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你想知道的XPS的那点事

革鑫纳米  · 公众号  ·  · 2017-09-12 11:49

正文

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X-光电子能谱仪 (X-ray Photoelectron Spectroscopy 简称XPS),又称化学分析用电子谱(ESCA),是一种常规的表面表征手段,除了可表征材料的组成成分、各组成成分所处的化学状态,还可定量的表征每种化学状态的相对含量,使得XPS广泛地应用于材料研究的各个领域。



XPS基本原理


XPS利用X-射线照射样品表面,常用的X-射线源是Al-Kα射线单色源,能量为1486.6eV,激发原子内层能级电子跃迁,逃逸出样品表面,由于光电子携带样品的特征信息(元素信息、化学态信息等),通过测量逃逸电子的动能,就可以得知样品中的元素组成和化学态信息。


图1:光电子激发示意图    图2:典型光电子谱(Au)



XPS仪器设备


图3  PHI 5000 Versaprobe Ⅱ设备

在 ULVAC-PHI 最近期的 PHI  5000 Versaprobe 仪器上, Versaprobe 这个字, 本身就可拆成 Versa (多样的) 与 probe (束斑源)两个字, 其设计的原意也就如字面”多样束斑源”所表达, 仪器先是以X-射线光电子能谱为核心, 再预留了多个方位的端口以提供研究人员 选择加入各种的分析源。下图4、5就示意了 Versaprobe 所预留的各个端口的方位, 及各端口分别可加上的分析源的信息。之后本文将针对每一个标准或选项的分析源作出简单的图文解释。

图4  Versaprobe仪器上端口方位示意图


图5 各端口可加上的分析源.


除仪器标准配备的 Focus Scanning X-ray Source (聚焦扫瞄式X-射线源) ,Argon sputter ion gun (氩离子枪)与Low Energy Electron Neutralizer (低能量电子中和枪)之外, 还供研究人员可选择的包括有 Hot/Cold Stage (加热冷却样品台),UHV sample preparation chambers (超高真空预抽与气体反应室), Ar2500 GCIB团簇Ar离子枪,UV light source for UPS (紫外光光电子能谱),Dual anode X-ray source (双阳极X-射线源) 与及 Electron gun for AES (电子枪以作俄歇电子能谱分析)。


  • 聚焦式扫瞄X-射线源 (Focus X-ray Source) – Versaprobe标准配备


以 ULVAC-PHI 专利设计的扫瞄式 X-射线, 让光电子能谱也可以作出有效率的微区分析。


图6  Versaprobe上聚焦扫瞄 X-射线的设置产生过程

* JP Patents P3752252, P3754696 (日本专利号码)

* US Patents 5,331,513; 5,444,242 (美国专利号码)

* EP Patents 0590308B1, 1170778A3, 1220280A3 (欧洲专利号码)

图7   利用扫瞄X-射线所产生的二次电子成像, 并对缺憾点作出微区分析得出来准确的XPS图谱结果. 样品为PET,并得出污染物为氟(F)。


  • 氩离子枪 (Ar Sputter ion gun) – Versaprobe标准配备

氩离子枪的主要功用为样品清洁,深度(纵深)分析及样品中和等。

图8   Versaprobe上所使用的 FIG-5 型号离子枪, 后方气瓶为氩气 (Ar)


图9 在Ni/Cr薄模上, 执行Zalar纵深分析的结果,层结构随着氩离子枪的溅射一层一层都可以清楚的使用XPS分析出来。


  • 中和枪 (Electron Neutralizer) – Versaprobe标准配备


低能量的电子枪 以接近漂浮的状态再配上低能量的氩离子同时进行样品的中和作用。

图10  ULVAC-PHI 所专利设计的双源中和系统.

* JP Patent P3616714 (日本专利号码)

* US Patent 5,990,476 (美国专利号码)

* EP Patent 0848247B1 (欧洲专利号码)


  • 紫外光光源组件 (UV Light source) – Versaprobe选项配备


在Versaprobe上,还可以配上紫外光源。一般是使用高纯度氦气来产生, 紫外光源在打在样品上的时候, 同样会产生光电子,而且紫外光本身噪声比较低, 且所产生的光电子量也更多,可以应用在研究材料的价带结构 (Valence Band) 和 功函数 (Work Function)方面。


图11 紫外光产生组件图片


图12 标准金样品上的UPS图谱与功函数的计算


  • 俄歇电子能谱电子源组件 (Electron Gun for Auger Electron Spectroscopy) – Versaprobe选项配备


俄歇电子枪是 另一在Versaprobe上的选项装备。

图13  俄歇电子枪图片


图14在Versaprobe上对标准金(Au),银(Ag) 和 铜(Cu) 所获得的俄歇图谱



XPS基本应用-定性与定量分析

  • 元素定性分析: 不同的原子外层电子所处的能级不同,其键合能自然也不一样;因而通过扫描样品表面飞出的光子动能,根据动能和键合能的关系:

B.E=hν-K.E-WF

B.E---键合能

hν---X光动能(1486.6eV)

K.E---特征光电子动能

WF---谱仪功函数


测定样品光电子的键合能;即通过采集样品表面全谱图,根据谱峰键合能所处的位置,来确定的样品的组成;以ULVAC-PHI的数据处理软件MultiPak为例,该软件集成了元素的键合能的标准谱库,具备元素自动识别功能,方便元素的定性分析。

图15a)  样品表面SXI图


图15 b)off stain成分谱     图15 c)on stain成分谱


  • 化学态分析: 原子中内层能级电子所处的化学环境不同,在光电子结合能上会出现谱峰的化学位移;通过对某个特定的元素进行精细谱的扫描,就可得知该元素所处的化学环境;下图是典型的C1s谱,从谱图中很容易看到元素C至少有四种不同的键合状态,即CH,C-O,O=C-O,𝛑-𝛑*。同样地,ULVAC-PHI的数据处理软件MultiPak也集成了元素的化学位移信息,同时配合强大的数据拟合功能,便于元素的化学态识别。


图16  C1s精细谱


  • 定量分析:







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