又一篇AI顶会！这个idea简直“ 杀疯了 ” ....

在发表过几十篇顶会顶刊的大佬看来：

要发表一篇顶会， 最重要 的 就是 选题 和 idea 创新点 设计。

一个好的idea就能决定文章是CCF A会的水平还是CCF C会的水平。

比如 Mask DINO: 统一的目标检测和分割框架，这就是一个顶级会议的idea。

Idea: Mask DINO是一个统一的框架，它扩展了DINO（DETR with Improved Denoising Anchor Boxes）模型，通过添加一个分割预测分支来支持所有类型的图像分割任务，包括实例、全景和语义分割。该框架利用查询嵌入对高分辨率像素嵌入图进行点积，以预测二进制分割。Mask DINO在ResNet-50和SwinL骨干网的预训练模型上取得了优异的性能，特别是在实例分割（COCO上的54.5 AP）、全景分割（COCO上的59.4 PQ）和语义分割（ADE20K上的60.8 mIoU）方面。

因此，无论实验再怎么努力，论文内容再如何优化...

都投不中高级别会议，甚至连普通SCI都投不中！

但反观那些科研大佬， A会、B会一年发个六七篇 ，靠的并不是运气， 而是多年科研积累下来的 经验 、形成的 套路 和 方法论 ，以及对技术热点的敏感度。

比如：Jerry博士；

其实他们的这些成熟的经验，任何人都可以拿来直接复用！

只要在他们的指导下，掌握提炼顶级idea的方法， 领悟顶刊顶会的套路， 学习如何去正确地写作，去叙述一个漂亮的story。

一到三个月速成一篇CCF/SCI高水平论文完全是一件非常容易做到的事情。

也正是基于此：

我向图灵学术争取到了1次和 上述科研大佬 1对1直接请教 的机会。

• 如果你想得到 选题和idea挖掘指点 ，甚至 直接拿到一个idea ；
  
• 如果你刚启动科研，想要掌握 整套的方法论和发文套路 ；
• 如果你的科研遇到了卡点，希望得到解决方案；

我建议你一定要和大佬请教，因为他能给你100%能落地的指点！

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