三星宣布，新加入了11nm LPP工艺，性能比此前的14nm提升了15%，单位面积的功耗降低了10%。三星将于9月15日在东京举办的半导体会议上公布，未来的技术还会有所提升。
三星表示，10nm用于旗舰手机，11nm用于中高端，来提供给不同需求，预计2018年上半年在市场投放。与此同时，三星也成为了市场上最先确认7nm的企业，其7nm LPP定于2018下半年量产，采用EUV极紫外光刻技术。
来源：尖端科技
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