刻蚀设备：半导体产业的 “幕后英雄”
在半导体制造的复杂流程中，刻蚀设备堪称 “幕后英雄”，发挥着举足轻重的作用。如果把芯片制造比作一场精密的雕刻艺术，刻蚀设备就是那把最为关键的 “刻刀”。
从半导体制造流程来看，刻蚀处于光刻之后的关键环节。光刻负责将设计好的电路图案转移到光刻胶上，而刻蚀则是通过物理或化学的方法，精准地去除光刻胶下面不需要的材料，从而在晶圆上形成精确的电路结构。这一过程就像是在微小的世界里进行精细的雕琢，每一个细节都关乎芯片的性能和质量。
刻蚀设备对芯片性能的影响是全方位的。首先，它直接决定了芯片的集成度。随着半导体技术的不断发展，芯片上的晶体管数量越来越多，尺寸越来越小。更先进的刻蚀设备能够实现更精细的线条刻蚀，在同样大小的晶圆上集成更多的晶体管，从而大幅提升芯片的运算速度和处理能力。例如，在 7 纳米甚至 5 纳米制程的芯片制造中，刻蚀设备的精度要求达到了原子级别的控制，稍有偏差就可能导致芯片性能的大幅下降。
其次，刻蚀的质量也深刻影响着芯片的可靠性和稳定性。如果刻蚀过程中出现不均匀、过度刻蚀或刻蚀不足等问题，都可能导致芯片内部电路短路、漏电等故障，严重影响芯片的使用寿命和工作稳定性。就好比一座高楼的根基，如果根基打得不牢固、不均匀，这座高楼在使用过程中就会面临巨大的安全隐患。
在生产效率方面，刻蚀设备同样扮演着重要角色。先进的刻蚀设备具备更高的刻蚀速率和更好的均匀性，能够在更短的时间内完成更多晶圆的刻蚀，从而提高整体的生产效率。同时，一些刻蚀设备采用了多腔室设计，可以同时处理多个晶圆，进一步提升了生产能力。此外，随着自动化和智能化技术的不断应用，刻蚀设备能够实现更精准的参数控制和自我监测，减少了人工干预和出错的概率，也间接提高了生产效率。
刻蚀设备在半导体制造中占据着不可或缺的地位，它是推动芯片技术不断进步的关键力量之一。也正是因为刻蚀设备如此重要，与之相关的企业发展动态备受关注，下面就来看看至正股份、北方华创、中微公司、微导纳米这几家在半导体刻蚀设备领域有着较高人气热度的公司。
至正股份：跨界入局，潜力初显
至正股份原本是一家专注于线缆用高分子材料研发、生产和销售的企业，在该领域积累了一定的技术和市场基础 。然而，随着市场竞争的加剧和行业发展的变化，至正股份面临着业务增长的瓶颈。为了寻求新的发展机遇和增长点，公司果断实施战略转型，跨界进入半导体领域。
2022 年，至正股份以现金方式收购了苏州桔云科技有限公司 51% 的股权，正式迈出了进军半导体领域的重要一步。苏州桔云主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，产品涵盖清洗机、刻蚀机、涂胶显影机等多种半导体湿法工艺流程所需设备，产品线较为丰富。其中，自主研发的清洗机在集成电路后道先进封装领域技术水平相对领先，已基本具备出货前道清洗设备所需的技术能力；自主研发的全自动烘箱可实现烘烤流程全自动化，同时烘烤 104 片，大幅提升生产效率，国内厂商尚无对标产品。
此次收购对于至正股份来说，是一次具有深远意义的战略布局。从短期来看，苏州桔云的业务能够为至正股份带来新的收入和利润来源，改善公司的财务状况。2024 年上半年，至正股份半导体专用设备业务营业收入占比超 30%，这一数据充分显示了苏州桔云在公司业务结构中的重要性日益凸显。
从长期发展战略角度分析，至正股份通过收购苏州桔云，成功切入半导体设备市场，实现了业务的多元化发展。半导体行业作为国家战略性新兴产业，具有广阔的市场前景和发展空间。至正股份借助苏州桔云在半导体设备领域的技术和资源，能够快速积累半导体行业的相关经验，提升自身在半导体产业链中的地位。这不仅有助于公司在新兴领域中抢占先机，还能够增强公司的抗风险能力，为公司的可持续发展奠定坚实基础。
然而，至正股份在转型过程中也面临着诸多挑战。半导体行业技术门槛极高，技术更新换代速度极快。与行业内的老牌企业相比，至正股份在半导体刻蚀设备技术研发方面的投入和积累相对不足，需要不断加大研发投入，吸引和培养专业的技术人才，以提升自身的技术创新能力，才能跟上行业技术发展的步伐。
