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海外电子营运和供应链剖析系列四 —2Q17ASML业务和营运点评，以及供应链整理分析

申万宏源电子研究 · 公众号 · · 2017-07-24 00:07

正文

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海外电子营运和供应链剖析系列四

—2Q17ASML业务和营运点评，以及供应链整理分析

申万宏源研究 | 电子产业

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本期投资提示：

1、在华天科技深度报告二中我们提到，我们陆续建立起了电子/半导体产业周期分析、产业估值比较、规范可跟踪的个股业绩分解和盈利预测，以及基于财务的价值链、供应链和公司治理分析框架。我们亦提到，后面的工作将基于以上的体系泛化研究，和添加边角，其中较为重要的边角即海外电子供应链和标的研究。

实际上，从今年初4Q16季报开始我们就率先进行海外重要标的的跟踪研究，我们认为其中至少有2层意义：

（1）大部分重要的下游终端厂商、中游零组件龙头和上游器件/设备厂商在海外上市交易，考虑到当前电子/半导体产业存在明显的周期性，仅仅关注A股范围内标的和供应链显然不合理；

（2）电子产业微创新的供应链变化中，台湾、韩国、北美在半导体、面板、光学、PCB等器件和零部件供应链中仍然占据重要的地位，忽略海外供应链变化的信息整理亦是不足取的；

仅仅这2层意义对于海外供应链和产业研究而言，便已足够重要。因此我们将在海外2Q17季报期间推出系列报告，详细整理和分析海外电子重要标的的供应链和产业趋势、竞争情况，作为申万宏源电子研究体系不可或缺的一环。

2、ASML 2Q17业绩、3Q17指引符合华尔街预期。ASML 2Q17营收23.14亿美元，略超出华尔街一直预期0.74%（前一日），毛利率45.00%，高于预期3.49%。公司预计3Q17营收为22亿欧元，服务业务营收为6亿美元，整体毛利率为43%。

3、公司EUV系统光源获得突破，量产关键技术指标已基本满足，公司2018-2020年EUV出货将成为公司成长主要动力。公司之前出货的EUV机台均为产品验证和良率改善所用，250瓦光源技术突破后，公司将成为唯一供应10nm以下制程量产光刻设备的供应商。公司维持2017年出货12台EUV设备的预计，预计2018将出货24台，2019-2020达到45台/年产能。

1．ASML2Q17业绩：业绩符合预期，EUV 光源突破奠定公司2018-2020年高成长

2．ASML业务和行业概览：全球半导体光刻设备制造龙头

3．ASML上游供应商和下游客户供应链分析

ASML2Q17业绩：业绩符合预期，EUV 光源突破奠定公司2018-2020年高成长

我们年初对海内外3Q17业绩乐观，但考虑到iphone供应链和库存杂音较多，从6月初开始（见6.12周报）转为谨慎乐观，因此建议耐心等待7月初海外重要公司季报3Q17指引（比A股早3周）。上篇报告我们已深度剖析了高通（QCOM.O）的最新季报和产业情况（7.3），本篇报告我们对ASML（ASML.O）2Q17季报和3Q17指引进行剖析和整理，ASML是全球半导体光刻设备龙头，其业务变化和业绩展望对全球半导体景气度有非常强的参考意义。

ASML 2Q17业绩、3Q17指引符合华尔街预期。

ASML 2Q17营收23.14亿美元，略超出华尔街一直预期0.74%（前一日），毛利率45.00%，高于预期3.49%。公司预计3Q17营收为22亿欧元，服务业务营收为6亿美元，整体毛利率为43%。

公司EUV系统光源获得突破，量产关键技术指标已基本满足，公司2018-2020年EUV出货将成为公司成长主要动力。公司之前出货的EUV机台均为产品验证和良率改善所用，250瓦光源技术突破后，公司将成为唯一供应10nm以下制程量产光刻设备的供应商。公司维持2017年出货12台EUV设备的预计，预计2018将出货24台，2019-2020达到45台/年产能。

