复旦大学材料科学系的褚君浩院士和李文武研究员团队提出了一种创新的分子重构策略,通过掺杂2-甲基苯并咪唑(MBI),成功将锡基钙钛矿半导体薄膜转变为铁电半导体薄膜,这一转变源于分子重构。重构后的铁电半导体表现出高达
23.2 μC/cm
2
的剩余极化(Pr)。铁电性的产生源于咪唑分子掺杂后氢键的增强,从而导致空间对称性破缺,使得正负电荷中心不再重合。值得注意的是,基于钙钛矿铁电半导体的晶体管表现出
低于67 mV/dec
的亚阈值摆幅(SS),进一步证实了引入铁电性的显著优势。这一发现为基于锡基钙钛矿的铁电器件提供了新的材料平台,也为下一代电子器件的设计和发展开拓了广阔前景。相关研究成果以“
Emergence of ferroelectricity in Sn-based perovskite semiconductor films by iminazole molecular reconfiguration
”为题,发表于国际著名学术期刊《
Nature Communications
》上。李文武研究员为通讯作者,材料科学系博士生刘昱为第一作者。
图1 锡基钙钛矿薄膜的压电原子力显微镜(PFM)、二次谐波光谱(SHG)和铁电性能
研究团队进一步将掺MBI分子的锡基铁电钙钛矿应用于铁电场效应晶体管(FeFET)中,研发了底栅顶接触结构的器件(图2a)。实验结果显示,原始晶体管的转移曲线呈现出典型的界面缺陷和体缺陷捕获载流子的特征(图 2b),反向电流低于正向电流。而掺MBI后的FeFET,由于极化电场的作用,反向电流超过正向电流,展现出显著的铁电滞回现象。研究人员还对不同扫描速度、扫描范围、漏源电压和不同温度下的转移曲线进行了测量,发现扫描窗口基本保持一致,再次证明了滞后现象源于铁电场效应晶体管(FeFETs)的铁电性。同时,随着MBI浓度的增加,器件的
亚阈值摆幅(SS)从120 mV/dec降至67 mV/dec
,充分表明该材料在低压操作和低功耗器件方面有着的巨大潜力。
图2 基于铁电钙钛矿半导体的锡基晶体管的电学表征