Fouquet 和 TRUMPF 首席执行官 Nicola Leibinger-Kammüller 通过社交媒体透露了魏总秘密出访的行踪。
首席执行官 Fuke 表示:“我们向魏总介绍了我们的最新技术和新产品,包括高数值孔径(High NA)EUV 设备将如何实现未来的半导体微处理技术”。
金融分析师奈斯泰德(Dan Nystedt) 28日在X平台发文写道,台积电似乎加入了追逐下一世代EUV设备之战,即High-NA EUV机台,理由是魏哲家访问ASML与雷射供应商创浦,而非参与在台湾举行的技术论坛。业界推断,魏哲家的到访,显示台积电想买High-NA EUV,此种设备对2奈米以下制程极为关键。ASML去年底已出货首台High-NA EUV给英特尔。
前一段时间,台积电(TSMC)举办了2024年北美技术论坛,首次公布了A16制程工艺,将结合纳米片晶体管和背面供电解决方案,以提升逻辑密度和能效,预计2026年量产。随后台积电确认,A16制程工艺并不需要下一代High-NA EUV光刻系统的参与。
台积电原本打算2026年下半量产1.6奈米制程后,再导入High-NA EUV。High-NA EUV 设备报价高达3.8亿美元,约新台币123亿元,较EUV高出逾一倍。
台积电张晓强博士 5 月 14 日出席在阿姆斯特丹举办的技术研讨会时直言:“ASML 的 High-NA EUV 太贵了,我非常喜欢 High-NA EUV 的能力,但不喜欢它的价格”。
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