80 年代电子产业从家电进入 PC 时代,催生了对 DRAM 的需求,日本凭借在家电时代的技术积累和出色的生产管理能力, 实现 DRAM 的大规模量产,并实现反超美国,半导体产业的繁荣持续了将近 20 年(1970-1990 年)。
美日半导体产业变迁图
从美日向韩台的第二次产业转移则与 PC 产业的发展息息相关。第二次产业转移一方面表现为存储产业从美国转向日本后又开始转向了韩国, 另一方面也表现为IDM 模式以外产生了单独的设计公司(fabless)与逐渐独立出来的晶圆代工(foundry)环节,台湾切入晶圆代工环节,并由此孵化 IC 设计公司,实现半导体产业从美日向台湾的转移。
存储的转移主因 PC 产业带动 DRAM 技术不断升级,日本经济泡沫无力投资、技术升级落后于韩国;制造环节晶圆代工独立出来则主因 90 年代 PC 的广泛应用与普及, IC 产业开始进入以客户为导向的阶段, ASIC(为专门目的而设计的集成电路)应运而生,专门负责设计的公司诞生,与制造分离。 因此我们认为从美日到韩国的存储产业的转移, 与技术升级有关; 而制造环节从美日向台湾的转移, 则与设计、制造、封测这一产业链分工模式取代传统 IDM 模式的变化有关。
80 年代到 90 年代初期, 日本通过 DRAM 生产优势和消费电子的输出一度超越了美国。 美国半导体产业的薄弱环节在于产品制造和企业管理:首先,生产方面的效率不高,新产品不能很好地转化为市场上可信赖的产品;其次,企业间的横向联系较为松散,企业在关键性产品上的投入不足,重复性技术开发造成了巨大的资源浪费。 1983-1998 年间,日本持续保持 DRAM 制程的领先, 反超美国,市占率跃居全球首位。
1980-2010 年全球存储行业市场份额变化
PC 重塑半导体产业链,半导体产业从美、日转向韩、台
IBM 公司于 1981 年推出了第一部型号为 PC 的个人桌上型计算器,标志着 PC 时代的到来。 PC 出现以后的 30 年整个半导体市场基本围绕 PC 发展, 而这其中最重要的两个组成就是半导体内存 (Semiconductor Memory) 与微处理器(Micro Processor) 。 PC 产业的发展就伴随着内存以及微处理器技术的不断升级 。
进入 90 年代半导体行业依然遵循着摩尔定律前进, PC 应用越来越广泛,功能越来越强大,这时软件就起了决定性的作用,微软 Window 操作系统大获成功。奠定了其 PC 软件霸主的地位, 为之提供配套 CPU 等硬件产品的 Intel 随之崛起。
此外, PC 时代半导体产品的特性要求也发生了变化。 从家电到消费电子,产品差异化竞争使得芯片定制化程度更高, IC 产业开始进入以客户为导向的阶段。 一方面标准化功能的 IC 已难以满足整机客户对系统成本、可靠性等要求,同时整机客户则要求不断增加 IC 的集成度,提高保密性,减小芯片面积使系统的体积缩小,
降低成本,提高产品的性能价格比,从而增强产品的竞争力,得到更多的市场份额和更丰厚的利润。另一方面, PC 中除了微处理器和存储是标准化产品外,其他芯片均是非标准化的,造成了芯片之间信号传递的延迟和不稳定。由于这两个原因, IC 设计公司兴起,为客户提供 ASIC 的设计服务,以实现系统的整体优化;同时将制造外包出去,形成了独立的晶圆代工环节。
