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围观中微半导体和Vecco专利战

尼尔法律研究  · 公众号  ·  · 2017-12-26 18:49

正文

本月初,中国福建省高级人民法院同意了中微针对维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司(以下简称“Veeco上海”)的禁令申请,该禁令禁止Veeco上海进口、制造、向任何第三方销售或许诺销售侵犯中微第CN202492576号专利的任何化学气相沉积装置和用于该等装置的基片托盘。该禁令立即生效执行,不可上诉[1]。此消息一出,国内半导体行业无不欢欣雀跃,就等着接下来的判赔了。


本案到底是关于什么?为何一纸禁令就会有如此重大的反响?想搞清楚这些问题的答案,就必须从半导体产业说起。


最近几年,每年中国半导体芯片的进口额会超过2000亿美元,超过原油进口额,为进口商品排名的第一。中国是制造业大国,为何造不出指甲盖大小的半导体芯片?事实上,上个世纪50年代半导体产业刚刚兴起的时候,各个国家处在相同的起跑线上。但是,在产业的起步阶段,八国联军搞了个“多国出口管制协调委员会”(COCOM),对我国所需的新技术、新设备进行封锁禁运;在上世纪90年代初COCOM解体后,又签订了“瓦圣那协议”,继续对我国新兴技术和新兴产业进行封锁限制,只允许放行比经济发达国家滞后两代的集成电路技术和设备。没有先进的生产设备,制造先进的产品无异于痴人说梦,因此我国的半导体产业一直落后国际先进水平两代左右,时至今日,依然如此。


如果想改变现状,只有两个方法,一是让列强废除禁运协议,但这无异于与虎谋皮;另外一种方法就是自强。此次大战的中方代表中微半导体就是自强以求发展的典型代表[2]。


半导体照明领域,制造设备一直被两家公司所垄断:德国的Aixtron和美国的Veeco。生产照明芯片,必须把一种很神奇的化合物半导体材料GaN沉积在蓝宝石晶体的表面。沉积条件极为苛刻,温度需要达到1000度,并且蓝宝石还需要不停的旋转,才能保证沉积厚度的均匀性。因此,既能旋转又能耐高温的托盘是制造GaN晶体的装备的核心部件。此部件,就是本案中的专利的核心保护内容。


Veeco是本领域当之无愧的老大,作为00后的小小中微半导体何德何能敢于跟老大叫板?笔者妄加揣测一下,在主场跟国外选手打一场,以小博大,赢了,能以世界先进技术的名义借机扩大市场份额;输了,赚个人气。现在这年月,去法院告巨头再拉上几个记者,还有比这出名更快的方法吗?!


言归正传,还是先看看案件。事实上,早在2017年的7月,中微即向福建高院起诉Veeco。接到传票的时候,想必Veeco先是一惊,然后一笑:“不知好歹的家伙,一个破烂实用新型专利居然都好意思拿出来闹”。经验丰富的Veeco采用了最常规的应对手段,去专利复审委提专利无效。按照法院审理专利侵权案件的程序,被告提实用新型专利无效,案件会中止审理,等复审委的决定:如果专利被无效,侵权案子也没必要继续审了;如果专利权被维持,则继续审理。


实用新型专利实行初步审查制度,如果没有发现驳回理由的话,会被授予专利权。从专利局官方渠道查询的结果来看,中微的实用新型专利,从来没有被别人挑战过。此番Veeco已经出手,刀出鞘必见血,看来这个专利凶多吉少。


三个月后,复审委终于发出公告:在中微做了少许修改后,专利权被维持了[3]。此决定一出,第一个蒙圈的必然是Veeco。怎么可能呢?Veeco居然连一个实用新型专利都没能废掉?


