官宣，特大利好！

中秋期间最大的利好是国产光刻机的突破。

工信部9月9日发布了首台套重大技术突破装备应用目录，首次披露了国产最新光刻机的信息，照明波长是193nm，制程小于65nm。

光刻机按照光线可以分成深紫外光刻机DUV和极紫外光刻机DUV，DUV的波长都是193nm，EUV的波长大幅降低到13.5nm。

按照刻蚀方法可以分成干式和浸润式，干式就是光线直接在硅片上画图，浸润式就是在光线和硅片之间加一层纯净水，光线经过水的折射以后， 可以大幅缩小波长，提升光刻精度。

目前比较先进的光刻机可以分成三类，最先进的是浸润式EUV光刻机，主要用来做7nm以内最先进的芯片，其次是浸润式DUV光刻机，可以做14-28nm的芯片，最后是干式DUV光刻机，可以做28nm以上的制程的芯片。

国内官宣的这个光刻机应该是干式DUV光刻机，最高可以做到28nm制程。虽然还比较落后，但是全球目前还没有一个国家能够独立开发光刻机，荷兰的光刻机使用了美国，德国，日本等多国的技术，国内能够独立开发一个光刻机，已经非常不错了。

半导体设备这个产业属于典型的万事开头难。

一条半导体制造产线的投资高达几百亿，正常情况下半导体制造企业都会选择最先进的成熟设备公司，不会给新手试验机会。

毕竟一台设备出现BUG，会对整条产线的生产造成重大影响，第一台设备是最难开发突破的，新进入者很难获得机会。

随着美国对中国制裁持续升级，18年以后，国内半导体设备行业取得了突飞猛进的发展，大量国产半导体设备获得试验的机会，像北方华创，中微公司，拓荆科技这些头部企业都是18年以后发展起来的。

一旦有了首台设备，交付客户持续使用以后，就会快速发现问题，持续迭代升级，接下来的进步速度会大大加快。

国内半导体产业长期发展问题不大，半导体设备和制造说到底就是一个高端制造业，比一般工厂多了一些技术难度，但最需要的还是吃苦耐劳，服从指挥的工程师群体，除了学历高点，跟一般工厂流水线上的工人区别不大。

美国半导体制造基本彻底歇菜，美国本土半导体制造企业英特尔搞得一塌糊涂，先进制程迟迟不能突破，美国吸引台积电和三星去建厂困难重重，核心问题就是美国缺乏吃苦耐劳，服从指挥的半导体产业工人，现在没有，未来也很难培养。

全球芯片主要有65nm，28nm，14nm和7nm这几个关键节点，65nm基本可以满足所有军工芯片的生产，28nm基本可以满足所有工业和家电类芯片的生产，14nm基本可以满足可穿戴设备和汽车芯片生产，7nm以上芯片主要满足手机，电脑和AI芯片的需求。

随着干式DUV光刻机的顺利量产，国内军工，工业和家电产品的芯片需求基本可以得到保障。

......

制冷剂板块也迎来一个利好。

国家正式公布了25年制冷剂配额方案，增加第三代制冷剂R32的配额4.5万吨，减少第二代制冷剂R22的配额3.3万吨。

国内制冷剂主要分成第二代制冷剂R22和第三代制冷剂R32和R134a ，其中R22主要用于空调维修市场，R32主要用在空调生产市场，R134a主要用在汽车空调市场。

第二代制冷剂和第三代制冷剂都会造成环境污染，国内第二代制冷剂产量24年开始缩减，第三代制冷剂产量2030年开始缩减，第四代制冷剂木不会造成环境污染，但是目前单吨价格高达30万，性价比太低。

25年以后国内制冷剂处于供不应求的状况，产品价格有望持续提升。

24年国内家电领域突然开始搞以旧换新的补贴政策，空调生产需要的制冷剂大超预期，为了保障空调生产，国家放宽了一些25年制冷剂的产量，避免影响空调生产，但是不会影响制冷剂涨价的长逻辑。

制冷剂板块可以重点关注巨化股份和三美股份。