PC 产业兴起, 最大的受益者首先是拥有芯片设计能力的公司——芯片设计公司或者是 IDM 公司,它们直接对接下游需求。 PC 时代成就了美国芯片公司英特尔(IDM), 可以说英特尔公司的成长基本就是 PC 行业的成长史。
1986-2000 年,英特尔营收增长与全球 PC 出货量都处于快速成长期,两者基本保持着一致的趋势;
1986-2016 年全球 PC 出货量(百万台)
2000-2011 年随着 PC 出货增速的放缓,英特尔的营收成长放缓甚至出现衰退;
2012 年之后 PC 出货在衰退,但英特尔营收稳中有升则主要受益于英特尔面向后PC 时代转型,如布局物联网以及数据中心服务器芯片等。
1986-2016 年英特尔营收(亿美元)
(2)PC 崛起催生 DRAM 需求, 韩国抓住 DRAM 机遇
美国半导体产业的优势主要是在技术密集型的设计环节, 而在制造环节美国却没有优势,反之,将技术转化为产品的生产能力一直是美国的弱势。 PC 崛起催生了对 DRAM 的需求,初期阶段美国强大的科研能力使其基本占据整个 DRAM 市场。
但是由于转化成生产的能力不高, 1979 年日本又由于 VLSI 计划大获成功抢先美国进入 64K-DRAM 时代, DRAM 市场份额逐渐被日本抢占。 90 年代由于日本经济泡沫,无力持续投资支持 DRAM 技术升级以及 8 寸晶圆厂的建设, DRAM 产业式微, 而韩国抓住这一机遇, 韩厂三星、海力士崛起,直到今天一直保持着全球的寡头地位。
韩国从 DRAM 切入取得成功, 是因为 DRAM 行业具有标准化程度高、周期性强和技术更新快的三大特征:标准化程度高为后进者提供弯道超车机会: 受益于 DRAM 模块化变革,使其可以从计算机主板上独立出来,成为具有标准化接口的模块化产品(内存条)。这就使得 DRAM 的使用者和生产商的关联度降低,产品标准化程度高, 可替代性加强。生产能力可以弥补技术能力的差距,对后进者是一个很好的切入点。
DRAM 市场周期性波动大
周期性强要求企业具备规模优势。 由于 DRAM 市场巨大, 受供需变化的影响,其波动性高于半导体全行业水平,生产者的收益就会随之变化。在周期性低谷, 小规模企业难以支撑,只有大型企业可以凭借规模优势降低成本,并且拥有足够的资金支持,以度过低谷。
技术更新速度快需要持续的重资产投入。
终端市场对内存容量要求不断提升,根据摩尔定律的发展,技术进步才能带来产品成本的下降, DRAM 技术升级非常快,需要持续的资金投入以实现技术升级, 降低成本。
DRAM 技术持续升级
韩国选取 DRAM,采用财团主导的 IDM 模式抢占寡头地位。 正是由于这样的发展特点, DRAM 行业更适合韩国财团主导的 IDM 发展模式。 标准化程度高促进市场趋于完全竞争,成本和技术成为市场竞争的主导因素,韩国大财团三星、现代和 LG 的 IDM 发展模式优势尽显。 凭借强大的资本优势,韩国半导体厂商持续大规模投入,逆势扩展产能形成规模效应,产品成本优势明显;
