不同的公司，不同的工艺水平，在这个芯片上加工过程当中会留下他的定位的一些标志。这个标志它不是一个简单的，比如说我在这里打一个叉，或者打一个十字或者什么，它是整个的一套。所以它并不是说只有一个信号，而是出现了一整套的信号。而且它是三维定位的，就是XYZ3条轴都要定位。所以这个定位系统本身就是光刻机的 核心系统 。
光刻机三大系统，一个是光源，一个是它的透镜系统，第三个叫双工 箭台 。这个双工件台当中的一个系统，非常重要的就是定位系统，定位系统在工作过程当中会产生在芯片上留下痕迹。这个痕迹不是一个简单的标记，而是一整套的系统，所以就是通过不同的公司的芯片，再给它显这个显微镜下面看到它的定位的痕迹，你就能够反过来才知道他是用的什么样的公司的什么样的设备来进行光刻的加工的，这个原理就是这样的。那么在最新的这个P70上面的5纳米芯片当中，没有发现阿斯迈尔的它的定位的这套的这个标准的留下的痕迹。所以根据这些问题先生，他是把这个事情的前前后后，就是光刻机里头的这个定位标记系统是怎么样的，是怎么进行工作的，阿斯迈尔有三套不同的定位标记系统，它是具体是怎么样的，详细的说明了以后，最后讲就是说现在国外的这个分析机构详细的研究了最新的中国华为5纳米片，上面发现没有阿斯迈尔的定位的标记。那就证明了一点，就是说它不是用阿斯麦尔的光刻机进行加工的对吧？就是再再得出一个结论，就是由中国自己的DUV光刻机进行加工，而且这个加工的量很大，因为P70现在开始销售，已经卖了很大的量了。
那么这个问题先生，根据现在市场上已经销售的这个P70的5纳米芯片，以及它所推算的其他中国可能在人工智能等等这方面用的5纳米芯片，大概在一个季度里生产多少量。他估算出来说就是中国的DUV这个光刻机现在在流水线上大量生产，现在已经5台到7台这个数量，这是他估计的这个数量，产量已经非常高了，就是达到这个他估计是在一个季度里生产的有800万片合格的芯片。所以他倒推出来就是说中国现在的国产的这个28纳米的DUV的浸润式光刻机已经上线生产，我这里要说明一下，就是说目前阿斯迈尔在全世界卖的，它分两个档次，一个是EOV，一个是DUV。DUV就是这大家俗称的，就是所谓叫28纳米的光刻机，就是指DUV浸润式。这个28纳米不是说它最低只能加工到28，而是它的标准的线宽是可以容易的做到28。那么经过两次或者三次这个工艺更加重复使用曝光什么以后，是现在是可以做到7纳米甚至5纳米的。现在就是说根据这个问题先生的分析，中国现在华为的5纳米芯片就是用这个28纳米的do v的国产光刻机做出来。那么阿斯麦尔在中国卖的这个DUV光刻机，它分有什么1980、两千、2050，这些系列的光刻机都是DOV的净润的光刻机。
它精度是一样的，只不过每个小时能够加工的这个芯片的数量再多一点，效率高一点而已，没有本质的变化。另外对于EUV来说，它所用的这个核心装置当中的这个双弓箭台，DUV和EUV用的也是一样的。DUV和EUV不一样的地方主要是它的光源不一样，当然它的透镜系统也会有一点差别，但是它的双工件台测量系统是一样的。那么就是这个是这个问题先生对引述了国外的分析以后，他做出来的判断，他这个判断我是认可的，我认为是对的，为什么呢？因为就是说测量是加工的基础，中国应该是几年以前就已经公布了中国在这个 精密测量 方面的重大的一个突破，中国在这个精密测量方面来说已经达到世界领先的水平。
这个东西工程化以后，用到了光刻机上，形成了这个双工电台，这个也已经是有官宣过的现在的显然就是说华为的5纳米芯片，用的这个测量系统不是阿斯迈尔的那有人说，会不会是中国人就还是用阿斯迈尔的，只不过是标记系统改变定位系统改变这个是不可能，为什么？这是不可能的，因为没有这个必要，因为，定位系统，它是整个的光刻机的核心的部件。如果你的其他部分的主体还是要用阿斯迈尔，你只是去改变它的这个测量系统，这个其实复杂度非常高，对吧？那你的好处是哪里呢？你把原来已经有的这个阿斯麦尔光刻机的一部分给拆了，再把自己的中国的定位系统放上去吗？就没有这个必要，这不是脱裤子放屁吗？所以就是说问题先生从这里头所判断出来，说中国是用了自己的整体的这个DUV光刻机已经上线生产，而且达到一个非常大的产能，这个是我认为是对的。
