掘金次新股
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综合|我为科技狂、互联网热点（ID：web-news）
编辑|独角兽智库
近日，全球最大芯片光刻设备制造商阿斯麦（ASML）公布了2017第二季财报，营收净额21亿欧元，毛利率为45%。第二季新增8台EUV系统订单，目前未出货订单已累积到27台，总值高达28亿欧元。
但就是这样单价超1亿美元的昂贵设备，他们打死也不卖给中国！
网友@靓仔集团董事长表示：“全球就只有他家能生产的出来，没有人做的出来。而且还不卖给中国。中国出多少钱都不卖。毛利1000%都可以。这个是在芯片里面画电路的，都是几纳米，大概是头发丝的万分之一大小电路，你说牛B不。”
那么，到底什么设备这么牛？
答案：光刻机
光刻机是芯片制造的核心设备之一，是制造大规模集成电路的核心装备，芯片生产厂商要想成功地制造出芯片来，就一定要用到光刻机。
高端光刻机则可以说是全球最为精密的仪器，并有号称“现代光学工业之花”。目前，全球仅有极少数的光刻机设备厂商能够研制出高端光刻机，其核心技术长期被荷兰、日本、德国等把持。
ASML
一家独大，英特尔、台积电都得看它脸色！
过去，日本的佳能和尼康也研制光刻机。为防止过度依赖ASML，英特尔曾有意扶持佳能和尼康，无赖两家日企不争气，在全球光刻机市场中的份额逐渐被ASML蚕食，佳能现在基本已放弃了光刻机业务，尼康也处于苟延残喘中。
目前，光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML，已占据了全球80%的市场份额，基本垄断了高端光刻机（EUV光刻机）市场，且全球仅仅ASML能够生产。
尤其在14及16 奈米制程阶段，包括英特尔、三星、台积电等各家代工厂的极紫外线光刻机都来自ASML。
为英特尔承运ASML光刻机的空桥744F
2016
年，ASML独家销售了139台光刻机，极紫外光刻机卖出了四台，单台平均售价达1.1亿美元。
高度难产，一年只产12台
由于生产EUV光刻机需要超高成本及高精尖技术，ASML年产量只有12台，相当于每个月只能生产出一台。即便如此，ASML在2018之前的产能也早已被订光光。为了让产能跟上需求，ASML目前正在快马加鞭提升生产效率，预计到2018年可增加到24台，2019年达到40台产能。
截止到2017年第二季度，ASML已拿到8台最新光刻机订单，未交付的订单累计27台，其中有5台由台积电预订，费款高达5.5亿美元，几乎可以购买两架全球最大的四发双层客机空客A380。
中国出再高的价都买不到
作为集成电路制造过程中最核心的设备，光刻机至关重要，芯片厂商想要提升工艺制程，没有它万万不行，中国半导体工艺为啥提升不上去，光刻机被禁售是一个主要因素。
这么昂贵的设备，为什么不卖给中国呢？这就不得不提到《瓦森纳协定》。
《瓦森纳协定》又称瓦森纳安排机制，全称为《关于常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排》，目前共有包括美国、日本、英国、俄罗斯等40个成员国（注：没有中国）。
尽管“瓦森纳安排”规定成员国自行决定是否发放敏感产品和技术的出口许可证，并在自愿基础上向“安排”其他成员国通报有关信息。但“安排”实际上完全受美国控制。
当“瓦森纳安排” 某一国家拟向中国出口某项高技术时，美国甚至直接出面干涉，如捷克拟向中国出口“无源雷达设备”时，美便向捷克施加压力，迫使捷克停止这项交易。
由于西方瓦森纳协议的限制，中国只能买到ASML的中低端产品。
西方各国之所以担心技术流至中国，主要是惧怕中国的参与，会打破他们长期赖以生存的高利润市场：
1
、轮胎、防弹装备、润滑油等，都需要的石墨烯，以前是高端材料，国际市场上5000元一克，2013年，宁波建成了年生产能力300万吨的生产线，石墨烯成本价格降为3元一克；
2
、通信行业的交换机的一块板，15年前国外卖20万，10年前，国内企业开始生产，5年后价格降到1万，欧美厂商大多倒闭不见；
3
、水泥厂的磨机用减速机，当年国外的减速机卖1000万一台，国产化之后价格只要300万，国外的大型减速机厂商玩完；
4
、集成电路行业，计算机需要的8086芯片，在上世纪80年代初都需要进口，现在价格5元，成本近乎为零的东西，那时中国只能在国际上高价买。当某微电子所做出了0.6um的集成电路生产工艺后，市场价格降到了今天的5元钱；
5
、新能源市场，2010年，中国进口烷烃类气体，国际市场报价45000一公斤，然后我们努力培养了福建的一个国内供应商，烷烃类气体价格降到了28000；
综上所述，中国人不会做之前，这些东西都是天价，一旦我们能够生产后，这些东西都成了白菜价。
为此，网友吐槽：“这群老外就是精，国内搞出28nm，它们立即解禁28nm的光刻机。国内刚搞出14nm，它们又开始甩卖14nm的光刻机，现在国内7nm也快差不多了，现在又主动上门给你推销！”
有一种强大，是封锁出来的！
今年，ASML宣布要与中国上海的集成电路研究开发中心合作，双方共同设立一个培训中心，用于支持ASML客户，同时还会对中国境内的集成电路工程师展开技术培训。
虽然ASML对中国的技术封锁迈出了“艰难”的一步，但并不意味着中国就会因此获得高阶光刻机技术。想要掌握话语权，还得靠自主研发。
去年，清华大学召开了“光刻机双工件台系统样机研发”项目验收会，专家组对项目任务完成情况予以高度评价，并一致同意该项目通过验收。
项目的验收，标志中国在光刻设备系统上取得技术突破，但这仅仅是实现光刻机国产化万里长征的一个小插曲而已！
譬如，上海微电子在国内算是排名第一的光刻机设备厂商，在几年前研制出了90nm光刻机，但当时全球主流制成工艺已达到了65nm的水平。
一般来说，光刻机技术在90nm是一个技术台阶，只要迈过90nm，就很容易做到45nm，也就是说你可以做到65nm的光刻机。相比之下，国内光刻机厂商确实还有很长的路要走。