另一方面,韩国为了抢占先机,发展初期采用全面的“技术移植模式”,在引进技术的基础上采用“官产学”进行合作研发,极大得缩短了技术开发周期,最快速度追赶国际领先技术。而此时,日本经济泡沫,无力投资 8 寸晶圆厂,给韩国的起飞带来了机会。韩国大财团的决策迅速,使韩国半导体产业得到飞速发展。在规模上,三星于 1993年首度成为全球 DRAM 产量第一,在技术上, 1997 年,韩国领先世界开发出 256MDRAM。此后,得益于亚洲金融危机后的景气回升,韩国存储芯片产业一飞冲天,至今仍牢牢占据绝对领先地位。
韩国采用大财团 IDM 模式发展 DRAM 产业
韩国存储芯片虽起步晚于日本,但这些恰好免于和美国的直接竞争,又在日本衰退的时候趁势崛起。同时,韩国的大财团模式使其存储芯片行业不仅能抵御行业低谷,更能逆势扩展,其崛起过程中恰好经历了 PC 和智能手机两轮的爆发,存储芯片市场规模在这过程中快速成长。以此而言,韩国发展存储芯片可谓踩准了每一个节奏, 才成就了今天的霸主地位。
ASIC 的出现解决了非标准化 IC 带来的问题,让 IC 设计更为方便。得益于 1981年 Daisy 公司首先实现设计了计算机辅助工程(CAE),许多独立的 IC 设计公司营运而生,这类 IC 设计公司没有自己的工厂,仅负责 IC 的设计(Fabless)。 ASIC的出现推动了 IC 产业进一步由 IDM 解构为垂直分工形态,将 IC 设计与制造分离。
台湾企业进入半导体生产的途径,其一是适逢美国无晶圆厂的设计公司的兴起,从代工(OEM 加工)起步,面向本岛及海外市场,第一条切入途径取得成功。 其二是以标准产品为重点,仿效日本和韩国以记忆体,特别以 DRAM 为生产重心,把竞争能力集中于投资规模,以及技术、经验的累积上,但最终以失败告终。
第一条切入途径的成功与台湾“半导体教父”张忠谋发现产业结构变化带来的商业机遇息息相关。张忠谋在 1987 年准确地在 IDM 与 fabless 之间的矛盾中找到利基所在,在台湾当局的帮助下成立台湾积体电路公司,成为全世界第一家专业的晶圆代工公司,开创了新的半导体生产模式, 将 IC 制造中最核心的晶圆代工独立出来,构成全球分工的一环。
台湾半导体的崛起关键在于从制造环节切入,采用晶圆代工的模式, 符合台湾的竞争优势。 台湾基于岛内市场狭小,无力支撑产业成长,实施外向型半导体发展战略,寻求国际市场,选择从生产制造环节切入,通过晶圆代工,承接全球加工合同, 成功将产业引入岛内并成功发展壮大。 同时, 制造分离可有效降低开发半导体元件之资金门槛,促成大量 fabless 型态的 IC 设计公司开始茁壮,进而达成设计、制造、封测之完整的半导体产业链,建立独霸全球的半导体制造基地。
而第二条切入路径的失败使得台湾与韩国走上不同的半导体发展之路, 这不是台湾自主选择的结果, 而是因为 DRAM 不符合台湾的竞争优势。 首先是资金投入方面, DRAM 产业讲求技术创新和规模经济, 韩国可凭借财团雄厚的资金实力促进产业发展,而以中小企业为主的台湾厂商在筹资能力方面远不及三星、现代等大财团,因此在和韩厂竞争时始终处于劣势。
其次, DRAM 是周期性产业, 需要撑得住因景气循环造成的巨额亏损,台湾在经过 1995 及 1997 年两波 DRAM 价格崩盘后, 因经营风险过大遂渐渐退出此市场, 宁可选择利率、 风险皆较低的晶圆代工作为发展方向。 因此我们认为承接地能否选取符合自身竞争优势的切入点,在产业转移的趋势下自主抓住商业机遇,也是半导体产业转移中必不可少的一环。
智能手机时代酝酿着第三次半导体产业转移?