在市场竞争方面，半导体刻蚀设备市场竞争异常激烈，国内外众多企业纷纷角逐。国际上，应用材料、泛林集团等巨头凭借其长期积累的技术优势、品牌优势和市场份额，占据着市场的主导地位；国内也有北方华创、中微公司等强劲竞争对手。至正股份作为后来者，要在这样的市场环境中脱颖而出，需要在产品性能、价格、服务等方面不断优化和提升，以提高自身的市场竞争力。
北方华创：国产巨头，全面突破
北方华创是国内当之无愧的半导体设备龙头企业，在半导体设备领域具有极高的知名度和影响力。2024 年上半年，其营业收入达 123.34 亿元人民币，同比增长 46.38%，成功挺进全球前七大设备厂商之列，这一成绩的取得绝非偶然，是其多年来在技术研发、市场拓展等方面持续深耕的结果。
在刻蚀设备方面，北方华创展现出了强大的技术实力和广泛的工艺覆盖能力。公司的刻蚀设备可覆盖多种技术代的数百道工艺应用，从成熟制程到先进制程，都有相应的产品和技术解决方案。在成熟制程领域，北方华创的刻蚀设备凭借其稳定的性能、较高的生产效率和良好的性价比，在国内市场占据了较大的市场份额，为国内众多半导体制造企业提供了可靠的设备支持，助力这些企业在市场竞争中取得优势。
在先进制程方面，北方华创也取得了显著的突破。公司不断加大研发投入，积极攻克技术难题，其刻蚀设备在 7 纳米、5 纳米等先进制程工艺上取得了重要进展，已进入部分高端客户的生产线并实现批量销售。这不仅打破了国外企业在先进制程刻蚀设备领域的长期垄断，也为我国半导体产业向高端化发展提供了有力的支撑 。
北方华创在技术研发上的优势，得益于其强大的研发团队和持续的高研发投入。公司拥有一支由众多行业专家和技术精英组成的研发团队，他们具备深厚的技术功底和丰富的行业经验，能够紧跟行业技术发展趋势，不断推出具有创新性的技术和产品。同时，北方华创常年保持高研发投入，研发投入占营收的比例通常在 25 - 30%，与海外龙头处于同一水平。这种高强度的研发投入，使得公司在刻蚀技术、薄膜沉积技术、设备自动化控制技术等关键技术领域不断取得突破，提升了产品的性能和质量。
在市场份额方面，北方华创在国内刻蚀机市场以及整个半导体设备市场都占据着重要地位。随着国内半导体产业的快速发展，本土晶圆厂掀起扩产潮，为国产半导体设备企业带来了广阔的市场空间。北方华创凭借其产品品类齐全、技术优势突出、客户服务优质等特点，充分受益于这一市场机遇，市场份额稳步扩大。以 2024 年为例，其在国内刻蚀机市场的占有率进一步提升，在集成电路装备领域，多年保持国内领先地位。
从客户资源来看，北方华创的客户涵盖了国内外众多知名的半导体制造企业。在国内，中芯国际、长江存储、华虹集团等都是其重要客户；在国际上，也与一些知名企业建立了合作关系。这些优质客户资源的积累，一方面是对北方华创产品质量和技术实力的认可，另一方面也为公司带来了稳定的订单和收入来源。同时，通过与这些高端客户的紧密合作，北方华创能够及时了解市场需求和行业发展动态，进一步优化产品性能和研发方向，形成了良好的市场反馈机制，推动公司不断向前发展。
中微公司：技术领航，业绩腾飞
中微公司是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端半导体设备公司，在半导体刻蚀设备领域占据着重要的地位，堪称行业内的技术领航者。
从技术实力来看，中微公司成果斐然。其自主研发的电容性等离子体刻蚀设备（CCP）和电感性等离子体刻蚀设备（ICP）技术能力达到 5 纳米及更先进工艺水平，刻蚀精度达到 100 皮米以下，这一精度已经达到了国际顶尖水平，能够满足先进制程芯片制造对于刻蚀精度的严苛要求 。在刻蚀应用方面，其覆盖范围极为丰富，无论是逻辑芯片制造，还是存储芯片制造环节，中微公司的刻蚀设备都有着出色的表现。在逻辑芯片制造方面，公司开发的 12 英寸高端刻蚀设备持续获得国际国内知名客户的订单，已经在从 65 纳米到 5 纳米及更先进的各个技术结点大量量产；在存储芯片制造环节，公司的等离子体刻蚀设备已大量用于先进三维闪存和动态随机存储器件的量产，并且在先进存储芯片制造中最关键的超高深宽比结构刻蚀应用上取得突破，开发出相应的设备并验证成功进入量产，打破了国外半导体设备公司在这一领域的长期垄断。
