#工信部推广国产氟化氩光刻机# “总结来说，这次曝光的65nm分-20240916103044

#工信部推广国产氟化氩光刻机# “总结来说，这次曝光的65nm分辨率的国产DUV光刻机，应该只是之前的90nm分辨率的国产光刻机的改良版，还只能用于55-65nm的成熟制程芯片制造需求，还远达不到大家期望的制造28nm制程芯片的要求。

当然，相比之前最先进的90nm分辨率国产光刻机来说，新的65nm分辨率的国产光刻机至少是已经有了一定的进步。

但是，我们依然需要清醒的认识到我们与国外先进水平之间的差距，不可盲目乐观。”

…援引结束…

看到好多媒体和大V都在尬吹。

实际情况是：比之前有进步，但还远未达到28nm制程的要求。