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【头条】三星集团石墨烯专利分析及其对我国相关产业发展的启示

烯碳资讯  · 公众号  ·  · 2017-03-20 15:49

正文


小烯导读


在轰轰烈烈石墨烯革命中,三星集团走在了全球竞争者的前列,它是石墨烯领域全球最大的投资者和专利 申请人。本文以三星集团为研究对象,对其全球专利进行宏观统计、分析,重点针对专利技术构成、研发团队、研发动向进行多角度、多层次的解析,全面反映出三星集团在石墨烯领域的专利布局状况和趋势。在此基础上,为我国石墨烯产业发展提出了几点建议。


一、背景介绍



石墨烯是一种由碳原子构成的单层片状结构的新材料,具有高导电性、高强度和超轻薄等特性,在电子、光学、磁学、生物医学、催化、储能和传感器等领域具有巨大的应用潜力。世界各国纷纷将石墨烯及 其应用技术作为长期战略发展方向,以期在由石墨烯 引发的新一轮产业革命中占据主动和先机。


在这场石墨烯革命中,三星集团无疑走在了全球竞争者的前列,它是石墨烯领域全球最大的投资者和专利 申请人。本文以三星集团为研究对象,对其全球专利进 行宏观统计、分析,重点针对专利技术构成、研发团队、 研发动向进行多角度、多层次的解析,全面反映出三星 集团在石墨烯领域的专利布局状况和趋势。在此基础上, 为我国石墨烯产业发展提出了几点建议。



二、三星集团石墨烯专利申请状况


本文通过国家知识产权局 S 系统中的 DWPI 数据, 用samsung、graphene以及其他相关关键词, 对 2007—2015 年 9 年间三星集团石墨烯领域的专利申 请进行检索,检索数据截止到 2015 年 12 月 31 日,其 中 2014 年、2015 年的专利申请由于公开滞后的原因, 数据不完整。


1. 专利申请的整体情况


三星集团在石墨烯领域共计申请 484 项,其申请 量变化趋势如图 1 所示。2007 年和 2008 年,三星申 请量较小,分别为 18 项和 10 项,并且均来自于三星 电子。从 2009 年开始,申请量进入快速增长期,2011 年达到120项,随后略有下降。由于部分申请尚未公开, 2014 年和 2015 年的申请量较少。但可以预见,在未 来几年中,三星的申请量仍将保持稳步发展的态势。



图 2 是三星集团各子公司申请量分布状况。三星 电子是三星集团最早申请石墨烯相关专利的子公司, 累计申请 264 项,占集团总申请量的 54.5%,成为当 之无愧的“龙头”。此外,三星集团参与石墨烯研发的 子公司数量呈逐年递增的趋势,目前已经达到 11 家, 其中比较活跃的还有三星 Techwin、三星电机、三星 LED、三星显示等,随着具有不同背景和研发方向的 子公司的加入,三星的石墨烯产品也必将越来越丰富, 并带给普通消费者更多惊喜与期待。


2. 专利申请的主要技术构成


三星集团是韩国第一大企业,业务涉及众多领域, 因此,三星的专利构成也极为丰富。图 3 是三星集团在石墨烯各技术分支专利申请总体状况。三星十分重视石墨烯在各个领域的实际应用,共计申请 393 项,占总申请量的 81.2%。具体应用领域包括电子、能源、材料、光电、生物以及化学。 其中,电子领域申请量最大,为 240 项,占比 49.6%。从主要应用领域的申请人排名来看,由于三星各子公司在经营范围和研发方向上的不同,它们的申请领域也各有侧重。例如,三星电子和三星 LED 侧重电子领域,三星 SDI 和三星电机则侧重能源领域。


其次,在制备方法方面,涉及化学气相沉积法(CVD)19 项,光束照射法 5 项,氧化还原法和 SiC外延生长法各 2 项 。由此可见,采用化学气相沉积制备石墨烯是三星的重点研究方向。在最近三年里,三星陆续在柔性显示屏和晶体管领域取得重大突破,而化学气相沉积法制备出的高质量、大面积石墨烯薄膜恰恰满足了上述两个领域对石墨烯材料的要求。 由此可见,三星选择化学气相沉积法是出于重点应用领域的需要。 最后,制备方法和设备是密切联系的。在设备方面,三星共计申请 30 项,18 项涉及化学气相沉积装置。


三、主要研发团队及其研发动向


在一个研发机构相对成熟的大型企业中,真正影 响重点技术研究的往往是一个或多个核心团队。因此, 从研发团队入手,通过聚类分析,掌握并追踪企业核 心技术发展状况是一个不错的选择。 三星集团石墨烯领域的研发团队规模较大,以共 同申请为研究对象,图 4 展示了三星集团前 20 位发明 人之间的合作关系。发明人之间合作数量越多,则表 明他们的研发方向可能相同或相近,属于同一研发团 队。相反,合作数量越少,则表明他们的研发方向存 在差异,不属于同一研发团队。此外,研发团队中个 人申请量最大的发明人则是该研发团队的核心发明人。


经过聚类分析,20 位发明人中有 18 人来自三星, 他们被归入 5 个不同的研发团队。每个团队的重要成 员,隶属子公司以及重点研究方向如表 1 所示。其他 两人 Hong Byung Hee 和 Ahn Jong Hyun 来自与三星有 密切合作关系的成均馆大学。


下面以 CVD 技术为例,介绍各研发团队间是如 何进行技术衔接和相互协作的。三星集团中与 CVD 技术相关的研究团队主要是以 Choi Jae Young 和 Song

Young Il 为首的两大研究团队。其中,以 Choi Jae Young 为首的研究团队侧重于 CVD 方法,以 Song Young Il 为首的研究团队则侧重于 CVD 设备。







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