作为广大吃瓜群众中为数不多的即懂技术又懂专利法的一个,笔者调出了复审委的决定书和专利文本,慢镜头回放,用专业眼光围观一下Veeco是如何在小河沟里翻船的。


首先,我们来看看涉案专利的内容。


CN202492576号实用新型专利主题虽然是生长设备,实质上是关于一个蓝宝石晶体托盘和支撑托盘的旋转轴。现有技术中,旋转轴带动托盘运动有两种方式:摩擦传动或者接触传动。这两种传动方式都有问题:摩擦传动在加速减速过程中,托盘会在转轴上会打滑,影响测量位置的准确性;接触传动如果安装时候调校不准,托盘会一直保持偏离的转动状态,无法自调整。中微半导体的工程师们想出了一个办法,把两种传动方式结合起来,同时克服两种传动方式的缺点。下图即本专利的其中一个示意图。


从上图可以看出,本发明的方案是把摩擦传动和接触传动相结合。转轴和托盘在120位置是直接接触的,转轴转动的时候,120位置提供的摩擦力带动托盘转动(摩擦传动)。在加速减速的过程中,突出部21和凹陷部210相配合,避免打滑,实现两个部件的同步。如果突出部21高度太高,在21和210接触的时候,120位置转轴和托盘尚未接触,则本方案就还原成纯接触传动;如果不设置突出部21或者突出部太矮,则本方案还原成纯摩擦传动。由此可以看出来,中微的技术人员在设计将两种方案结合的过程中,似乎也没花太多的心思。取长补短,连小孩都知道的事,更别说成年人了。估计发明人心里也门清,去申请发明专利的话,没希望既浪费时间又浪费钱,还不如申请一个实用新型来的方便,肯定能授权。


为了说明问题方便,以下只讨论独立权利要求1。独立权利要求1是整个专利的基础。


最初的独立权利要求1内容如下:


1.一种化学气相沉积装置,其特征在于:包括:

处理腔室,其内部包括一个旋转轴,旋转轴上可分离地放置有基片托盘,基片托盘的下表面包括一凹槽,所述旋转轴包括一顶部,所述顶部可分离地插接于所述凹槽内,所述基片托盘至少部分地受所述顶部支撑并通过二者之间的摩擦力使所述基片托盘围绕所述旋转轴的中心轴线转动;

所述旋转轴顶部与基片托盘上还包括一个同步运动配合结构,所述同步运动配合结构包括一个突出部和一个与之对应配合连接的凹陷部,所述突出部和所述凹陷部分别设置在所述旋转轴的顶部和所述基片托盘的下表面上或相反设置;

其中,当所述基片托盘受其与所述顶部之间的摩擦力驱动而围绕所述旋转轴的中心轴线转动时,所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盘和所述旋转轴同步转动。


在Veeco提交了证据之后,中微对独立权利要求1做了修改,如下:


1.一种化学气相沉积装置,其特征在于:包括:

处理腔室,其内部包括一个旋转轴,旋转轴上可分离地放置有基片托盘,基片托盘的下表面包括一凹槽,所述旋转轴包括一顶部,所述顶部可分离地插接于所述凹槽内,所述基片托盘至少部分地受所述顶部支撑并通过二者之间的摩擦力使所述基片托盘围绕所述旋转轴的中心轴线转动;

所述旋转轴顶部与基片托盘上还包括一个同步运动配合结构,所述同步运动配合结构包括一个突出部和一个与之对应配合连接的凹陷部,所述突出部和所述凹陷部分别设置在所述旋转轴的顶部和所述基片托盘的下表面上或相反设置;

其中,当所述基片托盘受其与所述顶部之间的摩擦力驱动而围绕所述旋转轴的中心轴线转动时,所述突出部和所述凹陷部相互配合并保持所述基片托盘和所述旋转轴同步转动;

所述旋转轴的顶部包括一连接头,所述连接头包括一上表面和位于所述上表面下方的一外周面,所述突出部设置于所述连接头的上表面上或所述外周面上。


中微在修改权利要求时候并不是直接加上了标蓝色的这句话,无效中修改权利要求不允许加内容。实际上,中微是将原独权1删除,保留了从权2,这样从权2就变成了独权1。此种对权利要求的修改方式是在无效程序中准许的修改方式之一。


