首届国际先进光刻技术研讨会

集成电路产业是信息技术产业的核心，是支撑经济社会发展和保障国家安全的战略性、基础性和先导性的产业。近年来，国家投入巨资发展集成电路产业，作为集成电路产业核心的制造业也得到了蓬勃的发展，当前和今后一段时期是我国集成电路产业发展的重要战略机遇期和攻坚期。基于这样的形势，国家集成电路产业技术创新战略联盟决定在北京组织、主办首届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions），本次研讨会由中国科学院微电子研究所承办。

作为在中国大陆举办的首个此类研讨会，本次研讨会和其它国际光刻会议（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，会议以当前业界最先进的主流技术为主，其目的是研讨未来五年光刻技术所面临的问题，归纳、总结出业界可行的技术方案，为来自国内外光刻领域的优秀研究人员和工程师搭建一个深入讨论的技术交流平台，参会者能够就设计规则、极紫外光刻、掩模、光刻技术方案、计算光刻等分享、探讨各自的研究成果。

作为中国国内的首个高端光刻技术研讨会，本次研讨会的受邀发言者均为来自光刻及其相关领域的国内、外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。而数量众多的业内领先的国内、外知名参会企业也让报告更加丰富，也更贴近产业。

    本次研讨会将在秋高气爽、景色怡人的10月12-13日于北京国际会议中心举行，请有意参会者将姓名、电话、单位、电子邮箱发送至 [email protected]进行报名。报名成功与否以收到主办方邮件为准，更多会议信息以邮件方式通知。请时刻留意我们的网站www.iwaps.org/cn，相关信息正紧张筹备更新中。现阶段为题目征集阶段，请在网站的“题目征集”栏按提示提交您最感兴趣的题目。网站“会议日程”中的报告均为拟邀请的报告，最终报告会根据参会者最感兴趣的题目做出相应的调整。