苹果在 2008 年推出 iPhone 3G,开启了智能手机的新时代,智能手机的普及率迅速上升。处理器、 RAM、 ROM、基带、射频、摄像头 CMOS、电源管理 IC 等芯片蓬勃发展。处理器 AP 和 Memory 与手机应用和用户体验息息相关,每代产品都在不断提升;射频前端则由于从 2G、 3G 逐渐升级至全网通 4G,单机的射频需求量不断增加;手机手机进入存量竞争时代,拍照性能要求不断提高, CMOS 要求不断提高, ISP 先从 CMOS 中剥离内臵到 AP 中,又因性能提升将 ISP 芯片独立出来。
新兴终端孕育着产业转移的根本原因,一是技术的变化,二是产业链的变化。 国家从晶圆代工和存储两个角度发展半导体产业,能否成功也主要是看能否抓住促进产业转移的技术变化和产业链变化这两大商机。对存储而言,主要是要抓住智能手机带来的 3D NAND Flash 技术升级需求;对晶圆代工而言,产业链发生了利好大陆半导体产业的变化——大陆广阔的智能手机市场孵化出了大批的 IC 设计公司, 通过 IC 设计孵化薄弱的制造环节是未来的发展之重。
(1)NAND Flash 向 3D 转型,技术升级放缓,提供中国弯道超车机遇
存储技术发展到现在开始处于放缓趋势, 一方面是由于制程的提升带来的性价比下降,另一方面是由于 2D Flash 的发展陷入了瓶颈,开始转向 3D NAND Flash,新技术的研发时间较短,大部分的厂家还处于研发试验阶段,短期内无法量产。存储芯片除了要求速度提升,内存扩大之外还需要关注性能的稳定性,制程缩小带来了速度的提升,却降低了存储芯片的稳定性。
为了解决稳定性的问题同时适应小体积、大容量等市场需求,NAND FLASH制造技术向 3D 技术发展。3D NAND FLASH 通过增加立体硅层的办法,既提高单位面积存储密度,又改善存储单元性能。 3D NAND FLASH 不仅能够增加容量,也可以将成本控制在较低水平。整体来看 3D NAND 比 2Xnm 级产品的容量密度高,读写速度快,耗电量节省。
3D NAND Flash 技术成熟后明显降低成本
3D Flash 技术起步不久,中国追赶仍有机会。 3D Flash 技术的先创者是三星,在2014 年在西安正式投产,紧接着存储巨头先后开始在 3D Flash 进行技术研发,截止到 2016 年上半年,依旧只有三星能够规模化量产,且在 3D NAND Flash 产品中市占率为 61%,遥遥领先。
全球 NAND Flash 厂 3D NAND 量产进度
2016 年下半年,其他原厂为了维持竞争优势相继加大力度对 3D Flash 进行投资,在 2016 年开始逐渐投片、送检。目前三星在 3D Flash上一枝独秀,但是也仅仅领先业界 2 年左右,中国厂商通过加大技术投资和研发合作,追赶国际主流技术
2016 年 3D NAND Flash 三星市占领先
国内储存阵营基础良好,技术进展顺利,未来发展明朗。 国内 3D Flash 发展阵营长江存储旗下的武汉新芯基础较好,有一定的追赶基础。 长江存储是国家大力发展储存行业的中心,具有 10 年闪存制造经验,招纳了经验丰富的国际化管理团队和大量的专业储备人才, 同时拥有参与全球化竞争的知识产权平台,具备研发 3D NAND Flash 技术的基础。
武汉新芯采用技术合作和专利授权许可的方式快速切入 3D NAND Flash 研发,目前研发进展比较顺利。一方面,武汉新芯长期和中科院微电子研究所通过产研深度结合的模式,展开 3D Flash 的联合技术研发;另一方面武汉新芯和半导体设计公司 Spansion 签订 3D NAND 授权协定,联合启动 3D NAND 计划, 预计 2017 年底就能取得 48 层 3D NAND 验证, 2018 年进行量产。 目前长江存储的 32 层 3D NAND Flash 产品已经成功实现了工艺器件和电路设计的整套技术验证,顺利通过电学特性等各项指标测试,达到预期要求,已有样品提供。 可以预见中国未来 3D Flash 技术追赶前景明朗。
