日本新闻网站Nikkei Asian Review引述消息称，全球最大的芯片机器制造商、荷兰的阿斯麦（AMSL）证实， 中国向荷兰订购一台最新型的使用EUV（极紫外线）技术的芯片制造机器光刻机，订货单位是 中国厂商SMIC。 这台机器价值 1.2亿美元， 与其去年净利润1.264亿美元大致相当。消息来源称，这一设备预计将于2019年年初交付。

世界上很多著名芯片商如Intel、 Samsung 和TSMC（台积电）等，都已经开始试验使用这种EU V机器生产芯片，估计今 年年底可以生产出第一批成品。

此外，关于基于瓦森纳协议（Verdrag van Wassenaar），荷兰不能出售光刻机给中国的传言。ASML表示，出售光刻机给中国，并没有违反瓦森纳协议的精神。

阿斯麦公司ASML Holding NV创立于1984年，是从飞利浦独立出来的一个半导体设备制造商。 前称ASM Lithography Holding N.V.，于2001年改为现用名，总部位于荷兰费尔德霍芬，全职雇员12,168人，是一家半导体设备设计、制造及销售公司。

阿斯麦公司为 半导体生产商提供光刻机及相关服务， TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。

目前全球绝大多数半导体生产厂商，都向ASML采购TWINSCAN机型，例如英特尔，三星，海力士，台积电，联电，格芯及其它半导体厂。随着摩尔定律的发展，芯片走向了7nm以下，这就需要更高级的EUV光刻系统，全球只有ASML的NXE:3400B能够满足需求。

ASML的光刻机怎样帮芯片助力？我们可以看一下ASML官方的介绍：

简单来说，我们制造的光刻设备是一种投影系统。这个设备由50000个零件组装而成。

实际使用过程中，则通过激光束被投穿过一片印着图案的蓝图或光掩模，光学镜片将图案聚焦在有着光感化学涂层的硅晶圆上，当未受曝光的部分被蚀刻掉时，图案随即显现…

此制程被一再重复，用以在单个芯片上制造数以十亿计的微型结构。晶圆以2纳米的精准度互相叠加，并加速移动，快如闪电，达到这种精确度可谓高科技，要知道，即使头发丝也有十万纳米，2纳米的精细可想而知。

未来，只有他的EUV光刻机能够帮助芯片接续微缩，因此这些设备纵使卖到上亿欧元，都能被客户所接受。

当前半导体制程已经微缩到10纳米一下，大家希望极紫外光微影设备（EUV） 能协助制程向前发展。2017年7月份艾司摩尔曾经报告指出，已经积压了多达21 台EUV 的订单，未来 艾司摩尔的压力还是很大。