研究前沿：硅集成空穴传输层-显示材料-微光刻 | Nature Electronics

今日，美国斯坦福大学、韩国 延世大学、汉阳大学、西江大学等，在Nature Electronics上发文，报道了硅集成的小分子空穴传输层，可以通过微光刻技术在晶片规模上形成图案，以减轻电像素串扰。

这提升了高密度像素化和空穴传输层本身性能。通过这种方法，在6英寸晶片上，创建了分辨率高达每英寸10,062像素的高保真微图案阵列。有机小分子空穴传输层，可以有效地调节发光层内的电荷平衡，改善有机发光二极管的发光特性。

研究还表明，相比于具有典型空穴传输层的有机发光二极管，微图案化硅集成的小分子空穴传输层集成有机发光二极管，具有降低的电像素串扰。

第一作者：Hyukmin Kweon, Seonkwon Kim, Borina Ha.

通讯作者：Moon Sung Kang, Jeong Ho Cho & Do Hwan Kim

通讯单位：斯坦福大学、延世大学、汉阳大学、西江大学

Microlithography of hole transport layers for high-resolution organic light-emitting diodes with reduced electrical crosstalk.

高分辨率有机发光二极管的空穴传输层微光刻，以用于减少电串扰

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