ASML业务和行业概览：全球半导体光刻设备制造龙头

ASML主营收入来自于销售系统类产品和提供服务，前者占比约65.9%，后者占比约34.1%。

ASML系统类业务主要分为三大类，即深紫外（DUV）光刻，极紫外（EUV）光刻和整体光刻解决方案。DUV光刻系统由I-Line（365nm）到KrF（248nm）和ArF（193nm）特定波长光源下工作的系统组成。EUV光刻系统则在13.5nm特定波长EUV光源下工作，使得在相较于ArF光刻成本可接受的前提下，生产10nm及以下制程的集成电路。ASML整体光刻解决方案为客户提供安装服务，同时为其提供卓越的支持培训，为客户优化制造流程。因此具体的，系统类业务产品包括ArF Immersion、Metrology & Inspection、I-Line、KrF、ArF Dry和EUV六种产品系统，其中ArF Immersion销售占比最高，达54.4%。

公司2018-2020年销售增长将主要依靠EUV，2Q17季报EUV销售增速抢眼。ASML是全球EUV光刻设备唯一供应商，而EUV光刻系统则是半导体摩尔定律进一步发展至10nm以下的确定路径方案。2018-2020年公司主要的增长点包括：用于7nm和5nm制程的深紫外光（DUV）光刻、极紫外光光刻，以及提供包括计量检测系统在内的整体光刻方案。

其中，DUV/KrF产品进展包括：ASML推出最新浸润式光刻系统TWINSCAN NXT：2000i，应用于客户的7nm和5nm制程节点，可同时用DUV浸润式光刻和EUV系统进行量产，并达到2.5nm的迭对精度。3D NAND客户对于KrF干式光刻系统的需求持续升高，目前公司TWINSCA NXT:860的未出货订单已累积超过20台。TWINSCA NXT：860系统的生产力可达到每天曝光5300片晶圆。

整体光刻优化方案的进展包括：2Q17 ASML开始出货最新的Yield Star 375F量测系统，公司通过收购整合，预计将在2018年出货整合了e-beam工具、量测工具以及光刻系统的整体光刻产品。

EUV极紫外光光刻产品的进展：公司已经成功将250瓦EUV光源整合进NXE：3400B系统中，达成125片/小时晶圆的量产关键指标。值得关注的是，全球只有NXE:3400B能够满足量产7nm的标准。至此，ASML的EUV系统已经成功达成所有计划中的关键效能指标，下一阶段ASML将专注于将生产力提高到145片晶圆/小时。公司认为EUV的产能到2020年可达45台/年，预计2019年需求30台左右，产能可基本覆盖。

服务业务的进展：ASML认为考虑到已安装设备基数的增长，服务业务的收入将稳定增长，但给出单季度的指引较为困难，原因在于客户当期是否可承受设备升级和维护导致的供给下降，一般而言升级和维护至少需要5个星期。公司认为2H17由于客户供给较为进展，因此不太可能大规模宕机进行升级和维护，因此服务将略下降。但从2017年整年看，服务业务公司预计将增20%，并且持续至2018年。

另外，我们认为公司关于以下几点的评论值得特别注意：

1、公司认为2H16-1H17存储器高景气以及高Capex投入的核心原因在于下游data center、3D Nand需求高增。公司认为的确有些Capex涉及EUV，但这部分EUV全用于产品验证、良率改善，真正量产要到2H18，因此大部分Capex投入仍在DUV，亦即产能扩张上。

2、整体而言，公司认为2017年Dram设备收入将增50%，Logic设备收入增15%，主要动力来自于10nm和7nm制程需求；

3、公司认为大陆客户先进制程的设备需求“This might take some time”；

ASML上游供应商和下游客户供应链分析

较依赖ASML的供应商多为日企、美企和欧企。

ASML供应商中，以半导体及设备厂商为主，其中信邦电子、公准精密、光罩与高通业绩关联性最强，ASML的前17大供应商中，ASML对于供应商收入的占比均未达到10%以上，上游供应商的客户相对分散。2017-2020年持续关注信邦电子（3023 TT）、公准精密（3178 TT）、光罩（2338 TT）。

ASML客户主要为Intel、台积电和三大存储IDM。

ASML前3大客户收入占比超过了50%，对ASML营收影响显著，投资ASML建议积极关注Intel、台积电和三星技术研发和Capex指引。