国内首台集成电路ALD设备进驻上海集成电路研发中心

近日，由北方华创下属子公司北方华创微电子自主研发的国内首台12英寸原子层沉积（AtomicLayerDeposition，ALD）设备进驻上海集成电路研发中心，北方华创微电子为国产高端装备在先进集成电路芯片生产线的应用再添新秀。

ALD设备是先进集成电路制造工艺中必不可少的薄膜沉积设备，ALD工艺具有工艺温度低、薄膜厚度控制精确及台阶覆盖率高等优点在集成电路特征线宽发展到28纳米节点后，ALD工艺应用日益广泛。

此次，北方华创微电子PolarisA630ALD设备以参与公开竞标方式，成功进驻上海集成电路研发中心有限公司，同时中标的产品还有北方华创微电子集成电路AlPad工艺的eVictorA1030物理气相沉积系统。

（来源：中证网）