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给晶体拍“CT”,登顶Nature!

顶刊收割机  · 公众号  ·  · 2024-12-18 08:18

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研究背景

五氧化二钒(V 2 O 5 )是一种重要的功能材料,广泛应用于催化、能源存储与转换等领域,尤其在硫酸生产中的催化作用具有重要意义。与传统的催化材料相比,V 2 O 5 由于其优异的催化性能和成本效益,成为了重要的研究对象。然而,V 2 O 5 的性能在很大程度上依赖于其微观结构,特别是晶粒的分布、晶界的取向以及其中的缺陷结构。因此,如何在纳米尺度上精确地表征这些微观结构,仍然是提高V 2 O 5 及类似材料性能的重大挑战。
成果简介
为了解决这一问题, 苏黎世联邦理工学院Andreas Apseros, Valerio Scagnoli,广岛大学Claire Donnelly等人 合作在Nature期刊上发表了题为“X-ray linear dichroic tomography of crystallographic and topological defects”的最新论文。
该团队设计并采用了X射线线性二向色性取向层析(XL-DOT)技术,成功实现了对V 2 O 5 多晶样品在纳米尺度上的三维成分和微观结构映射。通过利用XL-DOT,该团队能够在非破坏性条件下,获得关于V 2 O 5 晶粒、晶界、拓扑缺陷等的详细信息,空间分辨率达73纳米。这一技术突破,显著提高了对材料微观结构的表征能力,尤其是在高温和操作条件下的研究。
该研究不仅实现了晶粒内外结构的三维表征,还揭示了由于体积晶体缺陷的存在,拓扑缺陷的动态变化过程。这一发现为研究人员提供了新的思路,帮助他们理解V 2 O 5 在催化反应中的微观机制,并为后续的材料设计与优化提供了理论依据。XL-DOT技术的应用,不仅提高了V 2 O 5 等多晶材料的性能,还为其他功能材料的研究开辟了新的技术路径。
研究亮点

(1)实验首次使用X射线线性二向色性取向层析(XL-DOT)技术,对多晶和非晶材料在三维空间内进行了纳米尺度的晶粒、晶界和拓扑缺陷的表征,获得了高分辨率的三维组成和微观结构映射。
(2)实验通过获取同步辐射X射线相干成像投影,结合定制的重建算法,成功地实现了对V 2 O 5 样品的晶体取向、晶粒划分及缺陷的精确表征,空间分辨率达到73纳米。通过该方法,能够观察到晶粒内外的微观结构特征,包括扭转、倾斜和孪晶边界,揭示了由体积晶体缺陷引发的拓扑缺陷的产生和消失。
(3)实验进一步通过对V 2 O 5 样品进行非破坏性、定量化的三维表征,揭示了样品在操作条件下的微观结构和晶体缺陷的动态行为,推动了材料在能源、机械和量子材料等领域的应用研究。
图文解读

图1:XL-DOT实验装置
图2:使用XL-DOT进行材料组成和微观结构的三维纳米尺度映射
图3:使用XL-DOT检测的晶体缺陷
图4:晶体体积和拓扑缺陷
结论展望






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