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清华「国家杰青」,联合港中大,2025年首篇JACS!

微算云平台  · 公众号  ·  · 2025-01-31 06:51

正文

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成果简介
研究证明,配位不饱和铜(Cu)通过调节C 1 -C 2 中间体的耦合,有效地催化CO 2 还原成C 3 产物。然而,由于缺乏低配位数Cu的合成配方,以及低配位数Cu在还原电位下容易聚集,所以超低配位Cu对C 3 产物的直观影响很少得到阐明。为实现和维持高活性CO 2 RR的超低配位Cu位点, 清华大学李亚栋院士和王定胜教授、香港中文大学(深圳)李怀光助理教授和吴佳宾研究助理教授等人 报道了一种隔间化策略,即以三维(3D)高度有序的介孔和大孔(3DOM)框架为基质的SiO 2 载体,而纳米孔的限制空间有效地阻止了CuO在电还原过程中原位形成的Cu位点聚集。
原位X射线吸收精细结构(XAFS)光谱显示,原位形成的Cu具有超低配位数(CN),为~3.9,且在很宽的电位范围内保持稳定。在-0.8 V RHE 下,原位形成的Cu/3DOM SiO 2 催化剂在H-电池中对正丙醇(n-PrOH)的法拉第效率(FE)达到了27.4%。此外,液流电池中实验显示,在-1.44 V RHE 下,n-PrOH的FE高达11.8%,局部电流密度为35.4 mA cm -2 ,对比现有基准,n-PrOH产品具有更高的选择性。超低配位Cu位点的维持增强了CO(*CO atop )和*C 2 中间体顶部吸附的结合亲和力,从而促进C 1 -C 2 偶联,沿着能量可行的途径生成C 3 产物。
相关工作以《Ultralow Coordination Copper Sites Compartmentalized within Ordered Pores for Highly Efficient Electrosynthesis of n-Propanol from CO 2 》为题发表在最新一期《Journal of the American Chemical Society》上。
王定胜 ,清华大学化学系教授、博士生导师。2000.09-2004.07,中国科学技术大学化学物理系,学士;2004.09-2009.07,清华大学化学系,博士;2009.07-2012.06,清华大学物理系,博士后;2012.07-2012.12,清华大学化学系,讲师;2012.12-2023.12,清华大学化学系,副教授;2023.12—至今,清华大学化学系,教授。
研究领域 :纳米材料制备与性能;金属纳米催化。
奖励与荣誉 :2023年获国家杰出青年基金;2013年获国家优秀青年基金;2012年获全国百篇优秀博士论文奖。
图文解读
首先,聚苯乙烯(PS)球体用作大孔支架的模具,通过离心处理组装成紧密排列的蛋白石阵列。接着,将四乙酸硅(TEOS)作为硅前驱体和P123胶束作为介孔模板引入到PS蛋白石阵列中,通过煅烧过程获得有序的介孔和大孔结构,去掉PS和P123。然后,引入氨基(NH 2 )基团作为螯合剂,将金属负载到3DOM SiO 2 中。最后,通过连续浸泡和热煅烧反应,得到分布在3DOM SiO 2 -NH 2 纳米孔内的Cu,记为CuO/3DOM SiO 2 。透射电子显微镜(TEM)图像显示,在保持良好的相互连接的大孔网络壁上有高度有序的介孔,其外表面没有明显的Cu聚集体。在骨架孔内分别观察到黑点和白点,这些黑点是平均尺寸为2~3 nm的CuO NPs,其面间距为0.23 nm。HAADF-STEM表征发现,CuO/3DOM SiO 2 中CuO NPs的空间分布,CuO NPs在SiO 2 基体上呈分散分布。面积平均能量色散谱(EDS)显示,孤立的Cu元素散布在均匀分布的Si和O元素上。
图1. CuO/3DOM SiO 2 的制备和结构表征
图2.原位XAFS表征CuO/3DOM SiO 2 形成Cu/3DOM SiO 2 的过程
在整个电位范围内,C 2 和n-PrOH在CuO/3DOM SiO 2 上的总法拉第效率(FE)始终高于在CuO上的总FE。在CuO/3DOM SiO 2 上,n-PrOH以-0.6 V RHE 的相对正电位生成,表明超低配位位点的存在降低了所需的过电位。CuO/3DOM SiO 2 在-0.6至-1.4 V RHE 范围内表现出优异的n-PrOH选择性,在-0.8 V RHE 时n-PrOH FE最大值为27.4%,超过了由CuO NPs获得的-1.1 V RHE 时的10.1%。在-1.1 V RHE 下,CuO/2DOM SiO 2 对n-PrOH的最大FE约为15.2%,低于CuO/3DOM SiO 2 在-0.8 V RHE 下的27.4%,高于CuO在-1.1 V RHE 下的10.1%。
电化学活性表面积(ECSA)结果表明,CuO/3DOM SiO 2 的粗糙度因子(RF)高达326.55,比CuO NPs和CuO/2DOM SiO 2 分别高出139.74和29.32%,表明CuO/3DOM SiO 2 上存在更丰富的不饱和配位点。在300 mA cm -2 下局部电流密度为35.4 mA cm -2 时,CuO/ 3DOM SiO 2 催化剂上n-PrOH的FE达到了11.8%的峰值,在液流池CO 2 RR中n-PrOH的选择性和局部电流密度超过了之前的报道值。此外,在CO 2 RR测量期间,系统保持了超过120 h的稳定电位。
图3. H-电池和液流电池中电催化CO 2 RR性能
图4.原位ATR-FTIR表征
通过密度泛函理论(DFT)计算,作者研究了正丙醇(n-PrOH)生成的机制。采用SiO 2 上负载的超低配位Cu位点作为模型(记为Cu/3DOM SiO 2 ),计算发现*CO在Cu/3DOM SiO 2 上的吸附能(-0.86 eV)大于Cu(111)上的吸附能(-0.43 eV),表明*CO在Cu/3DOM SiO 2 上的吸附更强。*CO中间体在催化剂表面的吸附强度增强,增加了*CO的覆盖范围,从而增加了后续C-C耦合的可能性。CO还原生成n-PrOH的总自由能变化为负,表明CO在Cu/3DOM SiO 2 上转化为n-PrOH在热力学上是有利的。






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