3D NAND Flash 成为未来发展主体,国内企业或可凭此近路赶超。 根据DRAMeXchange 预估 2016 年整体 NAND Flash 产业的 3D NAND Flash 产出比重攀升至 20%,较 2015 年 6%的增速有显著增长, 3D NAND Flash 最晚将于 2018年超越整体 NAND Flash 市场的一半,成为未来闪存市场的主体。根据预计至 2020年中国整体 NAND Flash 需求将维持每年 40%的高增长率,大陆或可凭借 3D Flash的高增长,近路赶超国际巨头,实现存储行业的腾飞。
(2)大陆 IC 设计快速崛起,有望带动制造国产化
IC 设计是大陆半导体增速最快的环节,产值首次超过封测业。 2012 年大陆 IC 设计产值为 622 亿元, 2016 年则达到了 1664 亿元,复合增长率为 27.5%。过去,封装业在中国半导体产值中占比过半,由于设计业增速明显高于封测业,大陆半导体产值逐渐形成了“设计—制造—封测”两头大中间小的结构。 2016 年,大陆封测业产值为 1564 亿元, IC 设计第一次超过了封测业。
中国半导体细分行业产值(亿元)
中国半导体细分行业增速
大陆 IC 设计产值在全球的比重也不断提高, 2016 年首次超过台湾。 大陆 IC 设计产值在全球市场的占有率逐步提升, 2009 年仅有 7.1%,在 2015 年达到 18.5%。
美国通过创新带来的先发者优势,把控着全球半导体产业链中附加值最高的环节——IC 设计和半导体高端设备,在每个时代都产生了全球最顶尖的半导体公司:如军工时代的德州仪器、 PC 时代的英特尔和智能手机时代的高通。
日本的模式起先源自政府的“官产学”推动以及美国的支持,承接了美国军工半导体后,看准了产业轮动和经济切换,民用市场需求不断打开,成功地应用在战后兴盛起来的家用电器,乃至承接 DRAM 产业。日本的成功离不开内生资金、人才以及外部支持、技术引进,消化吸收前人的积累,开拓新市场并且自主创新,这是最强的后发崛起模式。
本质上而言,台湾模式是通过改变原有半导体企业经营模式,实现产业链利益重配,从全球的半导体市场中分一杯羹,并培育出实力不容小觑的代工厂、封测厂和设计商,形成独特竞争力,仅台积电一家获取了晶圆代工行业 90%的利润。台湾从晶圆代工入手,并通过晶圆厂逐渐培育相关的产业集群,孵化 IC 设计,并带动下游封测厂。联发科及联咏正是在联电向纯粹代工厂转型过程中先后剥离出来的设计商,日月光和矽品,则成为最大的封测厂。
半导体制造向中国转移,中国半导体产业正从劳动密集型向资本密集型转变: 伴随着电子产业新兴终端的兴起,最先受益的是美国卡位的 IC 设计环节(第一次产业转移除外,因为产业链尚未形成明确分工,设计、制造和封测一体化),而美国的生产能力一直是弱项,因而催生了制造和封测环节向外转移的原动力,其他国家迎来半导体产业转移的机遇。半导体产业变迁的历史基本是这一规律的演绎。
日本从装配起家,引入美国半导体技术,并整合进家电产品中。家电市场崛起,抓住这一机遇的日本半导体产业迅速崛起。 PC 市场崛起,首先受益的是英特尔等IC 设计公司,韩国和台湾分别抓住了存储和晶圆代工产业转移的机遇,半导体产业迅速崛起。智能手机时代,我们认为最先受益的仍是美国的 IC 设计公司高通,其次是制造环节的产业转移机遇,而这一机遇我们认为正是当下大陆的机遇。我们认为智能手机酝酿着的第三次半导体产业转移,正是从美、韩、台向大陆的转移,而转移能否成功的关键,也要看大陆能否抓住智能手机时代技术变化和产业链变化带来的行业重新洗牌的机会。
晶圆代工和存储, 看好制造国产化两条腿走路:大陆的半导体产业迎来国产化的黄金时期。未来国产化主要看两条线,一条是学习台湾模式的从晶圆代工切入,“晶圆代工+封测”形成虚拟 IDM,未来可能进一步孵化整合 IC 设计公司,形成设计、制造和封测完成的产业链;一条是学习韩国韩式的从存储切入,采用 IDM的模式,抓住 3D NAND Flash 技术升级的机遇,实现弯道超车。