Veeco对中微的修改方式无异议,但继续以独权1权少必要技术特征、说明书不支持、无新颖性、无创造性的理由申请无效。


我们接下来就结合复审决定书来分析一下,看看这几个理由是否充分,是否能说服复审委。


1.权利要求1缺少必要技术特征。Veeco认为,本专利要解决的技术问题之一是实现旋转过程中基片托盘的自平衡,为了解决该问题,本专利至少采用了两个技术手段,即在旋转轴的连接头和基片托盘的接触区域下方存在足够的间隙S1,以及在突出部和凹陷部之间存在间隙S2并且该间隙不小于0.01mm、小于5mm。但本专利独立权利要求1-3和10中并没有记载上述技术特征,因此不能解决自平衡的技术问题,不符合专利法实施细则第20条第2款的规定。Veeco的观点集中在连接头和接触区域的间隙的问题,即上图中笔者描红的部分。但是合议组的看法是“根据说明书第0036段的记载,如果间隙S2设计得太小,会由于热胀冷缩导致基片托盘无法取出,而设计得太大又不能防止主轴和基片托盘发生相对运动。因此,间隙S2的设计目的并非用于实现自平衡,而且本领域技术人员也通常会选取间隙S2存在的技术手段。因此,请求人关于独立权利要求1-3和10缺少必要技术特征、不符合专利法实施细则第20条第2款规定的理由不能成立。”。中微修改之后的权利要求1描述的技术方案中,并未对两个部件的间隙作出描述。如上文笔者的讨论,技术方案实质上是摩擦传动和接触传动相结合,在突出部过高的情况下,如果和凹陷部提前接触,就转化成纯接触传动;如果突出部过低,低于图中蓝色线所示的平面,就转化成了纯摩擦传动。在突出部和凹陷部之间存在间隙,此间隙既包含水平方向的间隙,又包含垂直方向的间隙,间隙的作用并不仅仅是为了防止热胀冷缩,也涉及了自平衡的问题。因此,对于独权1的技术方案,突出部和凹陷部的间隙属于必要技术特征。笔者认为,Veeco这个理由找的还是很准确的,但是存在一点点瑕疵,对于水平间隙和垂直间隙没有做出区别论述。对复审委的意见,笔者持保留态度。


2.  关于“说明书支持”。《专利审查指南》中对“说明书支持”的表述为“如果权利要求的概括使所属技术领域的技术人员有理由怀疑该上位概括或并列概括所包含的一种或多种下位概念或选择方式不能解决发明或者实用新型所要解决的技术问题,并达到相同的技术效果,则应当认为该权利要求没有得到说明书的支持。”Veeco认为:权利要求1中包含了旋转轴连接头和基片托盘接触区域下方以及突出部与凹陷部之间不存在间隙的技术方案,该方案无法解决本专利所要解决的自平衡的技术问题,因此得不到说明书支持。对此,合议组认为:“如前所述,旋转轴连接头和基片托盘接触区下方的间隙属于优选方案,该间隙的存在与否并不影响基片托盘自平衡的实现;突出部和凹陷部之间的间隙只是为了防止由于热胀冷缩导致基片托盘无法取出,并不涉及旋转过程中基片托盘的自平衡问题,因此不会导致权利要求得不到说明书的支持”。根据上文关于必要技术特征部分的讨论,笔者认为Veeco的理由还是与必要技术特征的关系更密切。


3.  关于新颖性,Veeco一口气搬出来三个证据,但是权利要求与这三个证据相比,均具有区别技术特征。在实用新型专利的复审程序中,评价新颖性的标准与发明专利实质审查时候的新颖性评价标准没有任何区别。因此,Veeco提供的证据无法破坏独权1的新颖性。复审委的意见正确。


