【邀请函】第二届国际先进光刻技术研讨会（IWAPS 2018）

近年来，中国集成电路产业蓬勃发展，基于这样的形势，国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台，参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果，探讨图形化解决方案，研讨即将面临的技术挑战。
作为国内唯一的高端光刻技术研讨会，其发言者均为特邀自光刻及其相关领域的国内外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。报告内容涉及广泛，涵盖了当前的技术现状、未来的发展趋势以及面临的挑战等。该研讨会旨在为与会者提供一个深入讨论的互动平台，也为想要了解更多国内外半导体业界动态的研究者和工程师提供更多机会。

曹健林

组委会主席

集成电路产业技术创新战略联盟主席

科技部原副部长 研究员

叶甜春

组委会副主席

中科院微电子研究所所长  研究员
中国科学院EDA中心常务副理事长

黎家辉（Kafai Lai）

组委会副主席

OSA与SPIE协会会士
IBM T.J.Watson研究员

梁守登（Ted Liang）

组委会副主席

英特尔公司首席工程师

韦亚一

组委会秘书长

中科院微电子所研究员“千人计划”专家
计算光刻研发中心主任 集成电路计算光刻与设计优化开放实验室主任

Mark Phillips

Ph.D.

Intel Fellow
Intel公司光刻技术的掌舵人

Heike Riel

Ph.D.

IBM Fellow
IBM公司前沿研究所执行董事
物联网技术及其解决方案主管

Yu Cao (曹宇)

Ph.D.

ASML公司副总裁
ASML Brion公司总经理

Yuri Granik

Ph.D.

Mentor公司首席科学家

Satya Kurada

Ph.D.

KLA-TENCOR公司副总裁

Anthony (Tony) Yen

Ph.D.

ASML公司副总裁
全球技术开发中心首席执行官