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镀膜系统PVD浅析PPT

Research  · 公众号  ·  · 2019-11-02 08:06

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薄膜是现代信息技术的核心要素之一,薄膜材料与器件结合成为电子、信息、传感器、光学、太阳能等技术的核心基础。

在显示器面板生产中,材料镀膜方式可以大致的分为物理气象沉积方法 (Physical Vapor Deposition,PVD)和化学气象沉积方法(Chemical Vapor Deposition,CVD);而面板显示的蒸镀技术是物理气象沉积PVD方法的一种,与同属于PVD的溅射镀膜法相比,蒸镀技术还需要更高的真空度来增加其气态分子的平均自由程( Mean Free Path MFP [1] ;蒸镀PVD的核心参数涉及到气流控制,真空仓压力控制,电源控制,玻璃温度控制和磁场控制等这些参数直接影响到镀膜膜厚,镀膜均匀度,金属膜电阻率等关键性能,进而影响到TFT器件性能,PVD设备是Array工艺中非常核心的关键设备,技术门槛非常高。

买到Canon Tokki的设备就如同得到了一张生产OLED面板的“入场券” ,目前Canon Tokki的蒸镀设备技术能力最佳,能把蒸镀误差控制带5微米以内,基本垄断了全球蒸镀机的供应; 中国显示大而不强,尤其是国内的OLED企业,主要集中在产业链中下游的面板显示,而上游核心生产设备主要依靠进口,尤其是中国缺乏真空蒸镀机这种关键设备,就好比被扼住了咽喉,不能顺畅“呼吸”,所以中国无法短期内进入上游产业的角逐[2]。为此,国家战略层面出台了《中国制造2025》,加快研发先进熔炼、凝固成型、 气相沉积 、型材加工、高效合成等新材料制备关键技术和装备、国家部委政策:2018年,国家发改委和工业信息化部发布的《新型显示产业超越发展三年行动计划》,支持柔性面板等量产技术研发以及 上游装备 的发展。

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