巴斯夫有机TFT墨水产线 持续扩大

印刷电子技术(Printed Electronics)的应用，现在逐渐扩张到显示器、智能封装、传感器、穿戴式装置、甚至保全系统等领域，德国化学材料大厂巴斯夫(BASF)面对此一市场趋势，开始进行有机TFT(薄膜晶体管)相关材料事业的集成，推动新的有机半导体墨水事业圈。

巴斯夫现下对顾客强调，该厂在有机半导体材料墨水领域，有4大优势：1，不管是有机半导体、介电层、或其它外围材料，都有完整产品线；2，可因应客户需求客制化的墨水包装；3，最高产品质量与供货质量保证；4，具有实际生产较大面积与较复杂回路有机TFT产品的成绩。

在若干具体产品与技术上，比方光刻技术，通常要经过5道程序：涂光刻胶、曝光、显影、蚀刻、去除光刻胶。但巴斯夫对应直接光刻(DirectPhotopatterning)的有机材料，不需要涂上光刻胶，只要曝光与显影步骤即可完工，工程量可大幅降低。

同样的技术还可用在介电层的制作，半导体层与介电层各用2道程序即可完成，比起原来处理半导体层就要5道工序，还少1道工序，优势相当明显。

巴斯夫同时指出，若以该厂P4100有机电子材料进行直接光刻的话，与传统制程相比，电流开关比(On/Offratio)可从10的4次方增为10的8次方，载流子迁移率为0.4cm2/Vs。

而因应厂商需求不同，也有不同性质的材料，比方p型半导体墨水材料中，P3100与P5100以相同制程做出的产品，主要差异在P3100产品的载流子迁移率在0.5~0.9 cm2/Vs之间，P5100则可达4 cm2/Vs。而不管是哪里种材料，成品特性均一，不易找到缺陷。

巴斯夫在日本2017年的Printable Electronics 2017中，并未详细说明n型有机半导体材料特性，仅简单表示如N5000材料的情况，载流子迁移率约达1.5cm2/Vs。从资料上推测，使用该厂的p型与n型半导体，甚至可制成CMOS半导体产品。

现在巴斯夫集成有机半导体墨水产品线，积极对外推销，不仅是推广产品，同时也欲对有意合作的厂商提供制程与咨询，指出其产品适用于高分辨率液晶显示器、OLED显示器、CMOS半导体、以及线圈或传感器等领域，值得注意。

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