4.  关于创造性,这里首先要介绍实用新型专利无效中创造性的审查标准,然后以此标准考察Veeco的方案。


《专利审查指南》中规定如下:发明的创造性,是指与现有技术相比,该发明具有突出的实质性特点和显著的进步;实用新型的创造性,是指与现有技术相比,该实用新型具有实质性特点和进步。因此,实用新型专利创造性的标准应当低于发明专利创造性的标准。


(1)现有技术的领域

对于发明专利而言,不仅要考虑该发明专利所属的技术领域,还要考虑其相近或者相关的技术领域,以及该发明所要解决的技术问题能够促使本领域的技术人员到其中去寻找技术手段的其他技术领域。对于实用新型专利而言,一般着重于考虑该实用新型专利所属的技术领域。但是现有技术中给出明确的启示,例如现有技术中有明确的记载,促使本领域的技术人员到相近或者相关的技术领域寻找有关技术手段的,可以考虑其相近或者相关的技术领域。


(2)现有技术的数量

对于发明专利而言,可以引用一项、两项或者多项现有技术评价其创造性。对于实用新型专利而言,一般情况下可以引用一项或者两项现有技术评价其创造性,对于由现有技术通过“简单的叠加”而成的实用新型专利,可以根据情况引用多项现有技术评价其创造性。


本无效案件中,Veeco选取了四组结合证据来进行评价。复审委的结论是“……上述证据中各装置的作用均是通过接触作用力保持主轴和托盘同步运动,接触作用力在托盘的运动过程中必须时刻发挥作用,托盘和主轴之间不再需要摩擦力作用,因此这些装置均为接触传动装置;而本专利的同步运动配合结构其目的仅在于确保主轴和托盘不发生相对转动,在托盘随主轴的运动过程中,主要由摩擦传动发挥作用,因此本专利的同步运动配合结构并不属于接触传动装置,因此上述证据也无法给出将摩擦传动与同步运动配合结构相结合的技术启示。此外,目前也没有证据显示这种结合方式是本领域的公知常识。因此,请求人关于权利要求1相对于证据1与证据2的结合、证据1与证据6的结合、证据4与证据6的结合或者证据6与公知常识的结合不具备创造性的理由均不能成立。……”如前文所述,本专利的发明点实质上是“摩擦传动和接触传动相结合”。此种结合方式在MOCVD领域很大可能性是中微的独创;在其他机械领域是否已经存在,笔者不敢妄言。但是,根据实用新型专利无效过程中创造性的审查标准,即使在其他领域有类似应用,只有满足了“现有技术给出明确的技术启示的情况下”,才能作为证据使用;否则,很有可能不被复审委所接受。Veeco在选择对比文件的时候,可供选择的对比文件实质上是受到了极大的限制。


因此,实用新型专利看起来容易被无效,实际操作起来难度比起发明有过之而无不及。



简要结论和启示:


(1)Veeco选择的无效策略没有太大的问题,复审委做出的“权利要求不缺乏必要技术特征、以说明书为依据”的结论欠妥,Veeco尚有去知识产权法院挑战复审委的余地。


(2)实用新型专利授权容易,在无效程序中又能够享受到比发明专利更多的优待。对于迭代速度快的产品来说,使用实用新型专利来进行保护也是一个非常好的选择。


(3)中国企业的原始创新的研发成果不容小觑,Veeco在实施与本专利相同技术前,专利技术尽职调查工作未做足,才造成如此严重后果。


(4)面对技术抄袭者,即使对方是国际巨头,哪怕武器仅仅是一个实用新型专利,也应当勇敢的去维权。万一,说的是万一,实用新型专利没有被无效呢?


[1] http://www.amec-inc.com/news/news-detail.php?id=80

[2]http://www.china-sorsa.org/n195/n203/n216/n218/n346/u1ai9569.html

[3]专利复审委3884号复审决定

 

本文作者,刘蓬,北京市竞天公诚律师事务所执业律师,IPMS内审员;半导体物理学博士、博士后。

个人联系方式:liup188(微信)


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