在业绩表现上，中微公司同样十分亮眼。2023 年，公司实现营业收入约 62.64 亿元，同比增长约 32.15%；实现归属净利润约 17.86 亿元，同期增加 52.67% ，这样的增长速度在半导体行业中处于领先地位。进入 2024 年，中微公司的发展势头更为强劲，预计 2024 年营业收入约为 90.65 亿元，同比增长约 44.73%；其中，2024 年刻蚀设备销售约 72.76 亿元，同比增长约 54.71%。从订单情况来看，2023 年新增订单金额约 83.6 亿元，较 2022 年的新增订单增加约 20.4 亿元，同比增长约 32.3%，持续增长的订单量为公司的业绩增长提供了坚实的保障。
中微公司能够在技术和业绩上取得如此优异的成绩，与其持续的高研发投入和创新的发展策略密切相关。公司每年的研发投入约占营业收入的 20% 左右，2024 年研发投入约 24.50 亿元，较去年增长 11.88 亿元，增长约 94.13%，2024 年研发投入占公司营业收入比例约为 27.03%。在人才梯队建设上，中微公司也不遗余力，截至 2024 年 6 月，全球员工总数已达到 2085 人，其中研发人员占比高达 46.38%，还持续招聘物理、化学、材料、机械等基础学科的优秀毕业生，并基本实行全员持股的人才激励机制，充分激发了员工的积极性和创新活力。
在产品开发、设计和制造过程中，中微公司始终坚持 “创新” 和 “差异化” 的发展策略。以电容性等离子体刻蚀设备的研发为例，公司开创性地推出了甚高频去耦合等离子体刻蚀技术，在当时世界半导体设备三大巨头尚未意识到这种技术优点的情况下，中微公司凭借这一创新技术取得了巨大成功。随后，公司又在等离子体刻蚀设备中采用了双反应台技术，一个反应腔中配置两个反应台，同时加工两片且刻蚀误差仅相差一个原子，这一独特设计不仅增加了产能输出，还有效降低了客户成本，为设备在市场上赢得了更大的竞争优势。
微导纳米：多元布局，快速成长
微导纳米是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商，在短短几年时间里实现了快速崛起，发展势头十分强劲。
公司形成了以原子层沉积（ALD）技术为核心，化学气相沉积（CVD）等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系，产品覆盖半导体、光伏和其他新兴应用领域。在半导体领域，微导纳米是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积（ALD）设备应用于 28nm 节点集成电路制造前道生产线的国产设备厂商 ，已与国内多家厂商建立了深度合作关系。其 ALD 产品在国内市场占据龙头地位，工艺覆盖率约为 70% - 80%，涵盖了 T-ALD 的 HiK、MeT 以及 PEALD 的 SiO2、SiN 等多种材料。同时，公司成功推出了具有市场竞争力的 CVD 设备，并顺利拿到批量重复订单，进一步扩大了产品工艺覆盖度和市场空间，产品已覆盖逻辑、存储、硅基 OLED 和第三代半导体等细分领域。
在光伏领域，微导纳米同样表现出色，是率先将 ALD 技术规模化应用于国内光伏电池生产的企业，已成为行业内提供高效电池技术与设备的领军者之一。公司为客户提供具有竞争力的 ALD、PECVD、PEALD、扩散退火等多种定制化产品和 TOPCon 整线工艺解决方案，实现了对 TOPCon 产线真空类设备的全覆盖。在下一代新型高效电池技术升级方面，微导纳米在 TOPCon、XBC、钙钛矿及钙钛矿叠层等电池技术领域均有产品储备、布局和出货。其中，在 XBC 电池领域，爱旭、隆基已投产和拟投产的电池生产线中，公司的 ALD 产品占比保持领先；在钙钛矿电池领域，公司已获得国内客户百兆瓦级量产设备订单。
