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成果介绍
光谱学技术是表征2D量子材料的核心。然而，原子薄样品体积的减小通常会导致横截面太低，传统的光学方法无法产生可测量的信号。
有鉴于此，近日，
美国麻省理工学院Riccardo Comin等开发了一种基于模板光刻技术的方案，用于制造可转移的光学增强纳米结构，用于拉曼光谱和光致发光光谱
。利用这种新的纳米制造技术，本文设计和制造了等离激元纳米结构，以适应少层材料与光的相互作用。本文证明了2D半导体超薄片和磁体的拉曼强度有数量级的增加，以及WSe
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/MoS
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异质结中猝灭激子的选择性Purcell增强。本文提供的证据表明，该方法对空气敏感的材料特别有效，因为转移可以原位进行。该制造技术可以推广，使功能光子器件具有高度的灵活性。
图文导读
图1. 制造步骤的示意图与相应的SEM/FIB图像。
图2. 由于转移的等离激元阵列引起的拉曼增强。
图3. 由于转移的等离激元阵列对猝灭激子PL的Purcell增强。
图4. 用于SERS的纳米盘阵列的电磁模拟和Purcell增强。
文献信息
Transferable Optical Enhancement Nanostructures by Gapless Stencil Lithography
（
Nano Lett.
, 2024, DOI:10.1021/acs.nanolett.4c02148）
文献链接：https://pubs.acs.org/doi/10.1021/acs.nanolett.4c02148
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