自日本于2019年7月开始限制向韩国出口用于半导体和显示器生产的三种关键材料-高纯度氟化氢，氟聚酰亚胺和光刻胶以来，韩国公司一直在寻求对这些材料进行国产化以减少对日本的依赖。
其中一些材料已经自主化，将在今年上半年生产。
韩国贸易，工业和能源部（MOTIE）于1月2日表示，一家韩国公司已经自主生产了一种高纯度氢氟酸溶液，该公司将在不久的将来向韩国芯片制造商提供高纯度氢氟酸解决方案。
韩国芯片制造商主要依赖日本公司提供纯度为99.9999999999％（12个九位）的高纯度氢氟酸溶液，其中杂质仅占整个溶液的万亿分之一。
高纯度氢氟酸溶液主要用于半导体制造工艺中的晶圆蚀刻。
韩国化学材料公司Soulbrain已在忠清南道公州建立了新工厂，并于去年下半年开始生产氢氟酸溶液。
MOTIE的一位官员说：
“ Soulbrain生产氢氟酸溶液的能力翻了一番。
因此，有可能提供韩国半导体制造商所需的约三分之二的氢氟酸溶液。
” “这是自日本对这三项产品实施出口管制以来，韩国首次将其自主化。
”
一位业内人士说：
“我知道Soulbrain做好了供应三星电子和SK Hynix等韩国半导体生产商对高纯度氢氟酸溶液的需求的准备。
”
据报道，SK Group的子公司SK Materials目前还正在进行气态高纯度氟化氢（蚀刻气体）和氟聚酰亚胺薄膜的研究，并希望在今年上半年开始供应高纯度氟化氢气体。
氟聚酰亚胺薄膜用于曲面显示器的生产。
预计一家位于韩国的外国化学公司将新建一座工厂，并很快开始生产该产品。
然而，光刻胶的自主化似乎还有很长的路要走。
韩国政府官员表示，由于韩国半导体行业不使用大量光刻胶，韩国正在寻求通过供应商多元化而不是大规模自主化来降低对日本的依赖。
三星电子已通过比利时等曲线救国的途径进口了用于10nm EUV制程工艺的光刻胶。
