CMOS门电路由
PMOS
场效应管和
NMOS
场效应管以对称互补的形式组成,本文先介绍MOS管,然后再介绍由CMOS组成的门电路。
MOS英文全称Metal Oxide Semiconductor,中文全称是
金属-氧化物-半导体场效应晶体管
,属于一种
电压控制型
器件,正如其名,由金属(M),氧化物(O)和半导体(S)构成,和三极管一样,既可以用来放大电路,也可以当作开关使用,MOS管基本原理和制造流程,这里不再详细介绍,有兴趣可以看看以前的文章。
MOS管可分为
耗尽型
和
增强型
,每种类型又分为P沟道和N沟道。
增强型MOS管,栅极与衬底之间不加电压时,栅极下面
没有
沟道存在,耗尽型,栅极与衬底之间不加电压时,栅极下面已
有
沟道存在。
MOS管的图形符号如下,一般用
增强型MOS
管用于门电路分析。
MOS管图形符号
增强型MOS管有P沟道和N沟道两种,其结构原理基本类似,主要区别在于沉底和载流子不同,下面以
N沟道增强型MOS管
为例简单介绍下,其结构如下所示:
增强型NMOS管的结构
增强型NMOS管是以
P型掺杂
硅片为衬底,然后制作两个N型掺杂的区域,再制作一层电介质绝缘层,在两个N型掺杂的区域用金属导线连出,分别称为
源极
(source)和
漏极
(drain),在两极中间的绝缘层上制作金属导电层,然后用导向连出称为
栅极
(gate),衬底一般也用导线连出和源极连接在一起。
增强型MOS管需要在栅极加合适的电压才能工作,下面说明其工作原理:
增强型NMOS管工作原理
电源E1通过R1加到场效应管D, S极,电源E2通过开关S加到G, S极。
当开关S断开时,栅极无电压,由于衬底是P型,多数载流子是空穴;源,漏极是N型掺杂,多数载流子是电子,熟悉PN节的读者可以很快看出来,源极和漏极之间有两个背靠背的PN节,即使源,漏极加上电压,总有一个PN节处于反偏状态,源漏极之间没有导电沟道,所以电流为0;
当开关S闭合,场效应管栅极获得正电压,上面会带有正电荷,它产生的电场穿过电介质,将P衬底中的电子吸引过来并聚集,从而在两个都是N型掺杂的源漏极之间出现导电沟道,由于此时漏源之间加上的是正向电压,于是就会有电流从漏极流入,再经过导电沟道从S极流出,一般把形成沟道时的栅源极电压称为
开启电压
,用Vt表示,也即是图中E2电压。
如果改变E2电压大小,栅极下面的电场大小随之变化,吸引过来的电子数量也会发生变化,两个N区之间沟道宽度就会随之变化,通过的漏源极的电流大小就会发生变化。E2电压越高,沟道就会越宽,电流就会越大。
增强型MOS管的特点如下:
-
G, S极之间未加电压时,D, S极之间没有沟道,电流为0;
-
G, S极之间加上开启电压后,D, S极之间有沟道形成,D, S极之间有电流
为分析方便,可以认为当
NMOS管,G极为高电平时导通,为低电平时截止
;对于
PMOS
则相反,
G极为低电平时导通,高电平时截止
。
上面介绍了PMOS和NMOS基本概念,接下来介绍CMOS构成的逻辑门电路。
首先是
CMOS非门电路
,也叫
反相器
,结构图如下:
VT1是PMOS管,VT2是NMOS管,电源输入端A分别与MOS管的G极连接,电路的输出端分别与MOS管的D极相连,PMOS的S极接电源VDD,NMOS管的S极接地。
-
当A端为
高电平
时,VT1 PMOS管截止,VT2 NMOS管导通,Y端输出为
低电平
,也即A=1,Y=0;
-
当A端为
低电平
时,VT2 NMOS管截止,VT1 PMOS管导通,Y端输出为
高电平
,也即A=0,Y=1。
综上所述,CMOS非门的输出端与输出端之间电平总是相反,实际上,不管输入端为高电平还是低电平,VT1和VT2始终有一个处于截止状态,电源与地之间基本无电流通过,因此CMOS非门电路的功耗很低。
然后介绍
与非门
,其电路结构图如下:VT1,VT2为PMOS管,VT3,VT4为NMOS管。
-
当A,B端均为高电平时,VT1 PMOS,VT2 PMOS截止,VT3 NMOS,VT4 NMOS导通,Y端为低电平,即A=1,B=1时,Y=0;
-
当A,B端均为低电平时,VT1 PMOS,VT2 PMOS导通,VT3 NMOS,VT4 NMOS截止,Y端为高电平,即A=0,B=0时,Y=1;
-
当A端为低电平,B端为高电平时,A端低电平使VT2 PMOS导通,VT3 NMOS截止,B端高电平使VT1 PMOS截止,VT4 NMOS导通,所以Y端输出高电平,即A=0,B=1时,Y=1;
-
同理,当A端为高电平,B端为低电平时,输出端Y=1。
从上面分析可知,当输入端均为高电平时,输出端为0,只要有一个输入端为低电平,输出端就为1,满足或非的逻辑。