韩国启动“去日本化”，高纯度氟化氢开始投入

SK集团全面着手将用于半导体制造的高纯度氟国产化。 作为本月初日本政府对韩国出口限制规定后出台的SK集团层面的应对措施，SK集团拿出了通过子公司实现国产化的筹码。 在日本经济报复扩大、长期化的可能性增大的情况下，韩国半导体业界也在逐一拿出隐藏起来的战略。

据业界7月25日透露，SK集团旗下的SK materials公司以今年内提供样品为目标，正在准备生产氟化氢。

SK matireals有关负责人表示:“目前正在开发相关生产设备。 目标是今年年底提供样品。 ”

由SK Materials制备的氟化氢是“蚀刻气体”。 它用于切割半导体电路的蚀刻工艺和用于去除硅晶片的异物的清洁工艺。 在半导体制造中，组合使用液态的氟化氢和气体。 液体产品是'蚀刻液体，气体是'蚀刻气体'。

SK materials计划以自己的技术为基础，制造出气体形态的氟化氢，即蚀刻气体，供应给半导体业界。 如果考虑到样品出库时间是今年年末，那么预计正式量产及供应将在明年上半年进行。

SK matials从1982年开始专门制作半导体原材料。 在韩国首次成功将用于半导体、显示器、太阳电池等方面的三氟化氮(NF3)国产化。 另外，该公司还向北韩提供与六氟化钨(WF6)同样适用的蒸气、石油化学、钢铁等产业天然气。

它始于Daabac Molsan，2008年被转让给OCI, 2015年SK收购OCI materials成为SK集团子公司。 这是SK materials首次参与氟化氢生产。

公司方面表示:“我们认为这段时间对原料氟(F)进行了处理，积累了精密的天然气技术和技术经验，具备了制造高纯度氟化氢的基础。 ”

生产能力(CAPA)、SK materials公司的具体投资规模等都尚未得到确认。 另外，由于必须经过质量验证，因此能否真正适用于半导体工程还是个未知数。

但是，SK materials进军氟化氢项目是在日本政府采取出口限制措施后正式启动的，因此备受关注。 因为这反映了要将核心半导体材料内在化的SK集团的意志，再加上日本政府决定半导体直接制造所需的氟化氢（蚀刻气体）列入出口限制对象。 随着韩国国产化的比重越高，日本材料就越自然地失去立足之地。 这可以说是“脱日本化”的开始。

半导体业界的一位有关负责人分析说:“日本氟化氢的供应何时才能恢复正常尚不明朗，而且日本的经济报复现象反而扩大，而且出现了长期化迹象，因此，为确保SK海力士半导体事业的持续性，SK集团内部特殊气体专门分公司SK materials将站出来。 ”

据业界透露，SK 海力士和三星电子考虑到日本的经济报复，从去年开始准备了核心材料国产化和供应商多样化。

SK materials正在全力推进蚀刻剂气体的国产化，而蚀刻液则由韩国solbrain公司来代替国产化。 据悉，Solbrain已经向三星电子和SK海力士提供了自己的蚀刻剂，据报道，该公司计划在9月底之前增加今年年底的产能。（ETnews）