大陆FAB高歌猛进，引爆再生晶圆热潮

2021 年 4 月，中国 12 英寸再生晶圆项目火爆异常，三大项目纷纷试生产。

首先是位于安徽合肥的至纯 12 英寸再生晶圆项目宣布试生产，项目总投资 3.2 亿元，全部建成达产后，预计可达月产能 14 万片。

再者是位于安徽铜陵的富乐德长江 12 英寸再生晶圆项目宣布试生产，项目总投资 10 亿元，全部建成达产后，预计可达月产能 20 万片，预计可实现年销售收入 3.7 亿元。

第三是位于湖北黄石的晶芯半导体 12 英寸晶圆再生项目一基宣布试生产，项目总投资 23.13 亿元，分四期建设，全部建成达产后，预计可达月产能 40 万片，年营业收入可达 10.08 亿元，年税收 1.43 亿元。

据悉，三大项目都将在 6 月正式投产，至年底将合计月产 12 万片 12 英寸再生晶圆，将可以追平台湾辛耘的月产能。

硅片按照在晶圆厂的应用场景不同，可以分为两大类 ，第一类是 正片（ Prime Wafer ），被直接用于半导体加工，包括抛光片 （ Polished Wafer ） 、外延片 （ Epitaxial Wafer ） 等； 第二类是 用于监控 的 测试片（ Test Wafer ），包括控片（ M onitor W afers ）、 挡片（ D ummy W afers ）。 在晶圆的制造过程中，需要使用控片和挡片，来测试监控机台和工艺的稳定性。

控片，主要作用是监控产线上的机器设备的稳定性和可靠性，判断制程能力是否稳定、生产环境是否洁净。产品投产之前，需要用控片来试加工一下，检验一下产线的稳定性；产品生产过程中，需要在正片中混杂一些控片，工艺完成后，可以用控片来判断该批次是否正常。通过使用控片，可以对离子注入、薄膜沉积、光刻、刻蚀和研磨等制程中的例如电阻率、薄膜沉积速率、刻蚀速率、研磨速率以及均匀性等进行监测。

挡片，主要作用就是占位。特别是在炉管（ PVD/CVD/ 氧化扩散等）里，如果某批次的硅片不足，留有空隙，可能会影响气流稳定性和均匀性，因此需要加一些挡片，来把空余的位置填充起来，对炉管内的气流进行阻挡分层并使炉管内温度均匀分布，从而使气流中的反应气体与被加工硅片均匀接触、均匀受热，发生化学物理反应，沉淀或生长均匀的高质量薄膜。

为什么要用 测试 片？难道 不可以 用正片？原因只有一个， 测试 片价格便宜 。 正片多少钱，半次品的测试片才几个钱？反正也不需要考虑晶圆的质量，特别是那些填充位置用的，用正片简直就是暴殄天物。

测试片最初是来自于硅片的次品，比如硅锭两头切割出来的品质较差的硅片，或者是筛选出正片后剩下的有瑕疵的硅片，做正片不行，当测试片用还是可以的。测试片毕竟也要花钱买，而且用量巨大，能省则省，对于晶圆厂常来说，省下来的都是利润。

于是再生晶圆（ Reclaim Wafer